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阿斯麥CEO:不賣EUV給中國(guó)大陸“是政府們的選擇”

- (原標(biāo)題:光刻機(jī)巨頭阿斯麥CEO:不賣EUV給中國(guó)大陸“是政府們的選擇”)【文/觀察者網(wǎng) 呂棟】“這不是我們的選擇,而是政府們(《瓦森納協(xié)定》成員國(guó))的選擇。”日前,荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥CEO溫彼得再次就向中國(guó)大陸出口EUV光刻機(jī)一事解釋道。他今年1月曾表示,中國(guó)不太可能獨(dú)立復(fù)制出(replicate)頂尖的光刻技術(shù),但也別那么絕對(duì),“他們肯定會(huì)嘗試”。觀察者網(wǎng)注意到,由于最先進(jìn)的EUV設(shè)備無(wú)法向中國(guó)大陸出口,溫彼得自2021年以來(lái)曾多次發(fā)聲。2021年4月,他曾喊話美國(guó)政府,對(duì)華出口管制不僅不能阻礙中國(guó)
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ASML:努力向中國(guó)提供一切能夠提供的技術(shù)

- 芯片行業(yè)一直是困擾全球的“卡脖子”領(lǐng)域,而其中核心的光刻機(jī)技術(shù)被幾家公司牢牢的攥在手里。想要在芯片領(lǐng)域有長(zhǎng)足的進(jìn)步,光刻機(jī)這種核心設(shè)備就要有所突破。而之前美國(guó)通過(guò)自身在全球市場(chǎng)的控制能力,通過(guò)修改法案等手段一直將光刻機(jī)設(shè)備和技術(shù)限制對(duì)中國(guó)進(jìn)行輸出。但近期光刻機(jī)頭部企業(yè)ASML則明確表態(tài)將會(huì)盡其所能向中國(guó)市場(chǎng)提供一切他們能夠提供的技術(shù),其中DUV光刻機(jī)將會(huì)不需要認(rèn)可許可即可向中方企業(yè)提供。ASML光刻機(jī)除此之外,ASML表示在當(dāng)前法律框架之下,他們除了EUV光刻機(jī)無(wú)法向中方企業(yè)提供,其他產(chǎn)品都可以正常發(fā)售。
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拆解報(bào)告:HYPER JUICE 100W 3C1A氮化鎵快充充電器HJ417

- 海外知名充電配件品牌HYPER JUICE近期在indiegogo上眾籌了一款全新的100W快充充電器。這款產(chǎn)品基于納微GaNFast氮化鎵功率芯片,采用堆疊設(shè)計(jì)思路,不僅支持自帶可折疊的插腳,而且還集成了一個(gè)AC插口,在使用時(shí),不會(huì)占用兩孔插座,并支持最多16款充電器堆疊使用?! 』氐匠潆姳旧硪彩穷H有亮點(diǎn),配備了3C1A四個(gè)輸出接口,可同時(shí)滿足四臺(tái)電子設(shè)備的充電需求;在單口輸出時(shí),C口支持盲插輸出100W。同時(shí)借助氮化鎵技術(shù)的優(yōu)勢(shì),實(shí)現(xiàn)了小巧的外形尺寸,出門攜帶比較方便。 關(guān)于這款產(chǎn)品的性能,充電
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單臺(tái)1.5億美元 ASML制造新一代EUV光刻機(jī)

- 據(jù)《連線》雜志報(bào)道,在美國(guó)康涅狄格州郊區(qū)的一間潔凈室中,ASML的工程師們正在為一臺(tái)單臺(tái)造價(jià)1.5億美元的新機(jī)器制造關(guān)鍵部件,該部件是新一代EUV系統(tǒng)的組成部分,會(huì)采用一些新技術(shù)來(lái)最大限度地減少其使用的光波長(zhǎng),包括縮小芯片的特征尺寸并提升性能。ASML的工程師正在裝配系統(tǒng)組件(圖片來(lái)自ASML) 要知道,當(dāng)前的EUV機(jī)器已經(jīng)像一輛公共汽車那么大,包含10萬(wàn)個(gè)零部件和兩公里長(zhǎng)的電纜,運(yùn)輸這些組件需要40個(gè)貨運(yùn)集裝箱、三架貨機(jī)和20輛卡車,能夠買得起這種設(shè)備的公
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阿斯麥的新一代EUV光刻機(jī):造價(jià)1.5億美元 公共汽車大小

