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尼康半導(dǎo)體曝光設(shè)備死于自我封閉？

  • 　　日本光學(xué)及半導(dǎo)體設(shè)備大廠尼康(Nikon)未來可能進(jìn)行人事調(diào)整，以數(shù)位相機(jī)及半導(dǎo)體設(shè)備事業(yè)為主，希望轉(zhuǎn)型重建企業(yè)經(jīng)營。 　　根據(jù)報(bào)導(dǎo)，日本半導(dǎo)體事業(yè)始于日本政府的產(chǎn)業(yè)計(jì)劃，1970年代由官方與民間合作的結(jié)果，建立了從半導(dǎo)體設(shè)備到半導(dǎo)體生產(chǎn)線的完整事業(yè)。當(dāng)時(shí)名為日本光學(xué)工業(yè)的尼康，借其光學(xué)技術(shù)推出先進(jìn)的曝光裝置，制造精密半導(dǎo)體的線路，是日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在1980~1990年代與美國平起平坐的主因。 　　但是，1984年從荷蘭電機(jī)大廠飛利浦(Philips)獨(dú)立的ASML，由于積極與外界學(xué)校及廠商合作，
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ASML 10億歐元現(xiàn)金收購蔡司半導(dǎo)體24.9%股份

  • 　　全球芯片光刻技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商阿斯麥(ASML) 和德國卡爾蔡司 (ZEISS) 旗下的蔡司半導(dǎo)體有限公 司 (Carl Zeiss SMT) 11月3日共同宣布，由 ASML以10億歐元現(xiàn)金收購 Carl Zeiss SMT的24.9%股權(quán)，以強(qiáng)化雙方在半導(dǎo)體光刻技術(shù)方面的合作，發(fā)展下一代EUV光刻系統(tǒng)，讓半導(dǎo)體行業(yè)得以用更低的成本制造更高效能的微芯片。目前雙方并沒有進(jìn)一步股權(quán)交換的計(jì)劃。 　　Carl Zeiss SMT是ASML最重要的長(zhǎng)期策略合作伙伴，30 多年來，為ASML的光刻設(shè)備提供最關(guān)火鍵
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ASML新技術(shù) 搶救摩爾定律

  • 　　荷商艾司摩爾(ASML)可能有辦法解決全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)所面臨的問題：如何一面讓晶片保持現(xiàn)有尺寸，一面增加它們的性能。 　　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的過去發(fā)展均照著摩爾定律在走，這個(gè)由英特爾共同創(chuàng)辦人摩爾于1965年首度提出的定律指出，每隔兩年，晶片制造商就能使傳統(tǒng)微處理器的電晶體數(shù)目倍增，且性能也會(huì)隨之提升。 　　不過，英特爾執(zhí)行長(zhǎng)科再奇去年警告，經(jīng)過幾十年的快速發(fā)展，未來半導(dǎo)體業(yè)每隔兩年半業(yè)才會(huì)出現(xiàn)過去那種進(jìn)展。 　　ASML則相信自家突破性的技術(shù)，能延后半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)步入衰敗期的時(shí)間。主導(dǎo)ASML相關(guān)業(yè)務(wù)的梅靈
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從海外巨頭成長(zhǎng)路徑看國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備的投資機(jī)會(huì)

  • 盡管與國外大廠有技術(shù)差距，但國內(nèi)的設(shè)備廠商正處于一個(gè)進(jìn)步、崛起的階段。
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三星將以6億歐元出售半導(dǎo)體設(shè)備公司ASML部分股份

  • 　　北京時(shí)間9月8日消息，據(jù)路透社報(bào)道，三星電子周四表示，將出售荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML控股的部分股份。 　　交易條款清單顯示，三星將以大約6.06億歐元出售630萬股ASML股票。三星并未披露此次交易的財(cái)務(wù)條款。 　　三星稱，此次股份出售不會(huì)影響兩家公司的戰(zhàn)略伙伴關(guān)系。三星在8月16日提交的監(jiān)管文件中稱，公司持有1260萬股ASML股票，持股比例為2.9%。
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半導(dǎo)體設(shè)備大廠都在發(fā)動(dòng)強(qiáng)強(qiáng)并購

