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EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 光刻機(jī)

刷屏的“國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)”是真牛還是吹牛？

  • 拋開(kāi)唯恐天下不亂的非專業(yè)、有偏差的報(bào)道，也排除可能光電所有意或無(wú)意的誤導(dǎo)，也許我們?cè)谖磥?lái)很長(zhǎng)一段時(shí)間內(nèi)都無(wú)法打破ASML的壟斷，但是也需冷靜看待成果，為實(shí)質(zhì)進(jìn)步鼓掌。既不吹牛夸大，也不習(xí)慣偏見(jiàn)，更無(wú)需妄自菲薄。
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點(diǎn)亮中國(guó)“芯”，這件專利會(huì)是國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的錦鯉嗎？

  • 中美貿(mào)易大戰(zhàn)把當(dāng)今最先進(jìn)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)推上了風(fēng)口浪尖上，整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈上，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體芯片的產(chǎn)業(yè)發(fā)展就卡在IC制造這一塊上了。
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AMSL的光刻機(jī)如何能賣上億美元？

  • 在晶圓加工設(shè)備中，光刻機(jī)所占的投資比高達(dá)30%，同時(shí)一臺(tái)AMSL的EUV光刻機(jī)售價(jià)上億美元，當(dāng)我國(guó)企業(yè)有足夠能力參與到與國(guó)際巨頭競(jìng)爭(zhēng)之時(shí)，即是芯片技術(shù)迎頭趕上的那一天。
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ASML看好中國(guó)市場(chǎng) 最先進(jìn)光刻機(jī)將入華

  • 　　中國(guó)集成電路制造年會(huì)近日邀請(qǐng)到了光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)中國(guó)區(qū)總裁沈波參加，他出面解答了一些媒體關(guān)心的話題?！　”M管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格羅方德，格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進(jìn)工藝的研發(fā)，但ASML依然對(duì)EUV光刻機(jī)的前景表示樂(lè)觀?！　〈饲坝邢⒅赋?，中芯國(guó)際(SMIC)今年已向ASML訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)明年交付，用于7nm節(jié)點(diǎn)?！　⊥瑫r(shí)，傳統(tǒng)的沉浸式光刻機(jī)方面，沈波稱，今年下半年ASML已開(kāi)始出貨家族最先進(jìn)的NXT：2000i，很快會(huì)在中國(guó)市場(chǎng)上也見(jiàn)到
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迫于美國(guó)政府壓力，光刻機(jī)巨頭荷蘭ASML被曝不再招收中國(guó)員工 ...

  • 　　在高科技領(lǐng)域，美國(guó)這一年來(lái)加強(qiáng)了對(duì)中國(guó)人的防范，不只限于美國(guó)本土，就連歐洲公司也受到了美國(guó)政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國(guó)籍員工。　　在光刻機(jī)領(lǐng)域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機(jī)市場(chǎng)，在EUV光刻機(jī)中更是獨(dú)一份，7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機(jī)。在高科技領(lǐng)域，美國(guó)這一年來(lái)加強(qiáng)了對(duì)中國(guó)人的防范，不只限于美國(guó)本土，就連歐洲公司也受到了美國(guó)政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國(guó)籍員工?！　∪绻f(shuō)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是制造工業(yè)的皇冠，那么光刻機(jī)可以說(shuō)是皇冠上的明珠，因?yàn)楣饪虣C(jī)是半導(dǎo)體制造中最關(guān)
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ASML出貨新光刻機(jī)NXT2000i：用于7nm/5nm DUV工藝

  • 　　據(jù)外媒報(bào)道，光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)已經(jīng)開(kāi)始出貨新品Twinscan NXT：2000i DUV(NXT：2000i雙工件臺(tái)深紫外光刻機(jī))，可用于7nm和5nm節(jié)點(diǎn)?！　XT：2000i將是NXE：3400B EUV光刻機(jī)的有效補(bǔ)充，畢竟臺(tái)積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝?！　⊥瑫r(shí)，NXT：2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產(chǎn)品，達(dá)到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm)?！　SML將于本季度末開(kāi)始量產(chǎn)Twin
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華虹12寸晶圓廠裝備大陸最先進(jìn)沉浸式光刻機(jī)：邁向14nm

  • 　　中芯國(guó)際花了1.2億美元從荷蘭ASML(阿斯麥)買來(lái)一臺(tái)EUV極紫外光刻機(jī)，未來(lái)可用于生產(chǎn)7nm工藝芯片，長(zhǎng)江存儲(chǔ)也迎來(lái)了自己的第一臺(tái)光刻機(jī)，同樣來(lái)自ASML，不過(guò)是193nm沉浸式，用于產(chǎn)20-14nm工藝的3D NAND閃存晶圓，7200萬(wàn)美元一臺(tái)?！　?jù)集微網(wǎng)報(bào)道， 5月21日上午，在上海浦東新區(qū)康橋工業(yè)園南區(qū)，華虹集團(tuán)旗下上海華力集成電路制造有限公司建設(shè)和營(yíng)運(yùn)的12英寸先進(jìn)生產(chǎn)線建設(shè)項(xiàng)目(“華虹六廠”)實(shí)現(xiàn)首臺(tái)工藝設(shè)備光刻機(jī)搬入?！　∵@臺(tái)光刻機(jī)的型號(hào)是NXT 1980Di，依然是荷蘭ASML提
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探秘中國(guó)通信芯片那些事：行業(yè)中流砥柱

