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華虹12寸晶圓廠裝備大陸最先進(jìn)沉浸式光刻機(jī):邁向14nm

作者: 時(shí)間:2018-05-22 來(lái)源:快科技 收藏

  中芯國(guó)際花了1.2億美元從荷蘭ASML(阿斯麥)買(mǎi)來(lái)一臺(tái)EUV極紫外,未來(lái)可用于生產(chǎn)7nm工藝芯片,長(zhǎng)江存儲(chǔ)也迎來(lái)了自己的第一臺(tái),同樣來(lái)自ASML,不過(guò)是193nm沉浸式,用于產(chǎn)20-14nm工藝的3D NAND閃存晶圓,7200萬(wàn)美元一臺(tái)。

本文引用地址:http://m.ptau.cn/article/201805/380257.htm


華虹12寸晶圓廠裝備大陸最先進(jìn)沉浸式光刻機(jī):邁向14nm

  據(jù)集微網(wǎng)報(bào)道, 5月21日上午,在上海浦東新區(qū)康橋工業(yè)園南區(qū),集團(tuán)旗下上海華力集成電路制造有限公司建設(shè)和營(yíng)運(yùn)的12英寸先進(jìn)生產(chǎn)線建設(shè)項(xiàng)目(“六廠”)實(shí)現(xiàn)首臺(tái)工藝設(shè)備搬入。


華虹12寸晶圓廠裝備大陸最先進(jìn)沉浸式光刻機(jī):邁向14nm


  這臺(tái)光刻機(jī)的型號(hào)是NXT 1980Di,依然是荷蘭ASML提供,后者官方顯示,這是一臺(tái)193nm雙級(jí)沉浸式光刻機(jī),用于10nm級(jí)(14~20nm)晶圓生產(chǎn),它也是大陸裝備的最先進(jìn)的沉浸式光刻設(shè)備。

  華力微電子官網(wǎng)資料顯示,六廠是該司的第二個(gè)12英寸晶圓生產(chǎn)線,設(shè)計(jì)月產(chǎn)能4萬(wàn)片,工藝技術(shù)從28nm起步,最終將具備14nm三圍工藝的高性能芯片生產(chǎn)能力。

  另外,根據(jù)賽迪顧問(wèn)的統(tǒng)計(jì),按照銷(xiāo)售額,上海華虹位列2017年國(guó)內(nèi)十大集成電路制造企業(yè)第五位。


華虹12寸晶圓廠裝備大陸最先進(jìn)沉浸式光刻機(jī):邁向14nm


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