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尼康NA超過1的液浸設(shè)備半導(dǎo)體商正式采用

  •  尼康日前正式宣布,2006年1月已向大型半導(dǎo)體廠商供應(yīng)用于55nm工藝(hp55)芯片制造、開口數(shù)(NA)為1.07的液浸ArF曝光設(shè)備“NSR-S609B”。這是全球首次供應(yīng)NA超過1的液浸ArF曝光設(shè)備。    這家大型半導(dǎo)體廠商的名字,尼康沒有公布,估計是過去在技術(shù)方面與之開展合作的東芝。    作為全折射型液浸曝光設(shè)備,NSR-S609B具有全球最大的NA,配合偏光照明技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)很高的分辨率。對于液浸產(chǎn)生的缺陷和重合不穩(wěn)定性的問題,據(jù)稱利用名為“Local-fill(局部
  • 關(guān)鍵字: NA  尼康  嵌入式系統(tǒng)  
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