high na euv 文章進(jìn)入high na euv技術(shù)社區(qū)

今年轉(zhuǎn)向4nm EUV工藝英特爾退役11代酷睿移動(dòng)版：10nm再見(jiàn)了

6月7日消息，英特爾今年下半年將會(huì)推出14代酷睿Meteor Lake處理器，首發(fā)Intel 4工藝，這是該公司首款EUV工藝，而且還會(huì)用上全新3D封裝工藝，處理器變化非常大。在迎接4nm EUV的同時(shí)，英特爾也在加快清理遺產(chǎn)，2020年發(fā)布的11代酷睿Tiger Lake處理器現(xiàn)在也進(jìn)入了退役階段，這一批主要是中低端的酷睿i7/i5/i3及賽揚(yáng)系列，包括U系列及H35系列，最高端的就是酷睿i7-1165G7。與之一同退役的還有配套的500系芯片組，包括RM590E，HM570E和QM580E系列。這些產(chǎn)
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消息稱三星半導(dǎo)體將減少 10% 晶圓投片量，EUV 產(chǎn)線成重災(zāi)區(qū)

IT之家 5 月 26 日消息，據(jù)韓媒 Aju News 報(bào)道，三星計(jì)劃自 2023 年第三季度開始，對(duì)韓國(guó)華城園區(qū) S3 工廠減少至少 10% 的晶圓投片量。▲ 圖源：三星報(bào)道稱，三星半導(dǎo)體將在第三季度開始，對(duì)華城園區(qū) S3 工廠進(jìn)行減產(chǎn)作業(yè)。S3 工廠是三星半導(dǎo)體于 2018 年建成投產(chǎn)的 12 英寸生產(chǎn)線，目前主要生產(chǎn) 10nm 至 7nm 產(chǎn)品，也是三星半導(dǎo)體 EUV 先進(jìn)工藝的主力生產(chǎn)廠之一，三星為其部署了多臺(tái) ASML 的 NXE3400 EUV 光刻機(jī)。Aju News
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2025搞定2nm工藝日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻機(jī)

5月17日消息，原本已經(jīng)落后的日本半導(dǎo)體制造行業(yè)近年來(lái)加快了追趕速度，去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus，計(jì)劃2025年試產(chǎn)2nm工藝，而且很快就籌備了EUV光刻機(jī)。日本當(dāng)前的邏輯工藝還在28nm以上，但是Rapidus公司選擇跳過(guò)中間的工藝，直接搞2nm工藝，而5nm以下的工藝都離不開EUV光刻機(jī)，不論研發(fā)還是制造都要先買設(shè)備。Rapidus社長(zhǎng)小池淳義日前在采訪中透露，他們已經(jīng)完成了1臺(tái)EUV光刻機(jī)的籌備，不過(guò)具體的型號(hào)及進(jìn)度沒(méi)有說(shuō)明，不確定是ASML的哪款EUV光刻機(jī)，何時(shí)安裝、
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柔弱的雕刻大師——EUV光刻機(jī)

在如今這個(gè)信息時(shí)代，如果說(shuō)我們的世界是由芯片堆積起來(lái)的高樓大廈，那么芯片制造，則是這里面高樓的地基，而談到芯片制造各位讀者自然就能想到光刻機(jī)，沒(méi)錯(cuò)，作為人類商業(yè)化機(jī)器的工程奇跡，光刻機(jī)自然是量產(chǎn)高性能芯片的必要設(shè)備。特別是隨著這幾年中美貿(mào)易戰(zhàn)的加劇，光刻機(jī)這種大部分可能一生都不會(huì)見(jiàn)到的機(jī)器一下子成了婦孺皆知的存在，那么光刻機(jī)是如何工作的呢？它是如何在方寸之間的芯片上雕刻出上百億的晶體管的呢？本篇文章就著重給大家介紹一下目前最先進(jìn)，也是我國(guó)被“卡脖子”的EUV（極紫外）光刻機(jī)。? ? &
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ASML預(yù)測(cè)，未來(lái)九個(gè)月對(duì)中國(guó)的銷量將大幅回升

ASML 財(cái)務(wù)總監(jiān) Roger Daasen 表示，今年未來(lái)幾個(gè)季度中國(guó)大陸的銷量將顯著回升。
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EUV機(jī)臺(tái)被砍單？業(yè)界：不太可能

