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今年轉(zhuǎn)向4nm EUV工藝 英特爾退役11代酷睿移動(dòng)版:10nm再見了

- 6月7日消息,英特爾今年下半年將會(huì)推出14代酷睿Meteor Lake處理器,首發(fā)Intel 4工藝,這是該公司首款EUV工藝,而且還會(huì)用上全新3D封裝工藝,處理器變化非常大。在迎接4nm EUV的同時(shí),英特爾也在加快清理遺產(chǎn),2020年發(fā)布的11代酷睿Tiger Lake處理器現(xiàn)在也進(jìn)入了退役階段,這一批主要是中低端的酷睿i7/i5/i3及賽揚(yáng)系列,包括U系列及H35系列,最高端的就是酷睿i7-1165G7。與之一同退役的還有配套的500系芯片組,包括RM590E,HM570E和QM580E系列。這些產(chǎn)
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消息稱三星半導(dǎo)體將減少 10% 晶圓投片量,EUV 產(chǎn)線成重災(zāi)區(qū)

- IT之家 5 月 26 日消息,據(jù)韓媒 Aju News 報(bào)道,三星計(jì)劃自 2023 年第三季度開始,對(duì)韓國(guó)華城園區(qū) S3 工廠減少至少 10% 的晶圓投片量?!?圖源:三星報(bào)道稱,三星半導(dǎo)體將在第三季度開始,對(duì)華城園區(qū) S3 工廠進(jìn)行減產(chǎn)作業(yè)。S3 工廠是三星半導(dǎo)體于 2018 年建成投產(chǎn)的 12 英寸生產(chǎn)線,目前主要生產(chǎn) 10nm 至 7nm 產(chǎn)品,也是三星半導(dǎo)體 EUV 先進(jìn)工藝的主力生產(chǎn)廠之一,三星為其部署了多臺(tái) ASML 的 NXE3400 EUV 光刻機(jī)。Aju News
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2025搞定2nm工藝 日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻機(jī)
- 5月17日消息,原本已經(jīng)落后的日本半導(dǎo)體制造行業(yè)近年來加快了追趕速度,去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus,計(jì)劃2025年試產(chǎn)2nm工藝,而且很快就籌備了EUV光刻機(jī)。日本當(dāng)前的邏輯工藝還在28nm以上,但是Rapidus公司選擇跳過中間的工藝,直接搞2nm工藝,而5nm以下的工藝都離不開EUV光刻機(jī),不論研發(fā)還是制造都要先買設(shè)備。Rapidus社長(zhǎng)小池淳義日前在采訪中透露,他們已經(jīng)完成了1臺(tái)EUV光刻機(jī)的籌備,不過具體的型號(hào)及進(jìn)度沒有說明,不確定是ASML的哪款EUV光刻機(jī),何時(shí)安裝、
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柔弱的雕刻大師——EUV光刻機(jī)
- 在如今這個(gè)信息時(shí)代,如果說我們的世界是由芯片堆積起來的高樓大廈,那么芯片制造,則是這里面高樓的地基,而談到芯片制造各位讀者自然就能想到光刻機(jī),沒錯(cuò),作為人類商業(yè)化機(jī)器的工程奇跡,光刻機(jī)自然是量產(chǎn)高性能芯片的必要設(shè)備。特別是隨著這幾年中美貿(mào)易戰(zhàn)的加劇,光刻機(jī)這種大部分可能一生都不會(huì)見到的機(jī)器一下子成了婦孺皆知的存在,那么光刻機(jī)是如何工作的呢?它是如何在方寸之間的芯片上雕刻出上百億的晶體管的呢?本篇文章就著重給大家介紹一下目前最先進(jìn),也是我國(guó)被“卡脖子”的EUV(極紫外)光刻機(jī)。? ? &
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ASML預(yù)測(cè),未來九個(gè)月對(duì)中國(guó)的銷量將大幅回升

- ASML 財(cái)務(wù)總監(jiān) Roger Daasen 表示,今年未來幾個(gè)季度中國(guó)大陸的銷量將顯著回升。
- 關(guān)鍵字: ASML 光刻機(jī) EUV 極紫外光刻機(jī)
搭載恩智浦S32G3的廣汽埃安Hyper GT亮相2023上海車展

