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ASML遭臺積電大規(guī)?？硢危瑥娬{7nm高端DUV光刻機仍可出口中國

  • 據(jù)臺系設備廠商透露ASML近期由于客戶大砍資本支出、縮減訂單，最重要的是大客戶臺積電也大砍逾4成EUV設備訂單及延后拉貨時間，2024全年業(yè)績將明顯承壓。根據(jù)ASML的財報顯示，今年一季度的凈銷售額為67.46億歐元，較去年同期的35.34億歐元大幅增加，接近翻番，較上一季度的64.3億歐元也有增加；凈利潤為19.56億歐元，較去年同期的6.95億歐元大幅增加，較上一季度的18.17億歐元也有增加。雖然凈銷售及利潤同比環(huán)比均有增加，但ASML在財報中也披露了不利的消息，其一季度的凈訂單只有37.52億歐元
  • 關鍵字： ASML  臺積電  7nm  DUV  光刻機  出口  中國  

光刻機龍頭ASML全球總裁來中國了！

  • 3月28日，商務部部長王文濤會見荷蘭阿斯麥公司（ASML）全球總裁溫寧克。商務部官網消息，3月23日-28日，王文濤相繼會見了高通、蘋果、寶馬等超10家外企高管。王文濤強調，中國堅定不移推進高水平開放，愿為包括阿斯麥公司（ASML）在內的跨國公司來華發(fā)展創(chuàng)造良好營商環(huán)境，并提供高效服務。希望阿斯麥堅定對華貿易投資合作信心，為中荷經貿合作作出積極貢獻，并共同維護全球半導體產業(yè)鏈供應鏈穩(wěn)定。雙方還就阿斯麥在華發(fā)展等議題進行了交流。證券時報·e公司記者留意到，上述會面距離3月8日荷蘭政府發(fā)布有關即將出臺的半導體
  • 關鍵字： 阿斯麥  ASML  光刻機  

(2023.3.20)半導體周要聞－莫大康

  • 半導體周要聞2023.3.13-2023.3.171. 任正非：華為三年完成了13000型號器件的替代開發(fā)近日，華為公司在深圳坂田總部舉辦“難題揭榜”火花獎頒獎典禮，為在解題揭榜中做出突出貢獻的獲獎人員代表頒獎，華為總裁任正非發(fā)表了講話，部分參與座談的大學發(fā)布了座談紀要。任正非表示，在美國制裁華為這三年期間，華為完成 13000 + 型號器件的替代開發(fā)、4000 + 電路板的反復換板開發(fā)等，直到現(xiàn)在電路板才穩(wěn)定下來，因為有了國產的零部件供應。任正非表示，華為現(xiàn)在還屬于困難時期，但在前進的道路上并沒有停步。
  • 關鍵字： 莫大康  半導體  華為  光刻機  NAND  

(2023.3.20)半導體周要聞-莫大康

  • 半導體一周要聞2023.3.13-2023.3.171. 任正非：華為三年完成了13000型號器件的替代開發(fā)近日，華為公司在深圳坂田總部舉辦“難題揭榜”火花獎頒獎典禮，為在解題揭榜中做出突出貢獻的獲獎人員代表頒獎，華為總裁任正非發(fā)表了講話，部分參與座談的大學發(fā)布了座談紀要。任正非表示，在美國制裁華為這三年期間，華為完成 13000 + 型號器件的替代開發(fā)、4000 + 電路板的反復換板開發(fā)等，直到現(xiàn)在電路板才穩(wěn)定下來，因為有了國產的零部件供應。任正非表示，華為現(xiàn)在還屬于困難時期，但在前進的道路上并沒有停步
  • 關鍵字： 半導體  莫大康  華為  NAND  光刻機  

納米壓印光刻，能讓國產繞過 ASML 嗎

  • 自從國產替代概念興起，很少關注半導體行業(yè)的人都對光刻機有所耳聞。目前，全世界最先進的芯片，幾乎都繞不開 ASML（阿斯麥）的 DUV（深紫外）和 EUV（極紫外）光刻機，但它又貴又難造，除了全力研發(fā)光刻機，國產有沒有其它的路可以走？事實上，光刻技術本身存在多種路線，離產業(yè)最近的，當屬納米壓印光刻（Nano-Imprint Lithography，簡稱 NIL）。日本最寄望于納米壓印光刻技術，并試圖靠它再次逆襲，日經新聞網也稱，對比 EUV 光刻工藝，使用納米壓印光刻工藝制造芯片，能夠降低將近四成制造成本和
  • 關鍵字： 光刻機  

