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ASML預測，未來九個月對中國的銷量將大幅回升
- ASML 財務總監(jiān) Roger Daasen 表示，今年未來幾個季度中國大陸的銷量將顯著回升。
- 關鍵字： ASML 光刻機 EUV 極紫外光刻機
EUV機臺被砍單？ 業(yè)界：不太可能
- 終端市場需求低迷，近期市場傳出臺積電將宣布調(diào)降今年資本支出，恐沖擊艾司摩爾（ASML）及應用材料等設備廠出貨，甚至傳出艾司摩爾極紫外光（EUV）機臺被砍單消息，不過業(yè)界普遍認為可能性不高，原因在于EUV機臺交期長達12～15個月，且中長期來看EUV產(chǎn)能仍供不應求。 ASML預計19日舉行法人說明會，可望針對EUV曝光機已接訂單（backlog）變化提出說明。半導體生產(chǎn)鏈仍在進行庫存調(diào)整，市場傳出臺積電可能在法人說明會中下修全年資本支出，加上內(nèi)存廠放慢擴產(chǎn)計劃，將導致EUV曝光機訂單減少或延后，受此消息影響
- 關鍵字： EUV 機臺 ASML
國產(chǎn)光刻機的「行軍難」
- 3 月 8 日，ASML 發(fā)表聲明回應荷蘭政府即將出臺的半導體設備出口管制措施。ASML 稱，這些新的出口管制措施側重于先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統(tǒng)，ASML 將需要申請出口許可證才能發(fā)運最先進的浸潤式 DUV 系統(tǒng)。ASML 強調(diào)，這些管制措施需要一定時間才能付諸立法并生效。3 月 9 日，外交部例行記者會上，有媒體提問，據(jù)報道，荷蘭外貿(mào)與發(fā)展合作大臣施賴納馬赫爾向荷議會致函稱，出于國家安全考慮，荷蘭將于今年夏天之前對其芯片出口實施限制性措施。中方對此有何評論？外交部發(fā)言人毛
- 關鍵字： 光刻機 EUV DUV
ASML堵了EUV光刻機的路，但國產(chǎn)光刻機有3大新方向
- 眾所周知，當前全球只有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機，甚至可以說很長一段時間內(nèi)，全球也只有ASML能夠生產(chǎn)光刻機，不會有第二家。原因在于ASML把EUV光刻機的路堵住了，這條路別人是走不通的。ASML與全球眾多的供應鏈，形成了捆綁關系，像蔡司等與ASML形成了利益共同體，EUV光刻機中，蔡司等廠商至關重要，掌握核心科技，缺少這些供應鏈，其它廠商不可能制造出EUV光刻機。所以，目前眾多的其它光刻機企業(yè)，并不打算走EUV光刻機這條路，在另尋它路。同樣的，國產(chǎn)光刻機基本上也走不通EUV這條路，只能另尋他路，而
- 關鍵字： ASML EUV 光刻機
美國發(fā)起的對華聯(lián)合出口限制留下漏洞？
- 據(jù)報道，荷蘭和日本已與美國達成協(xié)議，共同限制向中國出口芯片制造工具，這將進一步削弱中國半導體行業(yè)的發(fā)展，因為除了限制中國制造商使用 EUV 光刻機外，進一步限制其使用浸沒式 DUV 光刻機。但在美國對中國發(fā)起的嚴格出口限制中，中國半導體企業(yè)是否可以利用任何關鍵漏洞來緩沖沖擊？這似乎是一個值得仔細研究的問題。近年來，美國加大了對中國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的打壓力度。不僅設計了各種策略和行動，還動員了盟友的參與。在 2022 年 10 月對向中國出口先進芯片制造工具和技術實施全面出口限制后，美國急于讓擁有 ASML
- 關鍵字： EUV DUV 深紫外光刻機
EUV光刻機開始“落幕”了
- 說到光刻機大家難免會想到三個廠商，荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機就是制造芯片的核心裝備?，F(xiàn)如今光刻機領域的核心地位就是荷蘭的ASML，他與臺積電合作，共同突破了沉浸式DUV光刻機，也正因為此動作，才奠定了ASML在光刻機領域的核心地位。后續(xù)ASML又推出了更加高端的EUV光刻機，而且還是獨家壟斷生產(chǎn)。這就進一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著科技的不斷發(fā)展，市場就要越來越追求高性能以及高要求，ASLM造成的長時間壟斷，導致其他同行沒有辦法發(fā)展。在他自身無法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
- 關鍵字： 光刻機 ASML DUV EUV
三星首次采用韓國本土EUV光刻膠 打破日企壟斷
- 據(jù)報道，三星首次引入韓國本土公司東進世美肯（Dongjin Semichem）研發(fā)的EUV光刻膠（EUV PR）進入其量產(chǎn)線，這也是三星進行光刻膠本土量產(chǎn)的首次嘗試。在2019年經(jīng)歷與日本的光刻膠等關鍵原料的供應風波之后，三星就在嘗試將關鍵原料的供應本土化，經(jīng)過三年的努力，韓國實現(xiàn)了光刻膠本地化生產(chǎn)。在日本限制出口、三星嘗試重構EUV光刻膠的供應鏈之后，東進世美肯就已開始研發(fā)EUV光刻膠，并在去年通過了三星的可靠性測試，隨后不到一年就被應用于三星的大規(guī)模生產(chǎn)線。不過，EUV光刻膠可用于3-50道程序，目前
- 關鍵字： 三星 韓國 EUV 光刻膠
事關EUV光刻技術，中國廠商公布新專利
- 近日，據(jù)國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)消息，華為技術有限公司于11月15日公布了一項于光刻技術相關的專利，專利申請?zhí)枮?02110524685X。集成電路制造中，光刻覆蓋了微納圖形的轉(zhuǎn)移、加工和形成環(huán)節(jié)，決定著集成電路晶圓上電路的特征尺寸和芯片內(nèi)晶體管的數(shù)量，是集成電路制造的關鍵技術之一。隨著半導體工藝向7nm及以下節(jié)點的推進，極紫外(extreme ultraviolet，EUV)光刻成為首選的光刻技術。相關技術的EUV光刻機中采用強相干光源在進行光刻時，相干光經(jīng)照明系統(tǒng)分割成的多個子光束具有固定的相位關系，當
- 關鍵字： EUV 光刻 華為
芯片巨頭美光：成功繞過了EUV光刻技術
- 本周美光宣布，采用全球最先進1β(1-beta)制造工藝的DRAM內(nèi)存芯片已經(jīng)送樣給部分手機制造商、芯片平臺合作伙伴進行驗證，并做好了量產(chǎn)準備?！ ?β工藝可將能效提高約15％，存儲密度提升35％以上，單顆裸片(Die)容量高達16Gb(2GB)。 一個值得關注的點是，美光稱，1β繞過了EUV（極紫外光刻）工具，而依然采用的是DUV（深紫外光刻）?！ ∵@意味著相較于三星、SK海力士，美光需要更復雜的設計方案。畢竟，DRAM的先進性很大程度上取決于每平方毫米晶圓面積上集成更多更快半導體的能力，各公司目
- 關鍵字： 美光 DRAM 內(nèi)存芯片 光刻機 EUV
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