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價值3.83億美元!Intel拿下全球第二臺High NA EUV光刻機
- 8月6日消息,在近日的財報電話會議上,Intel CEO宣布已成功接收全球第二臺價值3.83億美元的High NA EUV(極紫外光刻機)。High NA EUV光刻機是目前世界上最先進的芯片制造設(shè)備之一,其分辨率達到8納米,能夠顯著提升芯片的晶體管密度和性能,是實現(xiàn)2nm以下先進制程大規(guī)模量產(chǎn)的必備武器。帕特·基辛格表示,第二臺High NA設(shè)備即將進入Intel位于美國俄勒岡州的晶圓廠,預(yù)計將支持公司新一代更強大的計算機芯片的生產(chǎn)。此前,Intel已于去年12月接收了全球首臺High NA EUV光刻
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ASML第二臺High-NA設(shè)備,即將導(dǎo)入英特爾奧勒岡廠
- 英特爾正接收ASML第二臺耗資3.5億歐元(約3.83億美元)的新High NA EUV設(shè)備。根據(jù)英特爾8/1財報電話會議紀錄,CEO Pat Gelsinger表示,英特爾12月開始接收第一臺大型設(shè)備,安裝時間需要數(shù)月,預(yù)計可帶來新一代更強大的電腦英文。Gelsinger在電話中指出,第二臺High NA設(shè)備即將進入在奧勒岡州的廠房。由于英特爾財報會議后股價表現(xiàn)不佳,因此這番話并未引起注意。ASML高階主管7月曾表示,該公司已開始出貨第二臺High NA設(shè)備給一位未具名客戶,今年只記錄第一臺的收入。不過
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臺積電:仍在評估 High NA EUV 光刻機,采用時間未定
- IT之家 7 月 30 日消息,《電子時報》昨日報道稱,臺積電最快在 2028 年推出的 A14P 制程中引入 High NA EUV 光刻技術(shù)。對此,臺積電海外營運資深副總經(jīng)理暨副共同營運長張曉強表示,仍在評估 High NA EUV 應(yīng)用于未來制程節(jié)點的成本效益與可擴展性,目前采用時間未定?!?nbsp;ASML EXE:5000 High NA EUV 光刻機,圖源:ASML上個月,ASML 透露將在 2024 年內(nèi)向臺積電交付首臺 High NA EUV 光刻機,價值達 3.8
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臺積電大舉拉貨EUV光刻機
- 臺積電依然是 EUV 設(shè)備的最大買家。臺積電 2nm 先進制程產(chǎn)能將于 2025 年量產(chǎn),設(shè)備廠正如火如荼交機,尤以先進制程所用之 EUV(極紫外光刻機)至為關(guān)鍵,今明兩年共將交付超過 60 臺 EUV,總投資金額上看超過 4000 億元新臺幣。在產(chǎn)能持續(xù)擴充之下,ASML 2025 年交付數(shù)量增長將超過 3 成,臺廠供應(yīng)鏈沾光,其中家登積極與 ASML 攜手投入下一代 High-NA EUV 研發(fā),另外帆宣、意德士、公準、京鼎及翔名等有望同步受惠。設(shè)備廠商透露,EUV 設(shè)備供應(yīng)吃緊,交期長達 16~20
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ASML或?qū)yper-NA EUV光刻機定價翻倍,讓臺積電、三星和英特爾猶豫不決
- ASML去年末向英特爾交付了業(yè)界首臺High-NA EUV光刻機,業(yè)界準備從EUV邁入High-NA EUV時代。不過ASML已經(jīng)開始對下一代Hyper-NA EUV技術(shù)進行研究,尋找合適的解決方案,計劃在2030年左右提供新一代Hyper-NA EUV光刻機。據(jù)Trendforce報道,Hyper-NA EUV光刻機的價格預(yù)計達到驚人的7.24億美元,甚至可能會更高。目前每臺EUV光刻機的價格約為1.81億美元,High-NA EUV光刻機的價格大概為3.8億美元,是EUV光刻機的兩倍多
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獨擁四大連續(xù)制程設(shè)備 TEL成EUV出貨大贏家
- 國際設(shè)備大廠東京威力科創(chuàng)(TEL)為全球唯一擁有沉積、涂布/顯影、蝕刻、清洗四大連續(xù)制程設(shè)備之公司,是晶圓片進入EUV曝光前重要步驟。TEL宮城總裁神原弘光指出,隨著芯片設(shè)計演進,蝕刻技術(shù)不斷朝著3D化方向演進,垂直堆棧發(fā)展、更有效利用空間,然而堆棧層數(shù)的增加,在成膜次數(shù)跟蝕刻時間、次數(shù)也會隨之增加,所需的機臺數(shù)量同步成長。 EUV大廠擁有近乎100%市占率,TEL在涂布/顯影與之緊密配合,同樣近乎獨占;換言之,只要EUV出貨,TEL亦將同步受惠。TEL更透露,早已在臺設(shè)置研發(fā)中心,近期更會擴增潔凈室規(guī)模
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臺積電EUV大舉拉貨 供應(yīng)鏈集體狂歡
