在臺積電奮力沖刺5nm量產(chǎn)之時，三星緣何突然松了油門？

• 明年將是5nm制程的大年，在臺積電的5nm良率爬升再破記錄，并且擴產(chǎn)也進入了實質(zhì)性階段之時，三星卻將他們的EUV光刻機資源幾乎都分給了存儲芯片的制造，讓人不禁疑惑，三星這是打算減緩5nm規(guī)模量產(chǎn)的步伐了？高歌猛進的臺積電臺積電在前陣舉辦的第26屆線上技術研討會上，除了7nm的增產(chǎn)計劃，以及3nm的投產(chǎn)計劃外，特別提到了他們5nm 缺陷密度提升數(shù)據(jù)，其提升趨勢已經(jīng)超過了7nm時的同期水準。缺陷密度：D0=缺陷密度（Defect Density）指的是：晶圓表面每平方厘米（cm2）上的缺陷個數(shù)。這是芯片制造中
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