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佳能新發(fā)售KrF半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a”Grade10升級(jí)包

  • 佳能將于2022年8月初發(fā)售KrF ※1半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a”的“Grade10”產(chǎn)能升級(jí)配件包（以下簡稱“Grade10”升級(jí)包）。KrF半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a” 自發(fā)售至今，已經(jīng)在生產(chǎn)存儲(chǔ)器和邏輯電路的大型半導(dǎo)體器件制造廠商中收獲良好口碑，此次發(fā)布的“Grade10”升級(jí)包將助力該設(shè)備在300mm晶圓規(guī)格基礎(chǔ)上，以每小時(shí)高達(dá)300片※2晶圓的加工能力實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體光刻行業(yè)內(nèi)的更高水平※3。           
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ASML 分享 High-NA EUV 光刻機(jī)最新進(jìn)展：目標(biāo) 2024-2025 年進(jìn)廠

  • 5 月 29 日消息，半導(dǎo)體行業(yè)花了十多年的時(shí)間來準(zhǔn)備極紫外線 (EUV) 光刻技術(shù)，而新的高數(shù)值孔徑 EUV 光刻（High-NA EUV）技術(shù)將會(huì)比這更快。目前，最先進(jìn)的芯片是 4/5 納米級(jí)工藝，下半年三星和臺(tái)積電還能量產(chǎn) 3nm 技術(shù)，而對(duì)于使用 ASML EUV 光刻技術(shù)的 Twinscan NXE:3400C 及類似系統(tǒng)來說，它們大都具有 0.33 NA（數(shù)值孔徑）的光學(xué)器件，可提供 13 nm 分辨率。目前來看，這種分辨率尺寸對(duì)于 7 nm / 6 nm 節(jié)點(diǎn) (36 nm ~ 38 nm)
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業(yè)績超預(yù)期：日本佳能光刻機(jī)銷售火爆

  • 光刻機(jī)是半導(dǎo)體芯片制造中的核心設(shè)備，日本佳能公司也有光刻機(jī)，現(xiàn)在賣得也不錯(cuò)，推動(dòng)業(yè)績大漲。很多人都知道佳能主業(yè)是相機(jī)，不過這幾年全球數(shù)碼相機(jī)業(yè)務(wù)持續(xù)下滑，佳能也難免受到?jīng)_擊，最近幾年增長的反而是其他業(yè)務(wù)，該公司即將發(fā)布2022財(cái)年（2021年4月到今年3月），預(yù)計(jì)全年利潤可達(dá)2500億日元，約合19億美元或者126億人民幣，比1月份公布的指引高出50億日元，同比大漲20%。推動(dòng)佳能業(yè)績大漲的業(yè)務(wù)主要是安全攝像頭以及光刻機(jī)，而且隨著半導(dǎo)體設(shè)備投資的增加，佳能的光刻機(jī)業(yè)務(wù)還會(huì)持續(xù)增長。從佳能官網(wǎng)上可以查到，該
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ASML公司開撕美國？光源技術(shù)不是根源，不交付EUV光刻機(jī)另有原因

  • ASML公司雖然是荷蘭企業(yè)，但不少網(wǎng)友都把ASML公司“美”化了，這里的“美”指的是美國。在華為遭遇到芯片封鎖之前，中國半導(dǎo)體企業(yè)就曾向ASML公司支付了定金，采購了一臺(tái)EUV光刻機(jī)。然而，ASML公司卻遲遲沒有發(fā)貨，這也引起了網(wǎng)友的各種猜疑。眾所周知，全世界只有ASML公司能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，而一部EUV光刻機(jī)上就有超過10w的精密零件，各方面的技術(shù)也是來自全世界各國的頂尖技術(shù)。所以ASML公司的光刻機(jī)一直是供不應(yīng)求。但明明已經(jīng)收了定金，10億一部的EUV光刻機(jī)，ASML公司為何有生意不做呢？大部分的
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俄羅斯投資6.7億盧布，開發(fā)新型的光刻機(jī)，性能或?qū)⒊紼UV光刻機(jī)

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  • 關(guān)鍵字： EUV  光刻機(jī)  俄羅斯  疊加芯片  

投資5000多萬 俄羅斯計(jì)劃研發(fā)全新EUV光刻機(jī)：ASML都沒有

  • 光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備之一，EUV光刻機(jī)全球也只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn)，但它的技術(shù)限制也很多，俄羅斯計(jì)劃開發(fā)全新的EUV光刻機(jī)，使用的是X射線技術(shù)，不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片。　　光刻機(jī)的架構(gòu)及技術(shù)很復(fù)雜，不過決定光刻機(jī)分辨率的主要因素就是三點(diǎn)，分別是常數(shù)K、光源波長及物鏡的數(shù)值孔徑，波長越短，分辨率就越高，現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)使用的是極紫外光EUV，波長13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先進(jìn)工藝工藝?！　《砹_斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)現(xiàn)在就接下了貿(mào)工部的6.7億盧布資金(約合51
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光刻機(jī)“電老虎” 中芯國際一年耗電29億度：不到臺(tái)積電零頭

