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尼康半導(dǎo)體曝光設(shè)備死于自我封閉?
- 日本光學(xué)及半導(dǎo)體設(shè)備大廠尼康(Nikon)未來可能進(jìn)行人事調(diào)整,以數(shù)位相機(jī)及半導(dǎo)體設(shè)備事業(yè)為主,希望轉(zhuǎn)型重建企業(yè)經(jīng)營。 根據(jù)報(bào)導(dǎo),日本半導(dǎo)體事業(yè)始于日本政府的產(chǎn)業(yè)計(jì)劃,1970年代由官方與民間合作的結(jié)果,建立了從半導(dǎo)體設(shè)備到半導(dǎo)體生產(chǎn)線的完整事業(yè)。當(dāng)時(shí)名為日本光學(xué)工業(yè)的尼康,借其光學(xué)技術(shù)推出先進(jìn)的曝光裝置,制造精密半導(dǎo)體的線路,是日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在1980~1990年代與美國平起平坐的主因。 但是,1984年從荷蘭電機(jī)大廠飛利浦(Philips)獨(dú)立的ASML,由于積極與外界學(xué)校及廠商合作,
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ASML 10億歐元現(xiàn)金收購蔡司半導(dǎo)體24.9%股份
- 全球芯片光刻技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商阿斯麥(ASML) 和德國卡爾蔡司 (ZEISS) 旗下的蔡司半導(dǎo)體有限公 司 (Carl Zeiss SMT) 11月3日共同宣布,由 ASML以10億歐元現(xiàn)金收購 Carl Zeiss SMT的24.9%股權(quán),以強(qiáng)化雙方在半導(dǎo)體光刻技術(shù)方面的合作,發(fā)展下一代EUV光刻系統(tǒng),讓半導(dǎo)體行業(yè)得以用更低的成本制造更高效能的微芯片。目前雙方并沒有進(jìn)一步股權(quán)交換的計(jì)劃。 Carl Zeiss SMT是ASML最重要的長(zhǎng)期策略合作伙伴,30 多年來,為ASML的光刻設(shè)備提供最關(guān)火鍵
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ASML新技術(shù) 搶救摩爾定律
- 荷商艾司摩爾(ASML)可能有辦法解決全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)所面臨的問題:如何一面讓晶片保持現(xiàn)有尺寸,一面增加它們的性能。 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的過去發(fā)展均照著摩爾定律在走,這個(gè)由英特爾共同創(chuàng)辦人摩爾于1965年首度提出的定律指出,每隔兩年,晶片制造商就能使傳統(tǒng)微處理器的電晶體數(shù)目倍增,且性能也會(huì)隨之提升。 不過,英特爾執(zhí)行長(zhǎng)科再奇去年警告,經(jīng)過幾十年的快速發(fā)展,未來半導(dǎo)體業(yè)每隔兩年半業(yè)才會(huì)出現(xiàn)過去那種進(jìn)展。 ASML則相信自家突破性的技術(shù),能延后半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)步入衰敗期的時(shí)間。主導(dǎo)ASML相關(guān)業(yè)務(wù)的梅靈
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ASML最先進(jìn)EUV出貨,臺(tái)積電5納米有譜
- 全球半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商艾司摩爾(ASML)昨(20)日宣布,在臺(tái)積電(2330)、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下,最先進(jìn)的極紫外光(EUV)已連續(xù)四周平均妥善率逾八成,本季底前將完成三臺(tái)最新的EUV系統(tǒng)出貨。 EUV堪稱半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展以來最昂貴的設(shè)備,一臺(tái)售價(jià)高達(dá)9,000 萬歐元(約新臺(tái)幣36億元),這項(xiàng)設(shè)備也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更先進(jìn)制程發(fā)展最關(guān)鍵設(shè)備,因此發(fā)展進(jìn)度,一直各界關(guān)注焦點(diǎn)。 臺(tái)積電共同執(zhí)行長(zhǎng)暨劉德音表示,臺(tái)積電本季將會(huì)再增購一臺(tái)EUV設(shè)備,不過臺(tái)積電將會(huì)于5奈米制程才會(huì)導(dǎo)入生產(chǎn)
- 關(guān)鍵字: ASML 臺(tái)積電
ASML接獲設(shè)備大單 EUV微影商用進(jìn)展邁大步

- 微影設(shè)備制造商ASML近期宣布,接獲美國一家主要客戶十五部EUV機(jī)臺(tái)訂單,并將于今年底開始陸續(xù)出貨;同時(shí)間,日本光阻材料大廠JSR也與IMEC合資成立新公司,致力生產(chǎn)EUV微影所需的光阻劑,為EUV微影技術(shù)的商用發(fā)展揭橥新的里程碑。 極紫外光微影(EUV Lithography)技術(shù)發(fā)展大有斬獲。半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)日前公開宣布,該公司與美國一家主要客戶已簽屬協(xié)議書,將提供至少十五臺(tái)的最新一代EUV微影系統(tǒng)機(jī)臺(tái),以支援不斷增加的制程開發(fā)活動(dòng)和未來世代制程的試量產(chǎn)。 雙方交易