  • 半導(dǎo)體設(shè)備廠商不只大者恒大，市占愈發(fā)傾向于大廠，如果科林與艾司摩爾并購案順利通過，未來半導(dǎo)體設(shè)備廠商三強(qiáng)鼎立的局面或也可能出現(xiàn)。
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ASML最先進(jìn)EUV出貨，臺(tái)積電5納米有譜

  • 　　全球半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商艾司摩爾(ASML)昨(20)日宣布，在臺(tái)積電(2330)、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下，最先進(jìn)的極紫外光(EUV)已連續(xù)四周平均妥善率逾八成，本季底前將完成三臺(tái)最新的EUV系統(tǒng)出貨。 　　EUV堪稱半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展以來最昂貴的設(shè)備，一臺(tái)售價(jià)高達(dá)9,000 萬歐元(約新臺(tái)幣36億元)，這項(xiàng)設(shè)備也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更先進(jìn)制程發(fā)展最關(guān)鍵設(shè)備，因此發(fā)展進(jìn)度，一直各界關(guān)注焦點(diǎn)。 　　臺(tái)積電共同執(zhí)行長(zhǎng)暨劉德音表示，臺(tái)積電本季將會(huì)再增購一臺(tái)EUV設(shè)備，不過臺(tái)積電將會(huì)于5奈米制程才會(huì)導(dǎo)入生產(chǎn)
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ASML接獲設(shè)備大單　EUV微影商用進(jìn)展邁大步

  • 　　微影設(shè)備制造商ASML近期宣布，接獲美國一家主要客戶十五部EUV機(jī)臺(tái)訂單，并將于今年底開始陸續(xù)出貨;同時(shí)間，日本光阻材料大廠JSR也與IMEC合資成立新公司，致力生產(chǎn)EUV微影所需的光阻劑，為EUV微影技術(shù)的商用發(fā)展揭橥新的里程碑。 　　極紫外光微影(EUV Lithography)技術(shù)發(fā)展大有斬獲。半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)日前公開宣布，該公司與美國一家主要客戶已簽屬協(xié)議書，將提供至少十五臺(tái)的最新一代EUV微影系統(tǒng)機(jī)臺(tái)，以支援不斷增加的制程開發(fā)活動(dòng)和未來世代制程的試量產(chǎn)。 　　雙方交易
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ASML估Q1營收未達(dá)標(biāo)

  • 　　歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾控股公司(ASML Holding NV NL-ASML)預(yù)估第1季營收低于預(yù)期，并表示獲利能力將受到下一代極紫外光(EUV)系統(tǒng)訂單的箝制。 　　艾司摩爾今天在聲明稿中指出，預(yù)期2014年前3個(gè)月銷售凈額約14億歐元(18.8億美元)。相較之下，彭博社匯編12位分析師的預(yù)測(cè)均值為17.1億歐元。艾司摩爾預(yù)測(cè)毛利率42%左右，相較于調(diào)查預(yù)估中值42.5%。 　　艾司摩爾指出，首季利潤率預(yù)測(cè)包括EUV系統(tǒng)的負(fù)面影響，若不含EUV，利潤率將提高1.9個(gè)百分點(diǎn)。在
  • 關(guān)鍵字： ASML   半導(dǎo)體設(shè)備  

為量產(chǎn)10nm制程鋪路　ASML攜手IMEC建置APC

  • 　　艾司摩爾(ASML)與比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)合作案再添一樁。雙方將共同設(shè)立先進(jìn)曝光中心(Advanced Patterning Center, APC)，助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突破10奈米(nm)以下先進(jìn)奈米曝光制程技術(shù)關(guān)卡，讓微影(Lithography)技術(shù)及其設(shè)備更臻成熟，加速制程微縮技術(shù)的商用化。 　　ASML總裁暨執(zhí)行長(zhǎng)Martin van den Brink表示，長(zhǎng)期以來，該公司與IMEC的合作，已促成半導(dǎo)體制程發(fā)展不斷突破;而此次的合作案，預(yù)期將進(jìn)一步加快先進(jìn)奈米制程技術(shù)及其相關(guān)設(shè)備
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ASML提升新EUV機(jī)臺(tái)技術(shù)生產(chǎn)效率