- 9月2日消息,荷蘭阿斯麥的新一代極紫外(EUV)光刻機(jī)每臺(tái)有公共汽車大小,造價(jià)1.5億美元。其前所未有的精度可以讓芯片上的元件尺寸在未來(lái)幾年繼續(xù)縮小?! ≡谖挥诿绹?guó)康涅狄格州郊區(qū)的一間大型潔凈室里,工程師們已經(jīng)開始為一臺(tái)機(jī)器制造關(guān)鍵部件,這臺(tái)機(jī)器有望讓芯片制造行業(yè)沿著摩爾定律至少再走上10年時(shí)間?! ∵@臺(tái)極紫外光刻機(jī)是由荷蘭阿斯麥公司制造的。阿斯麥于2017年推出世界上第一臺(tái)量產(chǎn)的極紫外光刻機(jī),在芯片制造領(lǐng)域發(fā)揮著至關(guān)重要的作用,已經(jīng)被用于制造iPhone手機(jī)芯片以及人工智能處理器等最先進(jìn)的芯片。阿斯
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美光確認(rèn)EUV工藝DRAM 2024年量產(chǎn):1γ節(jié)點(diǎn)導(dǎo)入
- 三星、SK海力士及美光確定未來(lái)會(huì)用EUV工藝,其中美光的EUV工藝內(nèi)存在2024年量產(chǎn)。芯研所8月21日消息,CPU、GPU為代表的邏輯工藝制程進(jìn)入7nm之后,EUV光刻工藝不可或缺。目前內(nèi)存停留在10nm工藝級(jí)別。三星、SK海力士及美光也確定未來(lái)會(huì)用EUV工藝,其中美光的EUV工藝內(nèi)存在2024年量產(chǎn)。美光CEO Sanjay Mehrotra日前在采訪中確認(rèn),美光已將EUV技術(shù)納入DRAM技術(shù)藍(lán)圖,將由10nm世代中的1γ(gamma)工藝節(jié)點(diǎn)開始導(dǎo)入。美光EUV工藝DRAM將會(huì)先在臺(tái)中A3廠生產(chǎn),預(yù)
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EUV技術(shù)開啟DRAM市場(chǎng)新賽程

- SK海力士公司在7月12日表示,本月已經(jīng)開始生產(chǎn)10納米8Gb LPDDR4移動(dòng)DRAM —— 他們將在該內(nèi)存芯片生產(chǎn)中應(yīng)用極紫外(EUV)工藝,這是SK海力士首次在其DRAM生產(chǎn)中應(yīng)用EUV。根據(jù)SK海力士的說(shuō)法,比起前一代規(guī)格的產(chǎn)品,第四代在一片晶圓上產(chǎn)出的DRAM數(shù)量增加了約25%,成本競(jìng)爭(zhēng)力很高。新的芯片將在今年下半年開始供應(yīng)給智能手機(jī)制造商,并且還將在2022年初開始生產(chǎn)的DDR5芯片中應(yīng)用10納米EUV。世界第三大DRAM制造商SK海力士發(fā)布聲明,正式啟用EUV光刻機(jī)閃存內(nèi)存芯片,批量生產(chǎn)采用
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為什么ASML加速來(lái)華?
- 芯片雖小,制造難度卻很大,而且芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備光刻機(jī)的缺乏,更是成為限制我國(guó)高端芯片的一大難題。尤其是近兩年華為事件的不斷發(fā)酵,讓我國(guó)半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域的問(wèn)題越加明顯,那就是在芯片制造的設(shè)備上,我國(guó)依然受制于人的問(wèn)題相當(dāng)嚴(yán)重。為什么ASML加速來(lái)華?北大教授的發(fā)聲很現(xiàn)實(shí),國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)突破在即雖然華為研發(fā)出基于5nm工藝的麒麟9000芯片,令一眾對(duì)手刮目相看,但是沒(méi)有臺(tái)積電為其代工生產(chǎn),沒(méi)有屬于中國(guó)自己的高端光刻機(jī),就等同于一張“紙老虎”。作為中國(guó)大陸最先進(jìn)的芯片制造企業(yè)中芯國(guó)際,因?yàn)闆](méi)有高端光刻機(jī),至今仍然沒(méi)
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三星有意在美國(guó)建5nm EUV芯片廠 巨額投資
- 據(jù)韓媒援引業(yè)內(nèi)人士消息,三星電子已決定在美國(guó)得克薩斯州奧斯丁設(shè)立EUV半導(dǎo)體工廠,以滿足日益增長(zhǎng)的小型芯片需求和美國(guó)重振半導(dǎo)體計(jì)劃。該工廠將采用5nm制程,計(jì)劃于今年Q3開工,2024年投產(chǎn),預(yù)計(jì)耗資180億美元,同時(shí)也是三星電子首次在韓國(guó)之外設(shè)立EUV產(chǎn)線。去年,臺(tái)積電去宣布將在美國(guó)建設(shè)芯片工廠,建成之后將采用5nm工藝為相關(guān)的客戶代工芯片,目標(biāo)是2024年投產(chǎn)。最新消息稱,臺(tái)積電管理層目前正在討論,他們?cè)诿绹?guó)的下一座芯片工廠,是否采用更先進(jìn)的3nm制程工藝,為相關(guān)的客戶代工芯片。
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阿斯麥已生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī) 70%賣給了臺(tái)積電

