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4nm→2nm,三星或升級(jí)美國(guó)德州泰勒晶圓廠制程節(jié)點(diǎn)

作者: 時(shí)間:2024-06-20 來(lái)源:全球半導(dǎo)體觀察 收藏

根據(jù)韓國(guó)媒體Etnews的報(bào)導(dǎo),晶圓代工大廠正在考慮將其設(shè)在美國(guó)德州泰勒市的制程技術(shù),從原計(jì)劃的4納米改為2納米,以加強(qiáng)與臺(tái)積電美國(guó)廠和英特爾的競(jìng)爭(zhēng)。消息人士稱,電子最快將于第三季做出最終決定。

本文引用地址:http://m.ptau.cn/article/202406/460070.htm

報(bào)導(dǎo)指出,的美國(guó)德州泰勒市投資于2021年,2022年開(kāi)始興建,計(jì)劃于2024年底開(kāi)始分階段運(yùn)營(yíng)。以三星電子DS部門(mén)前負(fù)責(zé)人Lee Bong-hyun之前的說(shuō)法表示,到2024年底,我們將開(kāi)始從這里出貨4納米節(jié)點(diǎn)制程的產(chǎn)品。

不過(guò),相較于三星泰勒市,英特爾計(jì)劃2024年在亞利桑那州和俄亥俄州工廠量產(chǎn)Intel 20A和18A節(jié)點(diǎn)制程。

此外,臺(tái)積電也正在美國(guó)建設(shè)三座晶圓廠,計(jì)劃2025年上半年投產(chǎn)4納米節(jié)點(diǎn)制程,2028年投產(chǎn)2納米及3納米節(jié)點(diǎn)制程,2030年投產(chǎn)2納米及其以下的先進(jìn)節(jié)點(diǎn)制程。因此,相較來(lái)說(shuō),三星的進(jìn)度稍有所落后競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。

而根據(jù)在4月份舉行的第一季業(yè)績(jī)發(fā)表會(huì)上,三星電子表示,我們正準(zhǔn)備根據(jù)客戶訂單分階段啟動(dòng)美國(guó)泰勒市晶圓廠的運(yùn)營(yíng)工作,預(yù)計(jì)將于2026年開(kāi)始進(jìn)一步的首次量產(chǎn)。而受惠于泰勒市晶圓廠,三星電子能夠從美國(guó)政府獲得64億美元的補(bǔ)貼,這使得三星預(yù)計(jì)到2030年總投資預(yù)計(jì)將超過(guò)400億美元。因此,對(duì)于泰勒市晶圓廠的制程轉(zhuǎn)變,未來(lái)是否會(huì)影響市場(chǎng)占有率,市場(chǎng)還需拭目以待。



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