  • 　　微影設(shè)備大廠ASML積極提升極紫外線(EUV)機(jī)臺(tái)技術(shù)的生產(chǎn)效率，在2012年購并光源供應(yīng)商Cymer后，大幅提升光源效率，從2009年至今光源效率分別為2009年2瓦、2010年5瓦、2011年10瓦，2012年提升至20瓦，目前已達(dá)55瓦，每小時(shí)晶圓產(chǎn)出片數(shù)為43片，預(yù)計(jì)2013年底前，可達(dá)到80瓦的目標(biāo)，2015年達(dá)250瓦、每小時(shí)產(chǎn)出125片。 　　半導(dǎo)體生產(chǎn)進(jìn)入10納米后，雖然可采用多重浸潤式曝光方式，但在一片晶圓上要進(jìn)行多次的微影制程曝光，將導(dǎo)致生產(chǎn)流程拉長(zhǎng)，成本會(huì)大幅墊高，半導(dǎo)體大廠為
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莫大康：縮小半導(dǎo)體工藝尺寸能走多遠(yuǎn)？

  • 　　推動(dòng)半導(dǎo)體業(yè)進(jìn)步有兩個(gè)輪子，一個(gè)是工藝尺寸縮小，另一個(gè)是硅片直徑增大，而且總是尺寸縮小為先。由半導(dǎo)體工藝路線圖看，2013年應(yīng)該進(jìn)入14納米節(jié)點(diǎn)，觀察近期的報(bào)道，似乎已無異議，而且仍是英特爾挑起大樑。盡管摩爾定律快“壽終正寢”的聲音已不容置辯，但是14nm的步伐仍按期走來，原因究竟是什么? 　　傳統(tǒng)光刻技術(shù)與日俱進(jìn) 　　當(dāng)尺寸縮小到22/20nm時(shí)，傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已無能力，必須采用輔助的兩次圖形曝光技術(shù)。 　　提高光刻的分辨率有3個(gè)途徑：縮短曝光波長(zhǎng)、增大鏡頭數(shù)值孔徑NA
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ASML：量產(chǎn)型EUV機(jī)臺(tái)2015年就位

  • 　　極紫外光(EUV)微影技術(shù)將于2015年突破量產(chǎn)瓶頸。傳統(tǒng)浸潤式微影技術(shù)在半導(dǎo)體制程邁入1x奈米節(jié)點(diǎn)后將面臨物理極限，遂使EUV成為產(chǎn)業(yè)明日之星。設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)已協(xié)同比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)和重量級(jí)晶圓廠，合力改良EUV光源功率與晶圓產(chǎn)出速度，預(yù)計(jì)2015年可發(fā)布首款量產(chǎn)型EUV機(jī)臺(tái)。 　　ASML亞太區(qū)技術(shù)行銷協(xié)理鄭國偉提到，ASML雖也同步投入E-Beam基礎(chǔ)研究，但目前對(duì)相關(guān)設(shè)備的開發(fā)計(jì)劃仍抱持觀望態(tài)度。 　　ASML亞太區(qū)技術(shù)行銷協(xié)理鄭國偉表示，ASML于2012年
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ASML完成對(duì)Cymer的收購

  • 　　ASML和Cymer上周五宣布，已經(jīng)完成此前宣布的兩家合并計(jì)劃，ASML成功收購了Cymer公司，作為該合并結(jié)果，Cymer普通股以20.00美元現(xiàn)金外加1.1502的 ASML普通股權(quán)益，ASML的股本也將因此增加大約3650萬股。
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