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ASML再次改口!國家迅速回應,外媒:荷蘭將光刻機事情鬧大了
- 近年來,光刻機行業(yè)發(fā)展迅猛,成為半導體產(chǎn)業(yè)的重要一環(huán)。ASML公司作為全球光刻機行業(yè)的龍頭企業(yè),其對華出口光刻機的態(tài)度一直備受關(guān)注。然而,最近ASML公司的態(tài)度再次發(fā)生變化,引發(fā)了國家的迅速回應。荷蘭的決定被外媒認為將光刻機事情鬧大了。本文將分別從ASML公司態(tài)度的變化、荷蘭及日本的對華出口管控、ASML公司的技術(shù)依賴和市場地位、我國光刻機技術(shù)的突破、ASML公司對華出口限制的影響以及中企自主掌握核心技術(shù)等方面進行分析。ASML公司對華出口光刻機態(tài)度的變化ASML公司在對華出口光刻機的態(tài)度上一直搖擺不定。
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Intel 4技術(shù)在愛爾蘭大批量生產(chǎn),點燃歐洲半導體制造能力
- DIGITAL-得益于ASML的芯片機,英特爾在愛爾蘭的尖端技術(shù)生產(chǎn)點燃了歐洲革命。在英特爾位于愛爾蘭的最新制造工廠Fab 34的潔凈室里。?英特爾公司?英特爾在技術(shù)領域掀起了波瀾,在愛爾蘭推出了英特爾4技術(shù)的大批量生產(chǎn),引發(fā)了一場歐洲革命。這標志著極紫外光刻機(EUV)首次用于歐洲大規(guī)模生產(chǎn)。此舉鞏固了英特爾對快節(jié)奏生產(chǎn)戰(zhàn)略的承諾,并提升了歐洲的半導體制造能力。?這家科技巨頭在愛爾蘭、德國和波蘭的投資正在推動整個歐洲大陸的尖端價值鏈。英特爾對可持續(xù)發(fā)展的執(zhí)著也體現(xiàn)在其愛爾蘭氣候行動計
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ASML發(fā)布2023年第二季度財報 | 凈銷售額69億歐元,凈利潤為19億歐元

- 荷蘭菲爾德霍芬,2023年7月19日—阿斯麥(ASML)今日發(fā)布了2023年第二季度財報。2023年第二季度,ASML實現(xiàn)了凈銷售額69億歐元,毛利率為51.3%,凈利潤達19億歐元。今年第二季度的新增訂單金額為45億歐元2,其中16億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2023年第三季度的凈銷售額在65億至70億歐元之間,毛利率在50%左右。相比2022年,今年ASML的凈銷售額增長率有望達到30%。 (1) 累計裝機管理銷售額等于凈
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限制ASML對華設備和技術(shù)輸出的新規(guī)又來了
- 荷蘭政府又要限制 ASML 賺錢了。
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ASML官網(wǎng)顯示:支持7nm高端DUV光刻機仍可出口

- 荷蘭政府宣布了限制某些先進半導體設備出口的新規(guī)定,這些規(guī)定將于9月1日生效。具體而言,荷蘭政府將要求先進芯片制造設備的公司在出口之前須獲得許可證。ASML在其官網(wǎng)發(fā)表聲明稱,該公司未來出口其先進的浸潤式DUV光刻系統(tǒng)(即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)浸潤式系統(tǒng))時,將需要向荷蘭政府申請出口許可證。而ASML強調(diào),該公司的EUV系統(tǒng)的銷售此前已經(jīng)受到限制。據(jù)ASML官網(wǎng)提供的信息,該公司目前在售的主流浸沒式DUV光刻機產(chǎn)品共有三款,分別是:TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN
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日本與荷蘭簽署半導體合作備忘錄:采購 ASML 光刻機,加強技術(shù)合作

- IT之家 6 月 26 日消息,據(jù)日本經(jīng)濟新聞報道,日本經(jīng)產(chǎn)省與荷蘭經(jīng)濟事務和氣候政策部在東京簽署了半導體合作備忘錄。二者將共同推進欲量產(chǎn) 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機巨頭 ASML 的合作,并聯(lián)手進行技術(shù)開發(fā)。▲ 圖源:ASML報道稱,ASML 量產(chǎn)尖端半導體工藝所需的 EUV 光刻機。Rapidus 計劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補貼,采購 EUV 光刻設備。IT之家注意到,EUV 光刻機在全球范圍內(nèi)較為短缺,面臨著臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出,如果 Ra
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ASML:數(shù)值孔徑0.75超高NA EUV光刻設備2030年登場
- 據(jù)日本媒體報導,光刻機設備龍頭阿斯麥(ASML)執(zhí)行副總裁Christophe Fouquet近日在比利時imec年度盛會ITF World 2023表示,半導體產(chǎn)業(yè)需要2030年開發(fā)數(shù)值孔徑0.75的超高NA EUV光刻技術(shù),滿足半導體發(fā)展。Christophe Fouquet表示,自2010年以來EUV技術(shù)越來越成熟,半導體制程微縮至2020年前后三年,以超過50%幅度前進,不過速度可能會在2030年放緩。故ASML計劃年底前發(fā)表首臺商用High-NA(NA=0.55)EUV微影曝光設備(原型制作),
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三星耗資約1.6萬億建半導體聚落,吸引應用材料/ASML等廠商赴韓投資
- 據(jù)日經(jīng)新聞網(wǎng)報道,半導體巨頭三星電子計劃未來20年投資300兆韓元(約合人民幣1.6萬億元),借由效仿臺積電模式,在韓國首爾附近打造新的半導體制造聚落。報道稱,三星這一舉措成功吸引了全球半導體廠商競相在當?shù)赝顿Y,包括美國應用材料(Applied Materials)、荷蘭阿斯麥(ASML)等半導體大廠的主管正與首爾周邊京畿道政府辦公室,討論投資計劃、基礎建設發(fā)展及稅收優(yōu)惠政策。其中,應用材料公司正在尋求建立一個新的研發(fā)中心,并計劃在今年年底前完成選址,并在幾年內(nèi)開始運營,而龍仁是其首選地點;ASML目前則
- 關(guān)鍵字: 三星 半導體聚落 應用材料 ASML
開始1-γ芯片制程開發(fā)?美光日本廠擬引入ASML光刻機
- 知情人士稱,美國美光科技公司準備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進芯片制造設備EUV(極紫外光刻機),以制造下一代存儲芯片(DRAM)。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元(15億美元)的補貼。日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實了美光在日的進一步投資。他指出,日本政府正與臺積電討論擴大在日投資的可能性,美光也有意在廣島開始大規(guī)模生產(chǎn)先進存儲芯片。今日(周四),日本首相岸田文雄會見了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團,而有關(guān)芯片的詳細計劃可能在之后陸續(xù)宣布。自201
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