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日本Rapidus計(jì)劃2024年底引入EUV光刻機(jī)

作者: 時(shí)間:2023-12-07 來源:SEMI 收藏

據(jù)日媒報(bào)道,芯片公司表示,正在北海道建設(shè)芯片工廠,目標(biāo)是2027年量產(chǎn)制程芯片。

本文引用地址:http://m.ptau.cn/article/202312/453628.htm

該公司宣布,決定在2024年年底引入,并將派遣員工赴荷蘭阿斯麥學(xué)習(xí)EUV極紫外光刻技術(shù)。目標(biāo)是今年派遣100名員工至IBM、阿斯麥學(xué)習(xí)先進(jìn)芯片技術(shù)。



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