- 臺積電2納米先進制程產(chǎn)能將于2025年量產(chǎn),設(shè)備廠正如火如荼交機,尤以先進制程所用之EUV(極紫外光曝光機)至為關(guān)鍵,今明兩年共將交付超過60臺EUV,總投資金額上看超過4,000億元。在產(chǎn)能持續(xù)擴充之下,ASML2025年交付數(shù)量成長將超過3成,臺廠供應(yīng)鏈沾光,其中家登積極與ASML攜手投入次世代High-NA EUV研發(fā),另外帆宣、意德士、公準、京鼎及翔名等有望同步受惠。 設(shè)備業(yè)者透露,EUV機臺供應(yīng)吃緊,交期長達16至20個月,因此2024年訂單大部分會于后年開始交付;據(jù)法人估計,今年臺積電EUV訂
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可量產(chǎn)0.2nm工藝!ASML公布Hyper NA EUV光刻機:死胡同不遠了
- 6月16日消息,ASML去年底向Intel交付了全球第一臺High NA EUV極紫外光刻機,同時正在研究更強大的Hyper NA EUV光刻機,預(yù)計可將半導(dǎo)體工藝推進到0.2nm左右,也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻機孔徑數(shù)值只有0.33,對應(yīng)產(chǎn)品命名NXE系列,包括已有的3400B/C、3600D、3800E,以及未來的4000F、4200G、4X00。該系列預(yù)計到2025年可以量產(chǎn)2nm,再往后就得加入多重曝光,預(yù)計到2027年能實現(xiàn)1.4nm的量產(chǎn)。High NA光刻機升級到了
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ASML:EUV光刻機已近極限 追趕技術(shù)還是另辟蹊徑?
- ASML首席財務(wù)官達森(Roger Dassen)表示,EUV技術(shù)路線發(fā)展受歐美限制,且光刻機已接近技術(shù)極限,此一技術(shù)路線前景不明。積極尋求突破的中國廠商是持續(xù)投入資源突破現(xiàn)有限制進行技術(shù)跟隨?還是將資源另辟蹊徑尋找新的技術(shù)路徑?將面臨艱難的抉擇。 據(jù)《芯智訊》報導(dǎo),臺積電已經(jīng)訂購了High NA EUV(高數(shù)值孔徑極紫外光)光刻機,ASML與臺積電的商業(yè)談判即將結(jié)束,預(yù)計在第2季度或第3季度開始獲得大量 2nm芯片制造相關(guān)設(shè)備訂單。ASML預(yù)測其設(shè)備的市場需求有望一路走強至2026年,這主要是受益于各國
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臺積電今年將拿到最新款光刻機
- 6月6日消息,據(jù)外媒報道稱,ASML將在今年向臺積電交付旗下最先進的光刻機,單臺造價達3.8億美元。報道中提到,ASML首席財務(wù)官Roger Dassen在最近的一次電話會議上告訴分析師,公司兩大客戶臺積電和英特爾將在今年年底前獲得所謂的高數(shù)值孔徑(高NA)極紫外(EUV)光刻系統(tǒng)。英特爾此前已經(jīng)訂購了最新的高NA EUV設(shè)備,第一臺設(shè)備已于12月底運往俄勒岡州的一家工廠。目前尚不清楚ASML最大的EUV客戶臺積電何時會收到設(shè)備。據(jù)悉,這些機器每臺造價3.5億歐元(3.8億美元),重量相當于兩架空中客車A
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EUV光刻機“忙瘋了”
- 據(jù)市場消息,目前,ASML High NA EUV光刻機僅有兩臺,如此限量版的EUV關(guān)鍵設(shè)備必然無法滿足市場對先進制程芯片的需求,為此ASML布局步伐又邁一步。當?shù)貢r間6月3日,全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造商阿斯麥(ASML)宣布,攜手比利時微電子研究中心(IMEC),在荷蘭費爾德霍芬(Veldhoven)開設(shè)聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室(High NA EUV Lithography Lab),并由雙方共同運營。推動摩爾定律關(guān)鍵因素:High NA EUV技術(shù)據(jù)業(yè)界信息,High NA EUV技術(shù)是
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ASML和IMEC啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室
- 自ASML官網(wǎng)獲悉,6月3日,比利時微電子研究中心(imec)與阿斯麥(ASML)宣布在荷蘭費爾德霍芬(Veldhoven)開設(shè)聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室(High NA EUV Lithography Lab),由ASML和imec共同運營。聲明中稱,經(jīng)過多年的構(gòu)建和集成,該實驗室已準備好為領(lǐng)先的邏輯和存儲芯片制造商以及先進材料和設(shè)備供應(yīng)商提供第一臺原型高數(shù)值孔徑EUV掃描儀(TWINSCAN EXE:5000)以及周圍的處理和計量工具。據(jù)悉,該聯(lián)合實驗室的開放是High-NA EUV大批量生
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