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ASML估Q1營收未達(dá)標(biāo)
- 歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾控股公司(ASML Holding NV NL-ASML)預(yù)估第1季營收低于預(yù)期,并表示獲利能力將受到下一代極紫外光(EUV)系統(tǒng)訂單的箝制。 艾司摩爾今天在聲明稿中指出,預(yù)期2014年前3個(gè)月銷售凈額約14億歐元(18.8億美元)。相較之下,彭博社匯編12位分析師的預(yù)測(cè)均值為17.1億歐元。艾司摩爾預(yù)測(cè)毛利率42%左右,相較于調(diào)查預(yù)估中值42.5%。 艾司摩爾指出,首季利潤率預(yù)測(cè)包括EUV系統(tǒng)的負(fù)面影響,若不含EUV,利潤率將提高1.9個(gè)百分點(diǎn)。在
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為量產(chǎn)10nm制程鋪路 ASML攜手IMEC建置APC
- 艾司摩爾(ASML)與比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)合作案再添一樁。雙方將共同設(shè)立先進(jìn)曝光中心(Advanced Patterning Center, APC),助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突破10奈米(nm)以下先進(jìn)奈米曝光制程技術(shù)關(guān)卡,讓微影(Lithography)技術(shù)及其設(shè)備更臻成熟,加速制程微縮技術(shù)的商用化。 ASML總裁暨執(zhí)行長(zhǎng)Martin van den Brink表示,長(zhǎng)期以來,該公司與IMEC的合作,已促成半導(dǎo)體制程發(fā)展不斷突破;而此次的合作案,預(yù)期將進(jìn)一步加快先進(jìn)奈米制程技術(shù)及其相關(guān)設(shè)備
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ASML提升新EUV機(jī)臺(tái)技術(shù)生產(chǎn)效率
- 微影設(shè)備大廠ASML積極提升極紫外線(EUV)機(jī)臺(tái)技術(shù)的生產(chǎn)效率,在2012年購并光源供應(yīng)商Cymer后,大幅提升光源效率,從2009年至今光源效率分別為2009年2瓦、2010年5瓦、2011年10瓦,2012年提升至20瓦,目前已達(dá)55瓦,每小時(shí)晶圓產(chǎn)出片數(shù)為43片,預(yù)計(jì)2013年底前,可達(dá)到80瓦的目標(biāo),2015年達(dá)250瓦、每小時(shí)產(chǎn)出125片。 半導(dǎo)體生產(chǎn)進(jìn)入10納米后,雖然可采用多重浸潤式曝光方式,但在一片晶圓上要進(jìn)行多次的微影制程曝光,將導(dǎo)致生產(chǎn)流程拉長(zhǎng),成本會(huì)大幅墊高,半導(dǎo)體大廠為
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莫大康:縮小半導(dǎo)體工藝尺寸能走多遠(yuǎn)?
- 推動(dòng)半導(dǎo)體業(yè)進(jìn)步有兩個(gè)輪子,一個(gè)是工藝尺寸縮小,另一個(gè)是硅片直徑增大,而且總是尺寸縮小為先。由半導(dǎo)體工藝路線圖看,2013年應(yīng)該進(jìn)入14納米節(jié)點(diǎn),觀察近期的報(bào)道,似乎已無異議,而且仍是英特爾挑起大樑。盡管摩爾定律快“壽終正寢”的聲音已不容置辯,但是14nm的步伐仍按期走來,原因究竟是什么? 傳統(tǒng)光刻技術(shù)與日俱進(jìn) 當(dāng)尺寸縮小到22/20nm時(shí),傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已無能力,必須采用輔助的兩次圖形曝光技術(shù)。 提高光刻的分辨率有3個(gè)途徑:縮短曝光波長(zhǎng)、增大鏡頭數(shù)值孔徑NA
- 關(guān)鍵字: ASML 半導(dǎo)體
ASML:量產(chǎn)型EUV機(jī)臺(tái)2015年就位
- 極紫外光(EUV)微影技術(shù)將于2015年突破量產(chǎn)瓶頸。傳統(tǒng)浸潤式微影技術(shù)在半導(dǎo)體制程邁入1x奈米節(jié)點(diǎn)后將面臨物理極限,遂使EUV成為產(chǎn)業(yè)明日之星。設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)已協(xié)同比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)和重量級(jí)晶圓廠,合力改良EUV光源功率與晶圓產(chǎn)出速度,預(yù)計(jì)2015年可發(fā)布首款量產(chǎn)型EUV機(jī)臺(tái)。 ASML亞太區(qū)技術(shù)行銷協(xié)理鄭國偉提到,ASML雖也同步投入E-Beam基礎(chǔ)研究,但目前對(duì)相關(guān)設(shè)備的開發(fā)計(jì)劃仍抱持觀望態(tài)度。 ASML亞太區(qū)技術(shù)行銷協(xié)理鄭國偉表示,ASML于2012年
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