光刻機 文章 進入光刻機技術(shù)社區(qū)
佳能尼康，是怎么被ASML甩開的
- 10 月，光刻機大廠佳能（Canon）公司通過新聞稿宣布，其已經(jīng)開始銷售基于「納米印刷」（Nanoprinted lithography）技術(shù)的芯片生產(chǎn)設(shè)備 FPA-1200NZ2C。佳能表示，該設(shè)備采用不同于復雜光刻技術(shù)的方案，可以制造 5nm 芯片。消息一出，不少人發(fā)現(xiàn)這種設(shè)備已經(jīng)達到了 EUV 光刻機的水平，甚至將顛覆行業(yè)巨頭 ASML。自從 ASML 成功取代尼康佳能，成為高端光刻機的唯一王者之后，這還是第一次傳出這么震撼的消息。日本的光刻機，從稱霸到被甩開，經(jīng)歷了什么？來自上個世紀的光鮮上世紀末
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非光刻方案，佳能開始銷售 5nm 芯片生產(chǎn)設(shè)備
- IT之家 10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司近日發(fā)布新聞稿，開始銷售芯片生產(chǎn)設(shè)備 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于復雜光刻技術(shù)的方案，可以制造 5 nm 芯片。佳能表示這套生產(chǎn)設(shè)備的工作原理和行業(yè)領(lǐng)導者 ASML 不同，并非光刻，而更類似于印刷，沒有利用圖像投影的原理將集成電路的微觀結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到硅晶圓上。這套設(shè)備可以應(yīng)用于最小 14 平方毫米的硅晶圓，從而可以生產(chǎn)相當于 5nm 工藝的芯片。佳能表示會繼續(xù)改進和發(fā)展這套系統(tǒng)，未來有望用于生產(chǎn) 2nm 芯片。IT之家注：納米印刷（
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俄羅斯正在開發(fā)可替代光刻機的芯片制造工具
- 近期，俄羅斯國際新聞通訊社報道，俄羅斯在開發(fā)可以替代光刻機的芯片制造工具。據(jù)悉，圣彼得堡理工大學的研究人員開發(fā)出了一種“光刻復合體”，可用于蝕刻生產(chǎn)無掩模芯片，這將有助于俄羅斯在微電子領(lǐng)域技術(shù)領(lǐng)域獲得主動權(quán)。該設(shè)備綜合體包括用于無掩模納米光刻和等離子體化學蝕刻的設(shè)備，其中一種工具的成本為500萬盧布（約36.7萬元人民幣），另一種工具的成本未知。開發(fā)人員介紹，傳統(tǒng)光刻技術(shù)需要使用專門的掩膜板來獲取圖像。該裝置由專業(yè)軟件控制，可實現(xiàn)完全自動化，隨后的另外一臺設(shè)備可直接用于形成納米結(jié)構(gòu)，但也可以制作硅膜，例如
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ASML再次改口！國家迅速回應(yīng)，外媒：荷蘭將光刻機事情鬧大了
- 近年來，光刻機行業(yè)發(fā)展迅猛，成為半導體產(chǎn)業(yè)的重要一環(huán)。ASML公司作為全球光刻機行業(yè)的龍頭企業(yè)，其對華出口光刻機的態(tài)度一直備受關(guān)注。然而，最近ASML公司的態(tài)度再次發(fā)生變化，引發(fā)了國家的迅速回應(yīng)。荷蘭的決定被外媒認為將光刻機事情鬧大了。本文將分別從ASML公司態(tài)度的變化、荷蘭及日本的對華出口管控、ASML公司的技術(shù)依賴和市場地位、我國光刻機技術(shù)的突破、ASML公司對華出口限制的影響以及中企自主掌握核心技術(shù)等方面進行分析。ASML公司對華出口光刻機態(tài)度的變化ASML公司在對華出口光刻機的態(tài)度上一直搖擺不定。
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光刻機發(fā)展要另辟蹊徑？
- 最近，光刻機話題異?；馃?，似乎全世界都在關(guān)注中國本土相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。要想制造出一臺可商用的高端光刻機（可制造 7nm 及更先進制程芯片），是一項復雜的工程，因為高端光刻機所需要的精密零部件太多了，每一種的技術(shù)含量都非常高，而且，要想把這些零部件組合成一臺可用的機器，需要長期的技術(shù)和實踐積累。光刻這個概念，有廣義和狹義之分。在狹義層面，就是用光去「復印」集成電路圖案，這也是我們常說的光學光刻技術(shù)，特別是紫外線光刻技術(shù)（DUV 和 EUV）。在廣義層面，光刻泛指各種集成電路「復印」和「印刷」技術(shù)，這些技術(shù)中，
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國產(chǎn)光刻機工廠落地雄安？中國電子院澄清：這是北京高能同步輻射光源
- 近期，一則消息在各大視頻平臺廣為傳播，稱清華大學EUV項目把ASML的光刻機巨大化，實現(xiàn)了光刻機國產(chǎn)化，并表示這個項目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地。對此，中國電子工程設(shè)計院有限公司（下稱中國電子院）9月18日發(fā)聲，稱該項目并非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機工廠，而是北京高能同步輻射光源項目（HEPS）。北京高能同步輻射光源項目坐落于北京懷柔雁棲湖畔，是國家“十三五”重大科技基礎(chǔ)設(shè)施，它是我國第一臺高能量同步輻射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項目早在2019年就開始建設(shè)、將于2025年底投入使用。北京高能同步
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光刻機之爭掀起第三波浪潮
