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半導體能支撐未來的發(fā)展
- 相比于2009年今年全球半導體業(yè)的態(tài)勢好了許多，但是仍有少部分人提出質(zhì)疑，2010年有那么好嗎?即具備條件了嗎? 在今年1月由SEMI主辦的工業(yè)策略年會上(ISS)，有些演講者表示一些擔憂，認為雖然半導體業(yè)正在復蘇的路上，但是制造商們?nèi)匀鄙偌で?，不肯繼續(xù)大幅的投資，以及不太愿意重新擴大招慕員工。 恐怕更大的擔心來自全球半導體業(yè)間的兼并與重組到來，以及產(chǎn)業(yè)能否支持得起22納米及以下技術(shù)的進步。 IBS的CEO Handle Jones認為，雖然工業(yè)正在復蘇，但是在半導體業(yè)運營中仍面臨成
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臺積電取得ASML超紫外光微影設備以研發(fā)新世代工藝
- TSMC與荷蘭艾司摩爾(ASML)公司今日共同宣布，TSMC將取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影設備，是全球六個取得這項設備的客戶伙伴之一。 這項設備將安裝于TSMC的超大晶圓廠(GigaFab™)-臺積十二廠，用以發(fā)展新世代的工藝技術(shù)。TSMC也將成為全球第一個可以在自身晶圓廠發(fā)展超紫外光微影技術(shù)的專業(yè)集成電路制造服務業(yè)者。 相較于現(xiàn)行浸潤式微影技術(shù)以193納米波長當作光源，超
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ASML：客戶下單增溫 微顯影設備2010年成長30%
- 半導體市場回溫，ASML市場智庫總監(jiān)Antonio Mesquida Küsters表示，客戶對設備下單需求增溫，他引用研究機構(gòu)預測，2010年半導體微顯影設備可望成長30%至少達到40億歐元。尤其晶圓代工領(lǐng)域，經(jīng)過18個月的壓低資本支出，現(xiàn)在業(yè)者更積極投資擴充產(chǎn)能，他個人亦樂見臺積電積極擴充產(chǎn)能，滿足客戶投單需求的做法。 Küsters表示，2008 年是變動相當劇烈的一年，回顧2007年時研究機構(gòu)還對2008年奧運所帶來的商機相當樂觀，孰料DRAM價格快速崩落約65%，緊
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2010決勝年 ASML 主攻38納米、EUV設備
- 全球最大半導體微顯影設備業(yè)者ASML表示，目前客戶訂單增加相當多，但主是來自半導體業(yè)者制程微縮而非產(chǎn)能擴充的需求，半導體業(yè)者仍持續(xù)微縮半導體制程，摩爾定律預料將持續(xù)延續(xù)。以目前ASML最先進的浸潤式微顯影機種來看，新一代的機種NXT 1950i 也已于2009年下半出貨，未來將快速增加出貨，同時深紫外光(EUV)也至少囊括5套客戶訂單，對ASML來說2010年將是極重要的一年。 ASML NXT技術(shù)平臺資深經(jīng)理Frank van de Mast指出，XT1900Hi的下一代機種NXT 1950i
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EUV: 一場輸不起的賭局
- 2010年， ASML將有5臺最先進的EUV設備整裝發(fā)往全球的5家客戶。業(yè)界傳言，最新的NXE3100系統(tǒng)將發(fā)送給3家頂級存儲器廠商和2家頂級邏輯廠商。EUV勝利的曙光正在向我們招手，雖然目前工程師們還在荷蘭Veldhoven專為EUV新建的大樓中忙碌，在設備出廠前，解決正在發(fā)生的問題，并預測著各種可能發(fā)生的問題及解決方案。 人們談論EUV的各種技術(shù)問題已歷時數(shù)年，因為其波長較目前的193nm縮短10倍以上，EUV一直是通往22nm的實力派參賽選手之一。與此同時，延伸immersion技術(shù)，用其
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EUV蓄勢待發(fā) Carl Zeiss向ASML出貨EUV光學系統(tǒng)
- 德國Carl Zeiss SMT AG已向半導體設備商ASML出貨首臺EUV光學系統(tǒng)。該公司已使EUV光學系統(tǒng)達到了生產(chǎn)要求。 光學系統(tǒng)是EUV設備的核心模塊，首臺EUV設備預計將在2010年出貨。幾周前，美國公司Cymer完成了EUV光源的開發(fā)，EUV光源是EUV光刻設備另一個關(guān)鍵模塊。該技術(shù)將使芯片制造商進一步縮小芯片的特征尺寸，提高生產(chǎn)效率。 據(jù)Carl Zeiss 介紹，目前出貨的光學系統(tǒng)已經(jīng)研發(fā)了約15年。
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ASML一體化光刻解決方案延續(xù)摩爾定律
- ASML集團公司在美國舊金山舉行的SEMICON West展會上發(fā)布多項全新光刻設備，讓芯片制造商能夠繼續(xù)縮小半導體器件尺寸。FlexRay™ (可編程照明技術(shù))和BaseLiner™ (反饋式調(diào)控機制)為ASML一體化光刻技術(shù) (holistic lithography)的一部分，具有高穩(wěn)定性，能夠優(yōu)化和穩(wěn)定制造工藝。 半導體行業(yè)發(fā)展的推動力量來自小型化趨勢，以降低生產(chǎn)成本，同時提高器件性能。不過，隨著半導體器件尺寸的縮小，工藝窗口(生產(chǎn)出合格芯片的工藝允許偏差)也相應
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2008十佳晶圓設備和工藝診斷設備廠商排名(圖)
- 市場調(diào)研機構(gòu)VLSIResearch近日公布了2008十佳半導體設備廠商。今年獲得工藝診斷設備廠商、小型晶圓處理設備廠商和大型晶圓處理設備廠商各個類別桂冠的分別是KeithleyInstruments、SENCorporation和VarianSemiconductor。 本次調(diào)查結(jié)果是來自對芯片制造商4565次調(diào)查，受訪制造商的產(chǎn)量總和約占全球產(chǎn)量的95％。每家設備供應商在13項指標中進行排名，包括設備性能和客服等。以下是十佳供應商排名： 工藝診斷設備供應商 在工藝診斷設備供應商中
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ASML看好亞洲市場, 搭上晶片順風車
- 晶片產(chǎn)業(yè)景氣暢旺,ASML看好亞洲明年營收成長 路透報道---荷蘭晶片設備制造商艾司摩爾亞太區(qū)策略行銷協(xié)理鄭國偉周三表示,隨著其主要半導體客戶搭上晶片產(chǎn)業(yè)景氣復蘇的順風車,ASML看好明年亞洲市場的營收成長. ASML的整體營收有60%-70%來自亞洲.全球最大的晶圓代工廠商臺積電即是ASML的主要客戶之一. 鄭國偉在臺灣半導體及微電子產(chǎn)業(yè)年度盛事SEMICON Taiwan場邊告訴路透,從一般趨勢來研判,亞洲的業(yè)務營收將愈來愈大. 鄭國偉稱:我不認為其他有任何地區(qū)的成長動能比亞洲更強.但他并未
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