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ASML澄清與中芯國際交易EUV與DUV光刻機(jī)一字之差大不同

  • 　　近日，中芯國際與ASML達(dá)成12億美元交易購買晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對雙方此次合作，有媒體報(bào)道稱“除了EUV光刻機(jī)，中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機(jī)?！钡沁@一說法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)?！　】赡芎芏嗑W(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈，這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個(gè)小科普，EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢？EUV也就是“極深紫外線”的意思，而DUV是“深紫外線”的意思，通過字面就知道EUV看上去就比DUV高級，實(shí)際上也是如此?！　SML澄清與中
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ASML 5nm光刻機(jī)搶破頭：臺積電一開口就18臺 三星英特爾急了

  • 如今全球芯片短缺，不僅僅已經(jīng)嚴(yán)重影銷到了科技數(shù)碼產(chǎn)業(yè)，就連汽車產(chǎn)業(yè)也深受其害。為了滿足2021年的需求激增，目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達(dá)了18臺最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)需求，如此之大的需求量可以說是史上的天量，三星英特爾急了。ASML光刻機(jī)搶破頭　　因?yàn)槟壳叭蚰軌蛱峁┳钕冗M(jìn)極紫外光刻機(jī)的只有荷蘭ASML一家，在剛剛過去的2020年當(dāng)中，ASML面向全球客戶一共才交付了31臺極紫外光刻機(jī)，也就是說臺積電如果一口氣吞掉了18臺的話，就占盡了全球半導(dǎo)體新工藝產(chǎn)能的半數(shù)以上還要多?！　《鴮τ谡诓?/li>
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中國芯片業(yè)為什么搞不過一家荷蘭公司

  • 荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財(cái)報(bào)，這位世界光刻機(jī)霸主去年共出貨了31臺EUV光刻機(jī)，中國大陸由于種種原因沒有買到其中任何一臺?！　∮腥苏f阿斯麥?zhǔn)俏ㄒ灰粋€(gè)能讓臺積電折腰的公司，這一點(diǎn)也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機(jī)，是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟，沒有刀，再好的師傅也雕不出來花。　　如果有任何廠商的光刻機(jī)設(shè)備需要維修，阿斯麥的工程師從登上飛機(jī)那一刻，廠商就要付給他們以小時(shí)計(jì)的美金?！　≡?jīng)，某上市公司的光刻機(jī)出問題后，排了3年隊(duì)才等到阿斯麥的工程師。結(jié)果阿斯麥的
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全球最大光刻機(jī)廠CEO：拜登恐難緩解中美半導(dǎo)體緊張局勢

  • 拜登上任在即，他會緩解緊張的中美科技局勢嗎？近期，全球最大光刻機(jī)制造商ASML的CEO表示，即使總統(tǒng)換屆，兩國在包括光刻機(jī)在內(nèi)的半導(dǎo)體領(lǐng)域，仍將出現(xiàn)進(jìn)一步的對抗。也有人發(fā)表看法，發(fā)展芯片，開源指令集架構(gòu)RISC-V可能會讓中國芯片自主「彎道超車」？　　離美國新任總統(tǒng)拜登的上任越來越近了?！　≡谶^去川普任職期內(nèi)，中美之間的貿(mào)易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中，總部位于荷蘭的光刻機(jī)制造商ASML也是其中之一。　　由于美國政府的壓力，其最新價(jià)值約2億美元的光刻機(jī)已停止向中國銷售?！　∮捎诖ㄆ盏呐e動常常出其不意而且瘋狂
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中科院研發(fā)者回應(yīng)5納米光刻技術(shù)突破ASML壟斷

  • 　　今年7月，在中國科學(xué)院官網(wǎng)上發(fā)布了一則研究進(jìn)展，中科院蘇州所聯(lián)合國家納米中心在《納米快報(bào)》（Nano Letters）上發(fā)表了題為《超分辨率激光光刻技術(shù)制備5納米間隙電極和陣列》（5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究論文，介紹了該團(tuán)隊(duì)研發(fā)的新型5 納米超高精度激光光刻加工方法。該論文發(fā)表在《納米快報(bào)》（NanoLetters）。圖截自官網(wǎng)ACS官網(wǎng)　　消息一經(jīng)發(fā)出，外界一片沸騰，一
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荷蘭巨頭1nm光刻機(jī)迎新突破！中國訂購的EUV光刻機(jī)呢？

  • 　　據(jù)TechWeb網(wǎng)站11月30日最新報(bào)道，近日荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）又送來一則好消息，該司已經(jīng)與比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機(jī)的設(shè)計(jì)工作?！　?jù)了解，先進(jìn)制程的光刻機(jī)對于曝光設(shè)備的分辨率要求更高。與此同時(shí)，ASML已經(jīng)完成了0.55NA曝光設(shè)備的基本設(shè)計(jì)工作。按照阿斯麥的計(jì)劃，預(yù)計(jì)相應(yīng)的曝光設(shè)備全線準(zhǔn)備好之后，會在2022年實(shí)現(xiàn)商業(yè)化。　　然而，這家荷蘭企業(yè)的光刻機(jī)制造技術(shù)卻變得重大突破之際，我國芯片制造巨頭——中芯國際自阿斯麥訂購的EUV光刻機(jī)至今卻還未到貨。據(jù)悉，中芯
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阿斯麥ASML全新EUV光刻機(jī)將于2021年中期發(fā)貨

