光刻機 文章 進入光刻機技術(shù)社區(qū)
臺積電買下市場上50%的EUV光刻機 貢獻了60%的產(chǎn)能
- 在本周召開的臺積電技術(shù)研討會上，最重要的中心信息之一是，該公司在半導體制造領(lǐng)域處于世界領(lǐng)先地位，特別是在領(lǐng)先的工藝技術(shù)領(lǐng)域?！ 檫M一步傳達信息，臺積電展示了一張幻燈片，指出了它與其他產(chǎn)品的相對位置：通過結(jié)合ASML的聲明和自己的內(nèi)部采購單，臺積電預測他們已安裝了全世界約約50％的激活EUV機器。除此之外，該公司還擁有約60％的EUV晶圓累計生產(chǎn)量。 大型晶圓廠目前已知的公開EUV工藝包括TSMC的7+和N5，以及三星的7LPP（及以下任何產(chǎn)品），英特爾的EUV努力僅在明年進入其自己的7nm產(chǎn)品組合
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14nm工藝已量產(chǎn)華為麒麟芯片 中芯國際7nm研發(fā)多時
- 作為國內(nèi)最先進的晶圓代工廠,中芯國際SMIC去年底已經(jīng)量產(chǎn)了14nm工藝,Q1季度14nm工藝貢獻了1.3%的營收,預計到明年將貢獻10%的營收。中芯國際14nm工藝一大重要進展就是成功為華為代工麒麟710A處理器,四顆A73+四顆A53八核心設(shè)計,主頻2.0GHz,已經(jīng)用于榮耀4T系列手機上。在14nm之外,中芯國際還有基于14nm工藝的12nm工藝改良版,此前官方表示12nm工藝比14nm晶體管尺寸進一步縮微,功耗降低20%、性能提升10%,錯誤率降低20%,目前已經(jīng)啟動試生產(chǎn),與客戶展開深入合作,進
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單價超10億元 Intel臺積電三星每年需要多少EUV光刻機？
- 作為半導體行業(yè)最重要的生產(chǎn)設(shè)備，光刻機實在太重要了，整個芯片生產(chǎn)1/3的時間及成本都耗費在光刻上，EUV光刻機更是只有荷蘭ASML一家公司能產(chǎn)，單臺售價超過10億美元，這個生意一般人做不了。半導體工藝在7nm及以上的時候，不用EUV光刻機也能制造，就是成本有點高。目前對EUV光刻機有需求的廠商就三個——Intel、臺積電、三星，其中后兩家的EUV工藝已經(jīng)量產(chǎn)，Intel的要到2021年7nm工藝上才會用到EUV光刻機。那這三家公司對EUV光刻機有多少需求？根據(jù)ASML提供的計算方式，每月4.5萬片晶圓、一
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光刻機制造商ASML：疫情中公司訂單依然強勁
- 據(jù)外媒報道，由于擔心新型冠狀病毒疫情帶來的不確定性，三星和臺積電的半導體設(shè)備供應(yīng)商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績預期。不過，這家生產(chǎn)極紫外線(EUV)光刻設(shè)備的荷蘭公司補充說，該公司的設(shè)備訂單依然強勁，需求也沒有變化。ASML首席執(zhí)行官彼得·溫寧克（Peter Wennink）說：“需求前景沒有變化，今年我們沒有遇到任何推遲或取消交易的情況。盡管當前形勢充滿挑戰(zhàn)，但到目前為止，我們能夠繼續(xù)保持正常業(yè)務(wù)?！钡珳貙幙搜a充說：“目前新型冠狀病毒疫情將如何影響全球GDP發(fā)展、終端市場、我們的制造能力以及
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EUV光刻機訂單少了？ASML下調(diào)Q1季度營收預期 暫停股票回購
- 由于COVID-19新冠病毒在全球的蔓延,多個行業(yè)的生產(chǎn)、消費都受到影響了,半導體行業(yè)也不例外。ASML公司今天宣布下調(diào)Q1季度營收預期,同時暫停股票回購,不過他們沒公布EUV光刻機出貨量是否受影響了。今年1月份ASML公司發(fā)布了2019年Q4及全年財報,2019年交付了26臺EUV光刻機,預計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。展望2020年Q1季度,ASML之前預計營收31到33億歐元之間,毛利率46%到47%之間,研發(fā)費用約為5.5億歐
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90%市場被國外廠商壟斷 光刻膠國產(chǎn)化急需提速！
- 近年來,雖然中國在芯片設(shè)計領(lǐng)域有了突飛猛進的發(fā)展,涌現(xiàn)出了一批以華為海思為代表的優(yōu)秀的芯片設(shè)計企業(yè),但是在芯片制造領(lǐng)域,中國與國外仍有著不小的差距。不僅在半導體制程工藝上落后國外最先進工藝近三代,特別是在芯片制造所需的關(guān)鍵原材料方面,與美日歐等國差距更是巨大。即便強大如韓國三星這樣的巨頭,在去年7月,日本宣布限制光刻膠、氟化聚酰亞胺和高純度氟化氫等關(guān)鍵原材料對韓國的出口之后,也是被死死的“卡住了脖子”,急得如熱鍋上的螞蟻,卻又無可奈何。最后還是日本政府解除了部分限制之后,才得以化解了危機。而在美國制裁中興
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ASML研發(fā)下一代EUV光刻機：分辨率提升70% 逼近1nm極限
