光刻機 文章 進入光刻機技術(shù)社區(qū)
為中國光刻機提供服務!ASML:對北京本地維修中心升級和擴建
- 3月7日消息,ASML公開表示,會繼續(xù)在中國市場提供維修服務。之前ASML表示在北京新建維修中心,而他們也是調(diào)整了這個說法?!拔覀儾皇且?025年新建一個北京本地維修中心,而是今年會在原有基礎上進行升級、擴建。”之前曾有消息稱,在ASML某些在中國提供服務和備件的許可證于去年年底到期后,現(xiàn)在的荷蘭首相很可能不再為其續(xù)期,而相關(guān)決定是在美國施加一定壓力后做出的。目前的情況是,ASML的銷售額中,約有一半來自中國(最新的財報顯示,中國大陸2024年為ASML貢獻了101.95億歐元收入,約合人民幣797.7
- 關(guān)鍵字: ASML 光刻機
世界最先進EUV光刻機開工!Intel已產(chǎn)3萬塊晶圓 14A工藝就用它
- 2月26日消息,ASML Twinscan EXE:5000 EUV是當今世界上最先進的EUV極紫外光刻機,支持High-NA也就是高孔徑,Intel去年搶先拿下了第一臺,目前已經(jīng)在俄勒岡州Fab D1晶圓廠安裝部署了兩臺,正在緊張地研究測試中。Intel資深首席工程師Steve Carson透露,迄今為止,兩臺EUV光刻機已經(jīng)生產(chǎn)了3萬塊晶圓,當然不算很多,但別忘了這只是測試和研究使用的,并非商用量產(chǎn),足以證明Intel對于新光刻機是多么的重視。Steve Carson還強調(diào),完成同樣的工作,新款光刻機
- 關(guān)鍵字: ASML 光刻機 英特爾
英特爾兩臺High NA EUV光刻機已投產(chǎn),單季完成3萬片晶圓
- 據(jù)路透社2月24日報道,英特爾資深首席工程師Steve Carson在美國在加利福尼亞州圣何塞舉行的一場會議上表示,英特爾已經(jīng)安裝的兩臺ASML High NA EUV光刻機正在其晶圓廠生產(chǎn),早期數(shù)據(jù)表明它們的可靠性大約是上一代光刻機的兩倍。Steve Carson指出,新的High NA EUV光刻機能以更少曝光次數(shù)完成與早期設備相同的工作,從而節(jié)省時間和成本。英特爾工廠的早期結(jié)果顯示,High NA EUV 機器只需要一次曝光和“個位數(shù)”的處理步驟,即可完成早期機器需要三次曝光和約40個處
- 關(guān)鍵字: 英特爾 High NA EUV 光刻機 晶圓
荷蘭要擺脫美國管制!ASML想怎么賣給中國廠商光刻機就怎么賣
- 1月24日消息,據(jù)國內(nèi)媒體報道稱,荷蘭首相斯霍夫日前接受采訪時表示,在荷蘭光刻機巨頭阿斯麥對華出口產(chǎn)品的問題上,荷蘭政府希望自行決定實施什么樣的政策?!懊绹莸钦拖拗瓢⑺果湆θA出口先進芯片制造設備向荷蘭政府施加了相當大的壓力,預計特朗普政府將延續(xù)這一策略?!拔艺J為,我們自行決定實施什么樣的政策非常重要。”按照斯霍夫日的預想,接下來ASML的光刻機怎么賣給中國廠商,賣多少都應該是荷蘭說了算。去年第三季度數(shù)據(jù)顯示,阿斯麥在中國市場銷售額達到27.9億歐元,幾乎是其總銷售額的一半。這家企業(yè)預計,今年中國市場
- 關(guān)鍵字: 阿斯麥 ASML 光刻機
ASML CEO:美國造半導體光有錢不夠
- 12月25日消息,據(jù)媒體報道,全球光刻機巨頭阿斯麥ASML富凱(Christophe Fouquet)近期接受荷蘭媒體訪問時,談到半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。至于美國是否低估半導體技術(shù)的疑問,富凱指出,不僅美國,所有人都低估了打造成功半導體廠的要素,“需要的不光是金錢,還必須投資研發(fā),持續(xù)學習與嘗試,即使初期屢屢失敗,因此需要長年的努力”他認為在半導體產(chǎn)業(yè),來自中國臺灣的臺積電是全球最成功的企業(yè)之一,對于臺積電規(guī)模龐大且全球依賴臺積電芯片的現(xiàn)況,富凱直言,若產(chǎn)業(yè)內(nèi)僅剩少數(shù)大廠,反倒能推動創(chuàng)新。他表示三星電子將會好轉(zhuǎn)
- 關(guān)鍵字: ASML 光刻機