終端市場(chǎng)需求低迷，近期市場(chǎng)傳出臺(tái)積電將宣布調(diào)降今年資本支出，恐沖擊艾司摩爾（ASML）及應(yīng)用材料等設(shè)備廠出貨，甚至傳出艾司摩爾極紫外光（EUV）機(jī)臺(tái)被砍單消息，不過(guò)業(yè)界普遍認(rèn)為可能性不高，原因在于EUV機(jī)臺(tái)交期長(zhǎng)達(dá)12～15個(gè)月，且中長(zhǎng)期來(lái)看EUV產(chǎn)能仍供不應(yīng)求。 ASML預(yù)計(jì)19日舉行法人說(shuō)明會(huì)，可望針對(duì)EUV曝光機(jī)已接訂單（backlog）變化提出說(shuō)明。半導(dǎo)體生產(chǎn)鏈仍在進(jìn)行庫(kù)存調(diào)整，市場(chǎng)傳出臺(tái)積電可能在法人說(shuō)明會(huì)中下修全年資本支出，加上內(nèi)存廠放慢擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃，將導(dǎo)致EUV曝光機(jī)訂單減少或延后，受此消息影響
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國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的「行軍難」

3 月 8 日，ASML 發(fā)表聲明回應(yīng)荷蘭政府即將出臺(tái)的半導(dǎo)體設(shè)備出口管制措施。ASML 稱，這些新的出口管制措施側(cè)重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)，ASML 將需要申請(qǐng)出口許可證才能發(fā)運(yùn)最先進(jìn)的浸潤(rùn)式 DUV 系統(tǒng)。ASML 強(qiáng)調(diào)，這些管制措施需要一定時(shí)間才能付諸立法并生效。3 月 9 日，外交部例行記者會(huì)上，有媒體提問(wèn)，據(jù)報(bào)道，荷蘭外貿(mào)與發(fā)展合作大臣施賴納馬赫爾向荷議會(huì)致函稱，出于國(guó)家安全考慮，荷蘭將于今年夏天之前對(duì)其芯片出口實(shí)施限制性措施。中方對(duì)此有何評(píng)論？外交部發(fā)言人毛
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挑戰(zhàn) ASML，應(yīng)用材料公司重新定義了光刻和圖案化市場(chǎng)

EUV 太貴了，有其他解決方法嗎？
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2nm 工藝的計(jì)量策略

晶圓制造工具正變得更加專用于 Si/SiGe 堆棧、3D NAND 和鍵合晶圓對(duì)。
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ASML堵了EUV光刻機(jī)的路，但國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)有3大新方向

眾所周知，當(dāng)前全球只有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，甚至可以說(shuō)很長(zhǎng)一段時(shí)間內(nèi)，全球也只有ASML能夠生產(chǎn)光刻機(jī)，不會(huì)有第二家。原因在于ASML把EUV光刻機(jī)的路堵住了，這條路別人是走不通的。ASML與全球眾多的供應(yīng)鏈，形成了捆綁關(guān)系，像蔡司等與ASML形成了利益共同體，EUV光刻機(jī)中，蔡司等廠商至關(guān)重要，掌握核心科技，缺少這些供應(yīng)鏈，其它廠商不可能制造出EUV光刻機(jī)。所以，目前眾多的其它光刻機(jī)企業(yè)，并不打算走EUV光刻機(jī)這條路，在另尋它路。同樣的，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)基本上也走不通EUV這條路，只能另尋他路，而
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美國(guó)發(fā)起的對(duì)華聯(lián)合出口限制留下漏洞？

據(jù)報(bào)道，荷蘭和日本已與美國(guó)達(dá)成協(xié)議，共同限制向中國(guó)出口芯片制造工具，這將進(jìn)一步削弱中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展，因?yàn)槌讼拗浦袊?guó)制造商使用 EUV 光刻機(jī)外，進(jìn)一步限制其使用浸沒(méi)式 DUV 光刻機(jī)。但在美國(guó)對(duì)中國(guó)發(fā)起的嚴(yán)格出口限制中，中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)是否可以利用任何關(guān)鍵漏洞來(lái)緩沖沖擊？這似乎是一個(gè)值得仔細(xì)研究的問(wèn)題。近年來(lái)，美國(guó)加大了對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的打壓力度。不僅設(shè)計(jì)了各種策略和行動(dòng)，還動(dòng)員了盟友的參與。在 2022 年 10 月對(duì)向中國(guó)出口先進(jìn)芯片制造工具和技術(shù)實(shí)施全面出口限制后，美國(guó)急于讓擁有 ASML
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EUV光刻機(jī)開始“落幕”了