國產光刻機的「行軍難」

  • 3 月 8 日，ASML 發(fā)表聲明回應荷蘭政府即將出臺的半導體設備出口管制措施。ASML 稱，這些新的出口管制措施側重于先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統(tǒng)，ASML 將需要申請出口許可證才能發(fā)運最先進的浸潤式 DUV 系統(tǒng)。ASML 強調，這些管制措施需要一定時間才能付諸立法并生效。3 月 9 日，外交部例行記者會上，有媒體提問，據(jù)報道，荷蘭外貿與發(fā)展合作大臣施賴納馬赫爾向荷議會致函稱，出于國家安全考慮，荷蘭將于今年夏天之前對其芯片出口實施限制性措施。中方對此有何評論？外交部發(fā)言人毛
  • 關鍵字： 光刻機  EUV  DUV  

佳能發(fā)布半導體光刻機新品 FPA-5550iX，可用于全畫幅 CMOS 制造等

  • IT之家 3 月 13 日消息，佳能于今日發(fā)售了面向前道工序的半導體光刻機新產品 —— i 線步進式光刻機“FPA-5550iX”，該產品能夠同時實現(xiàn) 0.5μm（微米）高解像力與 50×50mm 大視場曝光。據(jù)介紹，新產品“FPA-5550iX”能夠同時實現(xiàn) 50×50mm 大視場及 0.5μm 高解像力曝光，在不斷趨向高精尖化的全畫幅 CMOS 傳感器制造領域中，使得單次曝光下的高解像力成像成為可能。同時，通過充分利用高解像力與大視場的優(yōu)勢，“FPA-5550iX”也可應用于頭戴式
  • 關鍵字： 佳能  光刻機  

ASML堵了EUV光刻機的路，但國產光刻機有3大新方向

  • 眾所周知，當前全球只有ASML一家能夠生產EUV光刻機，甚至可以說很長一段時間內，全球也只有ASML能夠生產光刻機，不會有第二家。原因在于ASML把EUV光刻機的路堵住了，這條路別人是走不通的。ASML與全球眾多的供應鏈，形成了捆綁關系，像蔡司等與ASML形成了利益共同體，EUV光刻機中，蔡司等廠商至關重要，掌握核心科技，缺少這些供應鏈，其它廠商不可能制造出EUV光刻機。所以，目前眾多的其它光刻機企業(yè)，并不打算走EUV光刻機這條路，在另尋它路。同樣的，國產光刻機基本上也走不通EUV這條路，只能另尋他路，而
  • 關鍵字： ASML  EUV  光刻機  

預計出貨國內超100臺光刻機，美國急不急？

  • 日前，ASML又正式官宣，2023年營收預計增長25%，預計國內市場營收將會穩(wěn)定在22億歐元。數(shù)據(jù)顯示，一臺DUV光刻機的售價大約在2000萬美元，22億歐元大約可以購買超100臺DUV光刻機，這意味著ASML預計今年向國內出貨超100臺DUV光刻機。不管如此，ASML宣布到2025年，DUV光刻機產能將會達到600臺，EUV光刻機產能達到90臺，這意味著未來一段時間內，DUV光刻機仍是主力出貨設備。對此，就有外媒表示美國急不急？首先，光刻機是生產制造芯片的必要設備，也是美掌握為數(shù)不多的卡脖子設備，一旦光
  • 關鍵字： DUV  光刻機  ASML  

佳能推出晶圓測量機新品 MS-001：比光刻機精度更高，可提高生產效率

  • IT之家 2 月 21 日消息，在邏輯、存儲器、CMOS 傳感器等尖端半導體領域，制造工藝日趨復雜，半導體元器件制造廠商為了制造出高精度的半導體元器件，需要提高套刻的精度，因而曝光前要測量的對準測量點也越來越多。如果在半導體光刻機中對數(shù)量眾多的測量點進行對準測量的話，測量本身會非常耗時，進而就會降低半導體光刻機的生產效率。為此，半導體制造領域引進了晶圓測量機，將半導體光刻機的對準測量功能分離出來，以此來確保生產的高精度和效率。2 月 21 日，佳能推出了半導體制造用晶圓測量機“MS-001”，該
  • 關鍵字： 佳能  光刻機  

