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英特爾Xe2獨顯將采用臺積電4nm工藝

發(fā)布人:芯智訊 時間:2024-07-31 來源:工程師 發(fā)布文章

7月8日消息,據(jù)wccftech援引DigiTimes的報告報道稱,英特爾將在其Arc Battlemage“Xe2-HPG”獨立GPU上采用臺積電的4nm工藝節(jié)點,雖然依然是32個核心,但升級為了第二代核心,相對于上一代采用臺積電6mm的Arc Alchemist來說,將帶來明顯的提升。

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據(jù)介紹,英特爾用于 Arc Battlemage 獨立 GPU 的 Xe2 架構(gòu)將比現(xiàn)有的 Arc Alchemist Xe1 GPU 進(jìn)行了許多改進(jìn),以及各種新功能的添加。雖然該系列不僅是英特爾最高端的獨立 GPU 產(chǎn)品,但確實帶來了很大的提升。

以下是 Battlemage “Xe2” 獨立 GPU 的一些傳聞功能:Alchemist比性能提升高達(dá)50%;采用新一代內(nèi)存子系統(tǒng)和壓縮技術(shù);改進(jìn)的光線跟蹤體驗;微體系結(jié)構(gòu)改進(jìn);采用下一代基于ML的渲染技術(shù);最新DeepLink功能;出色的游戲性能。

并且,隨著臺積電4nm工藝的使用,英特爾Arc Battlemage“Xe2”獨立GPU陣容的性能確實會被證明是顛覆性的。根據(jù)臺積電的數(shù)據(jù),其4nm節(jié)點的性能比5nm提高了11%。因此,帶來的性能提升將遠(yuǎn)高于6nm。

目前,有傳聞顯示,英特爾將會在2024年推出兩款基于Arc Battlemage的GPU,代號為BMG-21和BMG-31。

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同樣,英特爾的第二代Arc集成GPU也將會升級為新的基于臺積電4nm的Arc Battlemage Xe2-LPG架構(gòu),將會被英特爾Lunar Lake/Arrow Lake的第二代酷睿Ultra 200系列處理器首發(fā)搭載。

編輯:芯智訊-浪客劍


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