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Tegal出售納米沉積技術(shù)

—— Tegal公司以大約360萬美元售出
作者: 時間:2012-01-05 來源:semi 收藏

  芯片設(shè)備制造商日前表示,該公司已經(jīng)以大約360萬美元售出超過30項的沉積(Nanolayer deposition, NLD)專利。

本文引用地址:http://m.ptau.cn/article/127806.htm

  并未透露專利購買者的細節(jié)。該公司曾在去年9月時宣布將尋求出售專利。2010年3月,該公司也曾出售其原有的薄膜蝕刻和物理氣相沉積產(chǎn)品線給OEM Group Inc.;另外,去年稍早該公司也將深層反應(yīng)離子蝕刻設(shè)備出售給SPTS。

  表示,該公司仍希望能以剩下的NLD技術(shù)售價能高于400萬美元。目前該公司仍就其專利組合中的Lot 4部份進行討論,這部份主要是針對銅阻擋層和low-k電介質(zhì)技術(shù)。

  “IC設(shè)備制造商對Lot 4比較有興趣,而設(shè)備制造商則大多對Lot 1~3有興趣,”Tegal技術(shù)長Robert Ditizio在一份聲明中表示。



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