淺析中美芯片博弈——美國加碼對華為禁令，ASML DUV光刻機對華出口或有變

  • 2019年，無論從那個角度來說，都是最好的一年。在那一年的智能手機消費市場中，手機品牌競爭激烈，紛紛拿出了不少產品力很強的產品，三星、華為、蘋果分別位列全球前三。這一年，是手機市場巔峰，也是華為最強盛的時期，這一年，華為全年智能手機出貨量高達2.4億臺，超越蘋果，緊逼三星；這一年，華為的營收高達8588億人民幣，其中智能手機為主的消費者業(yè)務貢獻了4673億人民幣，占到了一半以上的營收比例，是華為最大的營收來源，賺錢能力強。可也就是這一年，美國開始了對華貿易戰(zhàn)，開始了對于華為的全面打壓，首先，谷歌禁止了華為
  • 關鍵字： 華為  芯片  光刻機  ASML  

光刻機龍頭ASML公布2022全年財報佳績，預計2023年凈銷售額同比增長超25%

  • 當?shù)貢r間，2023年1月25日，荷蘭光刻機龍頭ASML發(fā)布了2022年第四季度和全年業(yè)績。2022年第四季度的凈銷售額為64億歐元，達到了預期目標區(qū)間中位，毛利率為51.5%，高于預期。同時，毛利率還受到去年ASML柏林工廠火災導致的額外升級和保險賠償影響。2022年全年ASML總凈銷售額為212億歐元，毛利率為50.5%，凈利潤為56億歐元。另外，2022年底，ASML未交付訂單創(chuàng)下歷史新高，達404億歐元，該年總共銷售317臺新光刻機，較前一年增長31臺，此外還出貨了28臺二手光刻機。展望未來，ASM
  • 關鍵字： 光刻機  ASML  

光刻機關鍵原料氖氣價格暴漲20倍 中企出手后：降下來了

  • 芯片制造離不開光刻機，數(shù)據(jù)顯示，全球晶圓制造材料中的第一大耗材是硅片，第二大就是電子特氣。以光刻為例，需要的電子特氣就包括氖氣、氬氣、氪氣、氙氣等幾種稀有氣體。這是因為光刻氣體是光刻機產生激光的光源，難以取代。其中氖氣主要用于深紫外光刻領域，服務1x nm到180nm芯片的加工。因為烏克蘭占全球氖氣供應比例高達70%，所以去年一度，氖氣的價格飆升了20倍。不過來自TheElec的報道稱，氖氣的價格已經明顯下跌，這主要是因為中國、韓國等供應商的加入。
  • 關鍵字： 光刻機  電子特氣  降價  

EUV光刻機開始“落幕”了

  • 說到光刻機大家難免會想到三個廠商，荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機就是制造芯片的核心裝備?，F(xiàn)如今光刻機領域的核心地位就是荷蘭的ASML，他與臺積電合作，共同突破了沉浸式DUV光刻機，也正因為此動作，才奠定了ASML在光刻機領域的核心地位。后續(xù)ASML又推出了更加高端的EUV光刻機，而且還是獨家壟斷生產。這就進一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著科技的不斷發(fā)展，市場就要越來越追求高性能以及高要求，ASLM造成的長時間壟斷，導致其他同行沒有辦法發(fā)展。在他自身無法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
  • 關鍵字： 光刻機  ASML  DUV  EUV  

三星擬新設至少10臺EUV光刻機：展露要當世界第一的野心

  • 最新消息顯示，盡管全球經濟將放緩，但三星仍計劃擴大DRAM與晶圓代工的晶圓產能，明年在其P3晶圓廠新設至少10臺極紫外光刻設備（EUV），用于生產最新的12nm級內存芯片，而三星目前僅有40臺EUV光刻機。
  • 關鍵字： 三星  EUV  光刻機  
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