  • 芯片制造是公認(rèn)的高科技，但是這也是個(gè)非常消耗電力及水力的行業(yè)，其中的關(guān)鍵設(shè)備光刻機(jī)就是名副其實(shí)的電老虎，EUV光刻機(jī)一天就能耗電3萬度以上，導(dǎo)致晶圓生產(chǎn)中電費(fèi)都是高成本的存在。那國內(nèi)最大的晶圓制造企業(yè)中芯國際到底有多耗電呢？該公司日前也發(fā)布了企業(yè)責(zé)任報(bào)告，公布了2021年度的能耗情況，具體如下：2021年，中芯國際能源消耗總量為2,887.69百萬千瓦時(shí)，能源消耗強(qiáng)度為12.77千瓦時(shí) /8 吋晶圓當(dāng)量-光罩?jǐn)?shù)，與 2020年基本相當(dāng)。簡單來說，中芯國際去年的總能耗大概是28.9億度電，其中直接的電力消耗
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佳能將于2023年上半年發(fā)售3D半導(dǎo)體光刻機(jī)，曝光面積是現(xiàn)在的4倍

  • 4 月 1 日消息，據(jù)日經(jīng)中文網(wǎng)報(bào)道，佳能正在開發(fā)用于半導(dǎo)體 3D 技術(shù)的光刻機(jī)。佳能光刻機(jī)新品最早有望于 2023 年上半年上市。曝光面積擴(kuò)大至現(xiàn)有產(chǎn)品的約 4 倍，可支持 AI 使用的大型半導(dǎo)體的生產(chǎn)。3D 技術(shù)可以通過堆疊多個(gè)半導(dǎo)體芯片使其緊密連接來提高性能的方式。據(jù)介紹，在放置芯片的板狀零部件上，以很高的密度形成以電氣方式連接各個(gè)芯片的多層微細(xì)布線，佳能就正在開發(fā)用于形成這種布線的新型光刻機(jī)，過在原基礎(chǔ)上改進(jìn)透鏡和鏡臺(tái)等光學(xué)零部件，來提高曝光精度以及布線密度。據(jù)稱，普通光刻機(jī)的分辨率為十幾微米，但
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攻克“光源中的光源”，中國有機(jī)會(huì)

  • 當(dāng)前，芯片問題廣受關(guān)注，而半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠——以極紫外（EUV）光刻機(jī)為代表的高端光刻機(jī)，則是我國集成電路（IC）產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展必須邁過的“如鐵雄關(guān)”。如何在短期內(nèi)加快自主生產(chǎn)高端光刻機(jī)的步伐，打破國外的技術(shù)封鎖和市場壟斷？筆者認(rèn)為，應(yīng)找準(zhǔn)關(guān)鍵技術(shù)，攻克核心設(shè)備，躋身上游產(chǎn)業(yè)。認(rèn)清光刻關(guān)鍵技術(shù)對(duì)于光刻機(jī)，憑什么美國可以左右荷蘭阿斯麥公司（ASML）EUV光刻機(jī)的出海國家？ASML又為什么“愿意”聽從美國的“擺布”？一方面，美國在ASML早期研發(fā)階段給予大力扶持，幫助其獲取最新的研究成果；作為繼續(xù)扶持
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總投資155億 國產(chǎn)CMOS傳感器工廠又迎來一臺(tái)ASML先進(jìn)光刻機(jī)搬入

  • 日前國產(chǎn)芯片廠商格科微宣布成功實(shí)現(xiàn)整套ASML光刻機(jī)中的關(guān)鍵設(shè)備——先進(jìn)ArF光刻機(jī)的搬入。據(jù)格科微表示，目前，格科微潔凈室已按計(jì)劃分階段順利驗(yàn)收，相關(guān)廠務(wù)系統(tǒng)配備進(jìn)展順利，共有六十一臺(tái)設(shè)備已經(jīng)搬入。未來，外延、蝕刻、薄膜、清洗等相關(guān)設(shè)備仍會(huì)陸續(xù)搬入。格科微表示，ArF光刻機(jī)的成功引入，是格科微“12英寸CIS集成電路特色工藝研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”建設(shè)的關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)。依托自有工廠即格科半導(dǎo)體的先進(jìn)制程，格科微將進(jìn)一步加快先進(jìn)CIS工藝和高階專利像素的研發(fā)速度，并在自有工廠實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)驗(yàn)證，從而極大縮短高端產(chǎn)品從研
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光刻機(jī)巨頭阿斯麥 ASML 將于新加坡擴(kuò)建新產(chǎn)線

  • 3 月 29 日消息，光刻機(jī)巨頭阿斯麥 ASML 在新加坡一間工廠的開幕式上宣布，將在該工廠興建第二座制造車間，預(yù)計(jì)將于 2023 年初投產(chǎn)。擴(kuò)建后的工廠將讓該公司在新加坡的產(chǎn)能增加 3 倍，全球產(chǎn)能倍增。ASML 是世界領(lǐng)先的科技公司之一，全球半導(dǎo)體價(jià)值鏈的主要參與者。這里設(shè)計(jì)的技術(shù)和機(jī)器有助于在新加坡、韓國或美國生產(chǎn)芯片。世界上最大的芯片制造商們都需要這種設(shè)備。在生產(chǎn)處理器芯片的過程中，EUV 光刻機(jī)最昂貴。目前全世界只有阿斯麥（ASML）能制造出 EUV 光刻機(jī)。在過去的十年時(shí)間里，阿斯麥總共售出大
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光刻機(jī)傳來新消息，臺(tái)積電不得不接受現(xiàn)實(shí)