  • 14日訊，《科創(chuàng)板日報(bào)》記者從ASML獲悉，其公布了EUV路線圖上的新機(jī)型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格，這是30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時(shí)曝光160片晶圓，提高了18%的生產(chǎn)率，并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1納米，并計(jì)劃于2021年的中期開始發(fā)貨。
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華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機(jī)？ASML華裔工程師：天方夜譚

  • 9月16日，中國科學(xué)院院長白春禮在國新辦發(fā)布會上介紹稱，“率先行動”計(jì)劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局，集中全院力量聚焦國家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱，從2021年到2030年未來的十年是“率先行動”計(jì)劃第二階段。對此，首先要進(jìn)行體制機(jī)制改革。他稱，目前已經(jīng)設(shè)立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學(xué)中心和特色所四類機(jī)構(gòu)，目的是根據(jù)科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類定位、分類管理、分類評價(jià)、分類資源配置?！斑@個(gè)工作還沒有完，只是進(jìn)行了一部分，所以第二階段我們爭取在2025年要把四類機(jī)構(gòu)全部做完，
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臺積電采購30臺EUV光刻機(jī)沖刺7/5nm，ASML就近設(shè)立培訓(xùn)中心

  • 臺積電在高端制程技術(shù)上沖鋒陷陣，已經(jīng)成為光刻機(jī)龍頭 ASML 在 EUV 機(jī)臺上的最大采購客戶，累計(jì)已經(jīng)購買了 30 臺 EUV 設(shè)備。日前，ASML 繼在韓國成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心后，也在臺積電先進(jìn)制程的重鎮(zhèn)臺灣臺南，成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心。一臺EUV系統(tǒng)需要50個(gè)工程師操作一臺造價(jià)逾一億歐元的精密 EUV 系統(tǒng)，重量高達(dá) 180&nbs
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Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻：捍衛(wèi)摩爾定律

  • 日前，中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會（CSTIC）在上海開幕，為期19天，本次會議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中，光刻機(jī)一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設(shè)備，EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認(rèn)為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，截至2019年第四季度，ASML當(dāng)年共售出53臺EUV NXE：3400系列EUV光刻機(jī)，使用EUV機(jī)器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達(dá)到1000萬片。他說，EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
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5nm工藝起飛 ASML宣布全新半導(dǎo)體技術(shù)：產(chǎn)能大漲600%

  • 提到荷蘭ASML公司，大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商，7nm及以下的工藝生產(chǎn)都要靠他們的設(shè)備。不過ASML不只是光刻機(jī)厲害，今天他們宣布了另外一個(gè)新產(chǎn)品——第一代HMI多光束檢測機(jī)HMI eScan1000，適用于5nm及更先進(jìn)工藝，使得產(chǎn)能大漲600%。隨著制程工藝不斷提升，晶圓的制造也越來越復(fù)雜，這也會導(dǎo)致晶圓中的錯(cuò)誤更多，HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術(shù)的檢測系統(tǒng)，內(nèi)部也有復(fù)雜的光電子系統(tǒng)，能夠產(chǎn)生、控制多個(gè)電子束，然后根據(jù)反射回來的電子束成像來分析晶圓質(zhì)量，并有
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光刻機(jī)制造商ASML：疫情中公司訂單依然強(qiáng)勁

  • 據(jù)外媒報(bào)道，由于擔(dān)心新型冠狀病毒疫情帶來的不確定性，三星和臺積電的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績預(yù)期。不過，這家生產(chǎn)極紫外線(EUV)光刻設(shè)備的荷蘭公司補(bǔ)充說，該公司的設(shè)備訂單依然強(qiáng)勁，需求也沒有變化。ASML首席執(zhí)行官彼得·溫寧克（Peter Wennink）說：“需求前景沒有變化，今年我們沒有遇到任何推遲或取消交易的情況。盡管當(dāng)前形勢充滿挑戰(zhàn)，但到目前為止，我們能夠繼續(xù)保持正常業(yè)務(wù)。”但溫寧克補(bǔ)充說：“目前新型冠狀病毒疫情將如何影響全球GDP發(fā)展、終端市場、我們的制造能力以及
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2021年ASML將推下一代EUV光刻機(jī) 面向2nm、1nm工藝

  • 作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機(jī),主要用于臺積電、三星的7nm及今年開始量產(chǎn)的5nm工藝,預(yù)計(jì)今年出貨35臺EUV光刻機(jī)。目前ASML出貨的光刻機(jī)主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計(jì),維護(hù)更加便捷,平均維修時(shí)間將從48小時(shí)縮短到8-10小時(shí),支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH(每小時(shí)處理晶圓數(shù))提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
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EUV市場供不應(yīng)求，ASML或取代應(yīng)材登全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭

  • 根據(jù)外媒報(bào)導(dǎo)，已經(jīng)多年蟬聯(lián)全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭的美商應(yīng)材公司（Applied Materials），2019年可能將其龍頭寶座，讓給以生產(chǎn)半導(dǎo)體制造過程中不可或缺曝光機(jī)的荷蘭ASML，原因是受惠即紫外光刻設(shè)備（EUV）的市場需求大增，進(jìn)一步拉抬了ASML的市占率表現(xiàn)。
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EUV光刻機(jī)需求強(qiáng)勁：ASML超應(yīng)用材料成全球第一大半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)

  • 用了將近30年的時(shí)間，荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML（阿斯麥）終于要超過Applied Materials（美國應(yīng)用材料公司），成為全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)。
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