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英特爾:ASML首批兩臺High-NA EUV設(shè)備已投產(chǎn)

作者: 時間:2025-02-26 來源:全球半導(dǎo)體觀察 收藏

據(jù)路透社報道,半導(dǎo)體大廠近日表示,半導(dǎo)體設(shè)備大廠阿斯麥()的首批兩臺尖端高數(shù)值孔徑(High NA)光刻機已在其工廠正式投入生產(chǎn),且早期數(shù)據(jù)顯示,這些設(shè)備的性能比之前的機型更可靠。

本文引用地址:http://m.ptau.cn/article/202502/467365.htm

報道稱,資深首席工程師Steve Carson在加利福尼亞州圣何塞舉行的一次會議上指出,已經(jīng)利用高數(shù)值孔徑光刻機在一個季度內(nèi)生產(chǎn)了3萬片晶圓,這些晶圓是足以生產(chǎn)數(shù)千個計算芯片的大型硅片。

2024年,英特爾成為全球第一家接收這些先進設(shè)備的芯片制造商,與之前的設(shè)備相比,這些機器可望制造出更小、更快的計算芯片。Carson表示,在初步測試中,ASML的新型高數(shù)值孔徑機器的可靠性大約是上一代機器的兩倍?!拔覀円苑€(wěn)定的速度生產(chǎn)晶圓,這對平臺來說是一個巨大的好處,”卡森說。

ASML新設(shè)備可以使用光束在芯片上印制電路圖案,同時能以更少的曝光次數(shù)完成與早期設(shè)備相同工作量,從而省時間和成本。Carson指出,英特爾工廠早期結(jié)果顯示,High NA 機器只需一次曝光和“個位數(shù)”處理步驟,即可完成早期機器需三次曝光和約40個步驟的工作。

英特爾還表示,正在使用其18A制造技術(shù)來測試High NA設(shè)備,該技術(shù)計劃于今年晚些時候與新一代PC芯片一起進行量產(chǎn);此外,英特爾也計劃利用其下一代制造技術(shù)14A全面投入高數(shù)值孔徑機器的生產(chǎn),但尚未透露該技術(shù)的量產(chǎn)日期。




關(guān)鍵詞: 英特爾 ASML High-NA EUV

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