說(shuō)到光刻機(jī)大家難免會(huì)想到三個(gè)廠商，荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機(jī)就是制造芯片的核心裝備?，F(xiàn)如今光刻機(jī)領(lǐng)域的核心地位就是荷蘭的ASML，他與臺(tái)積電合作，共同突破了沉浸式DUV光刻機(jī)，也正因?yàn)榇藙?dòng)作，才奠定了ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域的核心地位。后續(xù)ASML又推出了更加高端的EUV光刻機(jī)，而且還是獨(dú)家壟斷生產(chǎn)。這就進(jìn)一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著科技的不斷發(fā)展，市場(chǎng)就要越來(lái)越追求高性能以及高要求，ASLM造成的長(zhǎng)時(shí)間壟斷，導(dǎo)致其他同行沒(méi)有辦法發(fā)展。在他自身無(wú)法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
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三星擬新設(shè)至少10臺(tái)EUV光刻機(jī)：展露要當(dāng)世界第一的野心

最新消息顯示，盡管全球經(jīng)濟(jì)將放緩，但三星仍計(jì)劃擴(kuò)大DRAM與晶圓代工的晶圓產(chǎn)能，明年在其P3晶圓廠新設(shè)至少10臺(tái)極紫外光刻設(shè)備（EUV），用于生產(chǎn)最新的12nm級(jí)內(nèi)存芯片，而三星目前僅有40臺(tái)EUV光刻機(jī)。
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三星首次采用韓國(guó)本土EUV光刻膠打破日企壟斷

據(jù)報(bào)道，三星首次引入韓國(guó)本土公司東進(jìn)世美肯（Dongjin Semichem）研發(fā)的EUV光刻膠（EUV PR）進(jìn)入其量產(chǎn)線，這也是三星進(jìn)行光刻膠本土量產(chǎn)的首次嘗試。在2019年經(jīng)歷與日本的光刻膠等關(guān)鍵原料的供應(yīng)風(fēng)波之后，三星就在嘗試將關(guān)鍵原料的供應(yīng)本土化，經(jīng)過(guò)三年的努力，韓國(guó)實(shí)現(xiàn)了光刻膠本地化生產(chǎn)。在日本限制出口、三星嘗試重構(gòu)EUV光刻膠的供應(yīng)鏈之后，東進(jìn)世美肯就已開始研發(fā)EUV光刻膠，并在去年通過(guò)了三星的可靠性測(cè)試，隨后不到一年就被應(yīng)用于三星的大規(guī)模生產(chǎn)線。不過(guò)，EUV光刻膠可用于3-50道程序，目前
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有多貴？ASML新EUV光刻機(jī)單臺(tái)硬件造價(jià)2500億：可買三臺(tái)頂級(jí)航母

都知道光刻機(jī)單臺(tái)成本非常的貴，但是你知道有多貴嗎？一臺(tái)數(shù)億美元的光刻機(jī)讓我們看到了一款硬件設(shè)備的價(jià)格極限，然而，ASML CEO Peter Wennink最新接受媒體采訪時(shí)透露，他們正在全力研制劃時(shí)代的新光刻機(jī)high-NA EUV設(shè)備，而高NA EUV光刻機(jī)系統(tǒng)的單臺(tái)造價(jià)將在300億到350億歐元之間，約合人民幣2195到2561億元。這個(gè)價(jià)格什么概念，一搜頂級(jí)航母的價(jià)格差不多在100億美元左右，而這臺(tái)硬件設(shè)備可以買三艘頂級(jí)航母，而ASML目前在售的雙工件臺(tái)EUV光刻機(jī)不過(guò)數(shù)億美元，作為下一代產(chǎn)品身價(jià)
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