  • 臺(tái)積電正在加快芯片產(chǎn)能，不管是成熟工藝還是高端芯片，臺(tái)積電都具備強(qiáng)勁的制造實(shí)力。但臺(tái)積電并沒有就此止步，仍積極開展美國，日本的新建工廠計(jì)劃。因此臺(tái)積電在未來還會(huì)有更多的產(chǎn)業(yè)鏈采購需求，可是光刻機(jī)傳來新消息，ASML表態(tài)產(chǎn)能供應(yīng)不足。ASML為何會(huì)出現(xiàn)產(chǎn)能不足的情況呢？光刻機(jī)供應(yīng)緊張，對(duì)臺(tái)積電影響幾何呢？關(guān)于光刻機(jī)供貨，ASML發(fā)出警告ASML生產(chǎn)的光刻機(jī)遍布世界各地，交付到各個(gè)芯片制造商手中，或者提供給一些廠商進(jìn)行生產(chǎn)研究。根據(jù)光刻機(jī)的需求不同，覆蓋領(lǐng)域也是不一樣的，從芯片制造產(chǎn)業(yè)到光刻膠材料生產(chǎn)，以及封
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ASML發(fā)出產(chǎn)能預(yù)警 芯片制造商面臨先進(jìn)光刻機(jī)供應(yīng)短缺的瓶頸

  • 受近年芯片供應(yīng)持續(xù)短缺的影響，我們已經(jīng)看到了位于世界各地的多個(gè)晶圓廠的建設(shè)公告。但是在投入實(shí)際生產(chǎn)之前，這一切都受到荷蘭阿斯麥（ASML）的光刻機(jī)供應(yīng)的限制。ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 剛剛發(fā)出警告，稱該公司難以滿足客戶的產(chǎn)品需求。據(jù)悉，ASML 專注于生產(chǎn)適用于半導(dǎo)體行業(yè)的各種類型的光刻機(jī)，且在該領(lǐng)域處于世界領(lǐng)先地位，客戶中包括了英特爾、臺(tái)積電、三星等芯片巨頭。然而最新消息是，至少在未來幾年內(nèi)，ASML 都無法順利交付所有訂單。即使今年預(yù)期的光刻機(jī)出貨量高于去年，但明年的增勢并未放
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ASML的大股東究竟是誰？真的是英特爾、三星、臺(tái)積電？

  • 眾所周知，ASML是全球最牛的光刻機(jī)廠商，能夠用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻機(jī)，只有ASML能夠生產(chǎn)。而ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)，一般也是優(yōu)先供應(yīng)給intel、臺(tái)積電、三星這三家廠商，其它的廠商要等這三家廠商買剩了后，才可能會(huì)輪到。為什么ASML會(huì)優(yōu)先賣給這三家廠商呢？第一是這三家廠商是大客戶，必須要優(yōu)特，第二則是很多人說，這三家廠商是ASML的股東，所以當(dāng)然要先照顧股東。那么問題就來了，ASML的股東究竟是誰，英特爾、三星、臺(tái)積電真的是ASML的股東么？關(guān)于ASML的由來，可以追溯到1984年，
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格科微臨港12吋CIS項(xiàng)目迅速推進(jìn)，ASML先進(jìn)ArF光刻機(jī)正式搬入

  • 3月24日上午10:18，在嚴(yán)格遵守防疫政策并做好疫情防控措施的情況下，格科微順利舉辦ASML先進(jìn)ArF光刻機(jī)搬入儀式。格科半導(dǎo)體SVP李朝勇、各部門總監(jiān)、光刻團(tuán)隊(duì)及廠務(wù)團(tuán)隊(duì)出席儀式，共同見證了公司這一里程碑式的重要時(shí)刻。目前，格科微有限公司“12英寸CIS集成電路特色工藝研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”推進(jìn)迅速。廠房和潔凈車間建設(shè)已經(jīng)基本完成，并于2022年2月16日開始主設(shè)備的搬入安裝。在3月24日，格科半導(dǎo)體再次迎來了建廠重要標(biāo)志性時(shí)刻，整套生產(chǎn)線中的最關(guān)鍵設(shè)備——ASML先進(jìn)ArF光刻機(jī)成功搬入。ArF光刻機(jī)的
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光刻機(jī)介紹

國外半導(dǎo)體設(shè)備 我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺(tái)灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī),涂膠臺(tái), 金絲球焊機(jī),電子束蒸發(fā)臺(tái)。 濺射臺(tái)及探針臺(tái)等各種設(shè)備,世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸 精密劃片機(jī)，300毫米清洗機(jī),。 如您感興趣請登錄以下網(wǎng)站或Email: 網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看詳細(xì) ]

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