  • 中美經(jīng)貿(mào)關(guān)系開(kāi)始緩和，未來(lái)在高科技領(lǐng)域的合作將更多，競(jìng)爭(zhēng)也將更加激烈。
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價(jià)值7200萬(wàn)美元，長(zhǎng)江存儲(chǔ)首臺(tái)光刻機(jī)運(yùn)抵武漢

  • 　　長(zhǎng)江存儲(chǔ)的首臺(tái)光刻機(jī)已于今天中午運(yùn)抵武漢天河機(jī)場(chǎng)，設(shè)備相關(guān)的海關(guān)、商檢及邊防口岸的相關(guān)手續(xù)辦理完成后，即可運(yùn)至長(zhǎng)江存儲(chǔ)的工廠。據(jù)集微網(wǎng)獨(dú)家消息，這臺(tái)光刻機(jī)為ASML的193nm浸潤(rùn)式光刻機(jī)，售價(jià)7200萬(wàn)美元，用于14nm~20nm工藝。這也從側(cè)面透露了長(zhǎng)江存儲(chǔ)3D NAND閃存芯片的工藝制程。這是長(zhǎng)江存儲(chǔ)的第一臺(tái)光刻機(jī)，陸續(xù)還會(huì)有多臺(tái)運(yùn)抵。　　圖：ASML的光刻機(jī)安全降落武漢天河機(jī)場(chǎng)，正在卸貨中　　在今年的4月5日，長(zhǎng)江存儲(chǔ)首批400萬(wàn)美元的精密儀器開(kāi)始進(jìn)場(chǎng)安裝，標(biāo)志著國(guó)家存儲(chǔ)器基地從廠房建設(shè)階段進(jìn)
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這些“細(xì)節(jié)”讓中國(guó)難望頂級(jí)光刻機(jī)項(xiàng)背

  • 真正的核心技術(shù)靠化緣是要不來(lái)的。我們還有多少亟待攻克的關(guān)鍵核心技術(shù)，差距在哪，需要從哪些方面突破?
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上海微電子采購(gòu)Bumotec機(jī)床 加速中國(guó)光刻機(jī)研發(fā)

  • 　　去年，一臺(tái)價(jià)值1.06億元設(shè)備經(jīng)空運(yùn)從荷蘭飛抵廈門，由于該設(shè)備價(jià)值高，而且對(duì)保存和運(yùn)輸有著很高的要求——保存溫度必須保持在23攝氏度恒溫狀態(tài)下，為了避免影響設(shè)備的精度，在運(yùn)輸中也對(duì)穩(wěn)定性有極高的要求。因此，機(jī)場(chǎng)海關(guān)以機(jī)坪查驗(yàn)的方式對(duì)該貨物實(shí)行全程機(jī)邊監(jiān)管，待貨物裝入特制溫控氣墊車后移至海關(guān)的機(jī)坪視頻監(jiān)控探頭之下，在完成緊急查驗(yàn)后當(dāng)晚就放行。 　　沒(méi)錯(cuò)，這臺(tái)設(shè)備就是荷蘭ASML的光刻機(jī)。鐵流猜測(cè)，這臺(tái)設(shè)備很有可能是廈門當(dāng)?shù)卣c臺(tái)灣聯(lián)華電子合資的晶圓廠從荷蘭ASML采購(gòu)的。
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半導(dǎo)體廠商無(wú)不識(shí)君 聊一聊隱形大佬ASML

  • ASML是集合了西方光學(xué)應(yīng)用科學(xué)與半導(dǎo)體尖端制造設(shè)備技術(shù)于一體的科技龐然大物，它的影響力是任何一個(gè)國(guó)家在半導(dǎo)體領(lǐng)域都無(wú)法忽視的。
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光刻機(jī)領(lǐng)域國(guó)內(nèi)接近世界先進(jìn)水平，9nm線寬光刻實(shí)現(xiàn)突破

  • 　　SEMICON China 2017開(kāi)幕日即3月14日，上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(后簡(jiǎn)稱“SMEE”)宣布，SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU)，為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 　　根據(jù)這項(xiàng)合作備忘錄，ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購(gòu)的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后，進(jìn)一步深入?yún)⑴c中國(guó)的IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 　　光刻機(jī)被稱
  • 關(guān)鍵字： 光刻機(jī)  ASML   

耗費(fèi)巨資購(gòu)買EUV光刻機(jī) 臺(tái)積電有何打算？

  • 臺(tái)積電、三星與英特爾之間先進(jìn)制程的戰(zhàn)局依舊如火如荼的展開(kāi)，三方比拼毫不手軟。
  • 關(guān)鍵字： 臺(tái)積電  光刻機(jī)  

片內(nèi)相位測(cè)量工具模擬光刻機(jī)

  • 關(guān)鍵字：片內(nèi)相位測(cè)量 模擬光刻機(jī)采用特殊照明方式的高/超高數(shù)值孔徑（NA）的193nm光刻機(jī)和相位移掩膜版（PSM），使得光刻分辨率的極限達(dá)到了32nm節(jié)點(diǎn)。不利的因素是掩膜的復(fù)雜度正在以指數(shù)級(jí)遞增，而業(yè)界又迫切需要
  • 關(guān)鍵字： 相位測(cè)量  模擬  光刻機(jī)    
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光刻機(jī)介紹

國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備 我公司擁有國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺(tái)灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī),涂膠臺(tái), 金絲球焊機(jī),電子束蒸發(fā)臺(tái)。 濺射臺(tái)及探針臺(tái)等各種設(shè)備,世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國(guó)Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸 精密劃片機(jī)，300毫米清洗機(jī),。 如您感興趣請(qǐng)登錄以下網(wǎng)站或Email: 網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看詳細(xì) ]

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