- 本周一,外媒援引韓國(guó)產(chǎn)業(yè)通商資源部一份有關(guān)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略文件報(bào)道稱,光刻機(jī)制造商阿斯麥將投資2.12億美元,在京畿道華城建設(shè)極紫外光刻機(jī)再制造廠和培訓(xùn)中心。在報(bào)道阿斯麥將在華城建設(shè)極紫外光刻機(jī)再制造廠和培訓(xùn)中心時(shí),外媒還提到,雖然三星電子、SK海力士已引進(jìn)了阿斯麥生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī),但他們獲得的數(shù)量同臺(tái)積電相比,有不小的差距。 外媒在報(bào)道中提到,阿斯麥目前已生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī),70%是賣給了臺(tái)積電,留給其他廠商的就只有30%?! “⑺果?zhǔn)悄壳叭蛭ㄒ荒苤圃鞓O紫外光刻機(jī)的廠商,他們已推出了TWIN
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不用EUV光刻機(jī)就搞定類7nm工藝?中芯國(guó)際回應(yīng)
- 做為國(guó)內(nèi)最大也是最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造公司,中芯國(guó)際在先進(jìn)工藝上的進(jìn)展引人關(guān)注,其中7nm及以下節(jié)點(diǎn)非常重要,這還牽涉到EUV光刻機(jī)。 日前有股民在互動(dòng)平臺(tái)上詢問(wèn),稱有報(bào)道指出中芯國(guó)際不用EUV光刻就攻克了類7nm工藝,要求中芯國(guó)際澄清。 對(duì)此,中芯國(guó)際表示,公司不針對(duì)傳言進(jìn)行評(píng)論?! 闹行緡?guó)際官網(wǎng)的介紹來(lái)看,該公司提到的最先進(jìn)工藝還是14nm,接下來(lái)的是N+1、N+2工藝,但沒(méi)有指明具體的工藝節(jié)點(diǎn)?! ≈行緡?guó)際聯(lián)合CEO趙海軍曾表示,經(jīng)過(guò)三年的積累,F(xiàn)inFET工藝已經(jīng)取得了不錯(cuò)的成績(jī),N+1已經(jīng)
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里程碑!IBM宣布造出全球首顆2nm EUV芯片

- 藍(lán)色巨人出手就是王炸?! ?月6日消息,IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導(dǎo)體芯片?! 『诵闹笜?biāo)方面,IBM稱該2nm芯片的晶體管密度(MTr/mm2,每平方毫米多少百萬(wàn)顆晶體管)為333.33,幾乎是臺(tái)積電5nm的兩倍,也比外界預(yù)估臺(tái)積電3nm工藝的292.21 MTr/mm2要高?! ?nm晶圓近照 換言之,在150平方毫米也就是指甲蓋大小面積內(nèi),就能容納500億顆晶體管?! ⊥瑫r(shí),IBM表示,在同樣的電力消耗下,其性能比當(dāng)前7nm高出45%,輸出同樣性能則減少75%的功耗。 實(shí)際上,I
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ASML澄清與中芯國(guó)際交易EUV與DUV光刻機(jī)一字之差大不同

- 近日,中芯國(guó)際與ASML達(dá)成12億美元交易購(gòu)買晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對(duì)雙方此次合作,有媒體報(bào)道稱“除了EUV光刻機(jī),中芯國(guó)際幾乎可以買到其他所有型號(hào)的光刻機(jī)?!钡沁@一說(shuō)法很快被ASML官方澄清,該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)?! 】赡芎芏嗑W(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈,這繞來(lái)繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個(gè)小科普,EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢?EUV也就是“極深紫外線”的意思,而DUV是“深紫外線”的意思,通過(guò)字面就知道EUV看上去就比DUV高級(jí),實(shí)際上也是如此?! SML澄清與中
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中國(guó)芯片業(yè)為什么搞不過(guò)一家荷蘭公司
- 荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財(cái)報(bào),這位世界光刻機(jī)霸主去年共出貨了31臺(tái)EUV光刻機(jī),中國(guó)大陸由于種種原因沒(méi)有買到其中任何一臺(tái)?! ∮腥苏f(shuō)阿斯麥?zhǔn)俏ㄒ灰粋€(gè)能讓臺(tái)積電折腰的公司,這一點(diǎn)也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機(jī),是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟,沒(méi)有刀,再好的師傅也雕不出來(lái)花?! ∪绻腥魏螐S商的光刻機(jī)設(shè)備需要維修,阿斯麥的工程師從登上飛機(jī)那一刻,廠商就要付給他們以小時(shí)計(jì)的美金?! ≡?jīng),某上市公司的光刻機(jī)出問(wèn)題后,排了3年隊(duì)才等到阿斯麥的工程師。結(jié)果阿斯麥的
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歡迎您創(chuàng)建該詞條,闡述對(duì)hyper-na euv的理解,并與今后在此搜索hyper-na euv的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
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