- 在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機,預計在2022年開始出貨。根據(jù)ASML之前的報告,去年他們出貨了26臺EUV光刻機,預計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮
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ASML研發(fā)下一代EUV光刻機：分辨率提升70% 逼近1nm極限
- 在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機,預計在2022年開始出貨。根據(jù)ASML之前的報告,去年他們出貨了26臺EUV光刻機,預計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮
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佳能產(chǎn)日本首臺半導體光刻機PPC-1發(fā)售50周年：半導體器件這樣煉成
- 半導體器件被廣泛應(yīng)用于從智能手機到汽車等各個領(lǐng)域，在其制造過程中半導體光刻機必不可少。你知道嗎，日本首臺半導體光刻機發(fā)售已經(jīng)50周年了。今日，佳能中國宣布，佳能產(chǎn)日本首臺半導體光刻機PPC-1發(fā)售50周年。佳能PPC-1于1970年發(fā)售，隨著數(shù)字技術(shù)的迅速發(fā)展，佳能的半導體光刻機也在不斷升級。首臺日本產(chǎn)半導體光刻機PPC-1據(jù)悉，佳能光刻機的歷史始于對相機鏡頭技術(shù)的高度應(yīng)用。靈活運用20世紀60年代中期在相機鏡頭開發(fā)中積累的技術(shù)，佳能研發(fā)出了用于光掩膜制造的高分辨率鏡頭。此后，為了進一步擴大業(yè)務(wù)范圍，佳能
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弘芯半導體ASML高端光刻機進場 第三家國產(chǎn)14nm工藝來了
- 12月22日，位于湖北武漢的弘芯半導體發(fā)布公告，該廠為首臺高端光刻機設(shè)備進廠舉行了隆重的進廠儀式，雖然官方?jīng)]有公布具體信息，但可以確定是一臺ASML的高端光刻機，售價也是數(shù)千萬美元級別的。根據(jù)湖北媒體之前的報道，弘芯半導體制造產(chǎn)業(yè)園是2018年武漢單個最大投資項目，位于臨空港經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)臨空港大道西側(cè)，規(guī)劃用地面積636畝，建筑面積65萬平方米，總投資1280億元。該項目2017年已投入建設(shè)資金520億元，2018年第二期項目再投資760億元，擬建設(shè)芯片生產(chǎn)制造基地及配套企業(yè)。項目計劃于2019年上半年
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中芯國際稱7nm EUV光刻機問題已解決 技術(shù)研發(fā)步入正軌
- 在半導體工藝進入10nm節(jié)點之后，制造越來越困難，其中最復雜的一步——光刻需要用到EUV光刻機了，而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應(yīng)。中芯國際去年也訂購了一臺EUV光刻機，日前該公司表示與ASML之間已解決光刻機的問題，EUV技術(shù)研發(fā)步入正軌。前不久有消息稱ASML停止對中芯國際供應(yīng)EUV光刻機，隨后ASML公司表示不是停供，而是延期，主要是在準備該國政府的出口申請文本工作。中芯國際董事長周子學日前在韓國訪問，韓媒報道稱周子學表態(tài)已經(jīng)解決了與ASML之間就光刻機供應(yīng)存在的問題，強調(diào)中芯國際在先進
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唯一打破ASML光刻機雙工臺技術(shù)壟斷：華卓精科擬登陸科創(chuàng)板
- 近年來，隨著國家的大力支持以及國內(nèi)市場需求的快速增長，國產(chǎn)半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛，而在關(guān)鍵的國產(chǎn)半導體設(shè)備領(lǐng)域也有了不小的進步。比如在硅刻蝕機領(lǐng)域，北方華創(chuàng)實現(xiàn)了14nm設(shè)備的突破，同時也在去年實現(xiàn)了適用于8英寸晶圓的金屬刻蝕機的研發(fā)和生產(chǎn)。已經(jīng)登錄科創(chuàng)板的中微半導體自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機經(jīng)臺積電驗證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5nm制程生產(chǎn)線。但是在晶圓制造環(huán)節(jié)更為關(guān)鍵的光刻機領(lǐng)域，卻仍與國外有著巨大的差距。目前荷蘭的ASML是全球最大的光刻機制造商，占據(jù)了全球光刻機市場（按銷售計）的近90%的市場份
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