- 當下，光刻機在半導體行業(yè)的地位前所未有的重要，而且已經(jīng)突破了技術(shù)和產(chǎn)業(yè)范疇，引發(fā)了新一波光刻機之爭。從歷史發(fā)展情況來看，光刻機（這里主要指用于制造集成電路前道工序的光刻機）的發(fā)展和應(yīng)用經(jīng)歷了很多波折，總體來看，有兩個值得關(guān)注的時期，一個是 ASML 依靠浸沒式技術(shù)，異軍突起，并將原本的行業(yè)兩強甩在身后，這是技術(shù)之戰(zhàn)，另一個是 EUV 商用化之后，先進制程（從 16nm 開始）爭奪戰(zhàn)打響，臺積電、三星電子和英特爾這三家為了爭奪產(chǎn)量有限的 EUV 而展開競爭，這是商業(yè)之爭。從目前的情況來看，第三波光刻機之爭正
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尼康推出新一代步進式光刻機“NSR-2205iL1”，2024 年夏季上市
- IT之家 9 月 6 日消息，尼康宣布推出新一代具有 5 倍縮小投影倍率的 i-line 步進式光刻機“NSR-2205iL1”，預計 2024 年夏季上市。據(jù)稱，這種光刻機具有縮小投影放大系統(tǒng)，支持功率半導體、通信半導體和 MEMS 等多種產(chǎn)品，并且與尼康現(xiàn)有的 i-line 曝光設(shè)備高度兼容；NSR-2205iL1 代表了尼康 5 倍步進技術(shù)在過去二十五年中的最重大的更新，將可直接響應(yīng)客戶對這些在芯片制造中發(fā)揮重要作用的光刻系統(tǒng)的需求。尼康表示，與現(xiàn)有的尼康 i-line 曝光系統(tǒng)相比，NS
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日本與荷蘭簽署半導體合作備忘錄：采購 ASML 光刻機，加強技術(shù)合作
- IT之家 6 月 26 日消息，據(jù)日本經(jīng)濟新聞報道，日本經(jīng)產(chǎn)省與荷蘭經(jīng)濟事務(wù)和氣候政策部在東京簽署了半導體合作備忘錄。二者將共同推進欲量產(chǎn) 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機巨頭 ASML 的合作，并聯(lián)手進行技術(shù)開發(fā)?！?圖源：ASML報道稱，ASML 量產(chǎn)尖端半導體工藝所需的 EUV 光刻機。Rapidus 計劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補貼，采購 EUV 光刻設(shè)備。IT之家注意到，EUV 光刻機在全球范圍內(nèi)較為短缺，面臨著臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出，如果 Ra
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開始1-γ芯片制程開發(fā)？美光日本廠擬引入ASML光刻機
- 知情人士稱，美國美光科技公司準備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進芯片制造設(shè)備EUV（極紫外光刻機），以制造下一代存儲芯片（DRAM）。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元（15億美元）的補貼。日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實了美光在日的進一步投資。他指出，日本政府正與臺積電討論擴大在日投資的可能性，美光也有意在廣島開始大規(guī)模生產(chǎn)先進存儲芯片。今日（周四），日本首相岸田文雄會見了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團，而有關(guān)芯片的詳細計劃可能在之后陸續(xù)宣布。自201
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2025搞定2nm工藝 日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻機
- 5月17日消息，原本已經(jīng)落后的日本半導體制造行業(yè)近年來加快了追趕速度，去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus，計劃2025年試產(chǎn)2nm工藝，而且很快就籌備了EUV光刻機。日本當前的邏輯工藝還在28nm以上，但是Rapidus公司選擇跳過中間的工藝，直接搞2nm工藝，而5nm以下的工藝都離不開EUV光刻機，不論研發(fā)還是制造都要先買設(shè)備。Rapidus社長小池淳義日前在采訪中透露，他們已經(jīng)完成了1臺EUV光刻機的籌備，不過具體的型號及進度沒有說明，不確定是ASML的哪款EUV光刻機，何時安裝、
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ASML預測，未來九個月對中國的銷量將大幅回升
- ASML 財務(wù)總監(jiān) Roger Daasen 表示，今年未來幾個季度中國大陸的銷量將顯著回升。
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ASML：2023年光刻機市場需求將超出產(chǎn)能
- 受消費電子市場低迷影響，半導體產(chǎn)業(yè)邁入下行周期，上游半導體設(shè)備也因客戶去庫存、調(diào)整訂單受到影響。不過，光刻機龍頭企業(yè)ASML發(fā)布的最新財報顯示，盡管光刻機業(yè)務(wù)遭遇一定挑戰(zhàn)，但未來產(chǎn)業(yè)前景仍舊向好。01EUV/DUV收入超預期增長，半導體需求結(jié)構(gòu)性分化4月19日，ASML發(fā)布2023年第一季度財報，該季ASML實現(xiàn)了凈銷售額67億歐元，毛利率為50.6%，凈利潤達20億歐元。今年第一季度的新增訂單金額為38億歐元，其中16億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2023年第二季度的凈銷售額約為65億~70億歐
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