- 日前,廣汽埃安全新高端純電豪華品牌系列車型Hyper GT在2023上海車展正式亮相。仿佛穿越未來世界而來,Hyper GT擁有的不僅是科幻旋翼的炫酷金屬外觀,更具有智能硬核內(nèi)在:新車基于廣汽AEP 3.0平臺(tái)打造,采用全新一代星靈電子電氣架構(gòu),更值得一提的是,Hyper GT也是全球首款采用恩智浦最新一代S32G3汽車處理器作為其中央計(jì)算單元處理器的車型。 廣汽埃安Hyper GT亮相2023上海車展(圖片來源:廣汽埃安) 星靈架構(gòu)是廣汽推出的全新一代 “車云一體化集中計(jì)算式電子電氣
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EUV機(jī)臺(tái)被砍單? 業(yè)界:不太可能
- 終端市場(chǎng)需求低迷,近期市場(chǎng)傳出臺(tái)積電將宣布調(diào)降今年資本支出,恐沖擊艾司摩爾(ASML)及應(yīng)用材料等設(shè)備廠出貨,甚至傳出艾司摩爾極紫外光(EUV)機(jī)臺(tái)被砍單消息,不過業(yè)界普遍認(rèn)為可能性不高,原因在于EUV機(jī)臺(tái)交期長(zhǎng)達(dá)12~15個(gè)月,且中長(zhǎng)期來看EUV產(chǎn)能仍供不應(yīng)求。 ASML預(yù)計(jì)19日舉行法人說明會(huì),可望針對(duì)EUV曝光機(jī)已接訂單(backlog)變化提出說明。半導(dǎo)體生產(chǎn)鏈仍在進(jìn)行庫存調(diào)整,市場(chǎng)傳出臺(tái)積電可能在法人說明會(huì)中下修全年資本支出,加上內(nèi)存廠放慢擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃,將導(dǎo)致EUV曝光機(jī)訂單減少或延后,受此消息影響
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國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的「行軍難」
- 3 月 8 日,ASML 發(fā)表聲明回應(yīng)荷蘭政府即將出臺(tái)的半導(dǎo)體設(shè)備出口管制措施。ASML 稱,這些新的出口管制措施側(cè)重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù),包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng),ASML 將需要申請(qǐng)出口許可證才能發(fā)運(yùn)最先進(jìn)的浸潤(rùn)式 DUV 系統(tǒng)。ASML 強(qiáng)調(diào),這些管制措施需要一定時(shí)間才能付諸立法并生效。3 月 9 日,外交部例行記者會(huì)上,有媒體提問,據(jù)報(bào)道,荷蘭外貿(mào)與發(fā)展合作大臣施賴納馬赫爾向荷議會(huì)致函稱,出于國(guó)家安全考慮,荷蘭將于今年夏天之前對(duì)其芯片出口實(shí)施限制性措施。中方對(duì)此有何評(píng)論?外交部發(fā)言人毛
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ASML堵了EUV光刻機(jī)的路,但國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)有3大新方向

- 眾所周知,當(dāng)前全球只有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī),甚至可以說很長(zhǎng)一段時(shí)間內(nèi),全球也只有ASML能夠生產(chǎn)光刻機(jī),不會(huì)有第二家。原因在于ASML把EUV光刻機(jī)的路堵住了,這條路別人是走不通的。ASML與全球眾多的供應(yīng)鏈,形成了捆綁關(guān)系,像蔡司等與ASML形成了利益共同體,EUV光刻機(jī)中,蔡司等廠商至關(guān)重要,掌握核心科技,缺少這些供應(yīng)鏈,其它廠商不可能制造出EUV光刻機(jī)。所以,目前眾多的其它光刻機(jī)企業(yè),并不打算走EUV光刻機(jī)這條路,在另尋它路。同樣的,國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)基本上也走不通EUV這條路,只能另尋他路,而
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美國(guó)發(fā)起的對(duì)華聯(lián)合出口限制留下漏洞?
- 據(jù)報(bào)道,荷蘭和日本已與美國(guó)達(dá)成協(xié)議,共同限制向中國(guó)出口芯片制造工具,這將進(jìn)一步削弱中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展,因?yàn)槌讼拗浦袊?guó)制造商使用 EUV 光刻機(jī)外,進(jìn)一步限制其使用浸沒式 DUV 光刻機(jī)。但在美國(guó)對(duì)中國(guó)發(fā)起的嚴(yán)格出口限制中,中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)是否可以利用任何關(guān)鍵漏洞來緩沖沖擊?這似乎是一個(gè)值得仔細(xì)研究的問題。近年來,美國(guó)加大了對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的打壓力度。不僅設(shè)計(jì)了各種策略和行動(dòng),還動(dòng)員了盟友的參與。在 2022 年 10 月對(duì)向中國(guó)出口先進(jìn)芯片制造工具和技術(shù)實(shí)施全面出口限制后,美國(guó)急于讓擁有 ASML
- 關(guān)鍵字: EUV DUV 深紫外光刻機(jī)
EUV光刻機(jī)開始“落幕”了

- 說到光刻機(jī)大家難免會(huì)想到三個(gè)廠商,荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機(jī)就是制造芯片的核心裝備?,F(xiàn)如今光刻機(jī)領(lǐng)域的核心地位就是荷蘭的ASML,他與臺(tái)積電合作,共同突破了沉浸式DUV光刻機(jī),也正因?yàn)榇藙?dòng)作,才奠定了ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域的核心地位。后續(xù)ASML又推出了更加高端的EUV光刻機(jī),而且還是獨(dú)家壟斷生產(chǎn)。這就進(jìn)一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著科技的不斷發(fā)展,市場(chǎng)就要越來越追求高性能以及高要求,ASLM造成的長(zhǎng)時(shí)間壟斷,導(dǎo)致其他同行沒有辦法發(fā)展。在他自身無法突破的前提下,他的路是越走越窄。在全球范
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三星首次采用韓國(guó)本土EUV光刻膠 打破日企壟斷

- 據(jù)報(bào)道,三星首次引入韓國(guó)本土公司東進(jìn)世美肯(Dongjin Semichem)研發(fā)的EUV光刻膠(EUV PR)進(jìn)入其量產(chǎn)線,這也是三星進(jìn)行光刻膠本土量產(chǎn)的首次嘗試。在2019年經(jīng)歷與日本的光刻膠等關(guān)鍵原料的供應(yīng)風(fēng)波之后,三星就在嘗試將關(guān)鍵原料的供應(yīng)本土化,經(jīng)過三年的努力,韓國(guó)實(shí)現(xiàn)了光刻膠本地化生產(chǎn)。在日本限制出口、三星嘗試重構(gòu)EUV光刻膠的供應(yīng)鏈之后,東進(jìn)世美肯就已開始研發(fā)EUV光刻膠,并在去年通過了三星的可靠性測(cè)試,隨后不到一年就被應(yīng)用于三星的大規(guī)模生產(chǎn)線。不過,EUV光刻膠可用于3-50道程序,目前
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