ITO表面處理方法
加入技術(shù)交流群
王水/氧等離子體
27.7
4.6
6.0
氧等離子體/王水
>30.0
4.7
1.8
HCL
26.3
4.54
1.3
4 結(jié)束語
通過上面的對(duì)比發(fā)現(xiàn)，使用機(jī)械拋光法能得到最光滑的ITO表面，氧等離子體處理能得到功函數(shù)最高的ITO表面，UV臭氧處理的ITO表面電阻率最低。只有通過結(jié)合使用多種方法才能得到最佳性能的ITO表面。
EEPW首頁 > 模擬技術(shù) > 設(shè)計(jì)應(yīng)用 > ITO表面處理方法
王水/氧等離子體
27.7
4.6
6.0
氧等離子體/王水
>30.0
4.7
1.8
HCL
26.3
4.54
1.3
4 結(jié)束語
通過上面的對(duì)比發(fā)現(xiàn)，使用機(jī)械拋光法能得到最光滑的ITO表面，氧等離子體處理能得到功函數(shù)最高的ITO表面，UV臭氧處理的ITO表面電阻率最低。只有通過結(jié)合使用多種方法才能得到最佳性能的ITO表面。
評(píng)論