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泛林集團在提高EUV光刻分辨率、生產(chǎn)率和良率取得技術(shù)突破
- 泛林集團與阿斯麥 (ASML) 和比利時微電子研究中心 (imec) 共同研發(fā)的全新干膜光刻膠技術(shù)將有助于提高EUV光刻的分辨率、生產(chǎn)率和良率。
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2021年ASML將推下一代EUV光刻機 面向2nm、1nm工藝
- 作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機,主要用于臺積電、三星的7nm及今年開始量產(chǎn)的5nm工藝,預(yù)計今年出貨35臺EUV光刻機。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮短到8-10小時,支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH(每小時處理晶圓數(shù))提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
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麒麟820處理器要來,6納米+EUV工藝,手有技術(shù)氣自華!
- hello,大家好,歡迎來到阿洛伊科技華為將于2月24日21:00舉行在線新品發(fā)布會。在疫情爆發(fā)期間,手機制造商選擇在網(wǎng)上舉行發(fā)布會。據(jù)悉,此次發(fā)布會的主題是“共同未來”。從海報上看,本次大會將涵蓋多個類別,包括折疊手機、筆記本電腦、平板電腦、智能手表、智能家居等,不過,據(jù)媒體透露,本次大會將會有一個驚喜,即將發(fā)布最新的旗艦SOC麒麟820處理器。與上一代麒麟810相比,該處理器有哪些升級?讓我們看看。麒麟820處理器將采用cortex A76架構(gòu)。不采用最新的cortex a77架構(gòu)的主要原因是,ARM
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臺積電遇強大對手!6nm、7nm EUV開啟全面量產(chǎn),中國仍需努力!
- 告別了諾基亞、HTC、黑莓等手機,目前的智能手機陣營也就是安卓和蘋果,而智能手機儼然就是人們的第二個精神生命,手機不離手已經(jīng)成為了一種現(xiàn)象,但是對于智能手機來說,除了軟件以外,最重要最核心的就是手機芯片了!但是在全世界來說,能夠生產(chǎn)高端芯片的廠商少之又少,主要還是因為納米級制程工藝的技術(shù)壁壘,誰能夠率先突破制程工藝,誰都將會在半導(dǎo)體芯片上拔得頭籌,對于中國來說,這一塊仍然非常的滯后,當然了如果說臺積電也是中國的話,那么中國其實還是領(lǐng)先的!但是畢竟臺積電一直以來是中國臺灣企業(yè),但其實其也一直受限于美國的政策
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面向3nm及以下工藝,ASML新一代EUV光刻機曝光
- 很快,臺積電和三星的5nm工藝即將量產(chǎn),與此同時,臺積電和三星的3nm工藝也在持續(xù)的研發(fā)當中。而對于5nm及以下工藝來說,都必須依靠EUV(極紫外)光刻機才能實現(xiàn)。而目前全球只有一家廠商能夠供應(yīng)EUV光刻機,那就是荷蘭的ASML。很快,臺積電和三星的5nm工藝即將量產(chǎn),與此同時,臺積電和三星的3nm工藝也在持續(xù)的研發(fā)當中。而對于5nm及以下工藝來說,都必須依靠EUV(極紫外)光刻機才能實現(xiàn)。而目前全球只有一家廠商能夠供應(yīng)EUV光刻機,那就是荷蘭的ASML。目前ASML出貨的EUV光刻機主要是NXE:340
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EUV市場供不應(yīng)求,ASML或取代應(yīng)材登全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭
- 根據(jù)外媒報導(dǎo),已經(jīng)多年蟬聯(lián)全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭的美商應(yīng)材公司(Applied Materials),2019年可能將其龍頭寶座,讓給以生產(chǎn)半導(dǎo)體制造過程中不可或缺曝光機的荷蘭ASML,原因是受惠即紫外光刻設(shè)備(EUV)的市場需求大增,進一步拉抬了ASML的市占率表現(xiàn)。
- 關(guān)鍵字: EUV ASML 半導(dǎo)體設(shè)備
三星公布全球首顆 7nm EUV 芯片——Exynos 9825

- Exynos 9825 將搭載于三星 Galaxy Note 10 系列手機中。
- 關(guān)鍵字: 三星 Exynos 9825 EUV 芯片
三星5nm EUV研發(fā)完成:功耗降低20%

- 在芯片代工領(lǐng)域,臺積電和三星是實力最強勁的兩大巨頭。不過,最近幾年,臺積電的實力要更勝一籌,通過7nm工藝,臺積電拿到了蘋果、高通、AMD、比特大陸等多家的大訂單。而三星自家最新的Exynos 9820處理器,采用的則還是8nm工藝。今天,三星在官網(wǎng)上帶來了一個新消息,5nm EUV成功開發(fā)完成。這對三星而言,算是一個里程碑式的成就。三星表示,與7nm相比,5nm FinFET工藝功耗降低了20%,性能提高了10%。需要說明的是,三星的7nm工藝去年10月開始宣布并初步生產(chǎn),今年年初實現(xiàn)量產(chǎn)。最近三星曝光
- 關(guān)鍵字: 三星 EUV 5nm
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