日本首臺ASML EUV光刻機將運抵,用于Rapidus晶圓廠試產(chǎn)
- 據(jù)日媒報道,日本半導體代工企業(yè)Rapidus購入的第一臺ASML EUV光刻機將于2024年12月中旬抵達北海道新千歲機場,這也將成為日本全國首臺EUV光刻設備。據(jù)Rapidus高管此前透露,該光刻機是較早期的0.33 NA型號,而非目前全球總量不足10臺的0.55 NA(High NA)款。按Rapidus此前的規(guī)劃,該公司計劃于2025年4月啟動先進制程原型線,該產(chǎn)線將擁有包括EUV光刻機在內(nèi)的共計200余臺設備。根據(jù)千歲市當?shù)卣恼f法,Rapidus 的 IIM-1 晶圓廠截至上月底已完成63%的
- 關(guān)鍵字: 日本 Rapidus 光刻機 ASML
臺積電稱2025年如期量產(chǎn)2nm芯片
- 臺積電公開稱,高雄晶圓廠興建工程按照計劃進行,并且進展良好,2nm將如期于2025年量產(chǎn)。此前有消息稱,高雄廠第一座2納米廠將于11月26日舉行進機典禮,并自12月1日展開裝機。ASML也已經(jīng)向臺積電交付了NAEUV光刻機,該光刻機是生產(chǎn)制造2nm及以下工藝芯片的最佳設備。臺積電明年量產(chǎn)2nm芯片,還是在高雄工廠,這說明魏哲家說的沒錯,臺積電根留臺灣,最先進的技術(shù),也留在了臺灣省。芯片規(guī)則修改后,美明確想要臺積電最先進的芯片技術(shù),還要求更多芯片在本土制造。臺積電就加速在美建廠,連續(xù)投資超650億美元,建設
- 關(guān)鍵字: 臺積電 2nm芯片 ASML NAEUV 光刻機 封裝
圖說光刻機的4大核心技術(shù)
- 7nm LPP EUV實際產(chǎn)品中EUV和ArFi的對比1. 實際的光刻機簡要系統(tǒng)2. 7LPP是什么意思?臺積電的"7LPP"中"LPP"代表"Low Power Plus",即"低功耗增強版"。7LPP是臺積電7納米工藝的一個變種,主要特點是在保持高性能的同時,進一步優(yōu)化了功耗表現(xiàn)。7LPP工藝通過改進晶體管設計和制程技術(shù),實現(xiàn)了比前代7納米工藝更低的功耗和更高的晶體管密度。具體來說,臺積電的7LPP工藝相較于10納米工藝,
- 關(guān)鍵字: 光刻機
業(yè)績暴雷!ASML股價繼續(xù)大跌:想賣先進光刻機給中國廠商 但不被允許
- 10月17日消息,由于業(yè)績暴雷,這導致光刻機龍頭ASML股價暴跌,而兩天時間股價已跌超20%。據(jù)官方公布的數(shù)據(jù)看,阿斯麥(ASML)今年第三季度接到的訂單大幅減少,總訂單金額約為26億歐元,不到上一季度近56億歐元的一半。消費者新聞與商業(yè)頻道當天在報道中表示,由于美國和荷蘭相關(guān)出口限制措施,阿斯麥在其中國市場的增長前景引發(fā)投資者擔憂。阿斯麥此前一個季度財報數(shù)據(jù)顯示,這家企業(yè)49%的銷售額來自中國市場。另外,投資人士分析報道,美國主導的對華出口限制導致阿斯麥來自中國的訂單有所減少。之前ASML曾表示,也希望
- 關(guān)鍵字: ASML 光刻機
俄羅斯計劃開發(fā)本土光刻機等芯片制造工具
- 據(jù)外媒報道,近日,俄羅斯政府已撥款超過2400億盧布(約合人民幣175億元)支持國產(chǎn)半導體制造所需設備、CAD工具及原材料研發(fā),目標是到2030年實現(xiàn)對于國外約70%的半導體設備和材料的國產(chǎn)替代。該計劃已經(jīng)啟動了41個研發(fā)項目,并計劃在未來幾年內(nèi)再啟動43個新項目,共計110個研發(fā)項目。這些項目將覆蓋從180nm到28nm的微電子、微波電子、光子學和電力電子等多個技術(shù)領(lǐng)域,為俄羅斯微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定堅實基礎。據(jù)悉,該計劃由俄羅斯工業(yè)部、貿(mào)易部、俄羅斯國際科學技術(shù)中心 (ISTC)MIET 電子工程部制定
- 關(guān)鍵字: 俄羅斯 光刻機
關(guān)于我們 -
廣告服務 -
企業(yè)會員服務 -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
