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臺(tái)積電計(jì)劃關(guān)閉部分EUV光刻機(jī):先進(jìn)工藝過剩

作者:曲楠 時(shí)間:2022-09-05 來(lái)源:ZOL 收藏

是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備,只有ASML公司才能生產(chǎn),單臺(tái)售價(jià)約10億人民幣,之前三星、等公司還要搶著買,然而今年半導(dǎo)體形勢(shì)已經(jīng)變了,反而因?yàn)楹碾娞啵?a class="contentlabel" href="http://m.ptau.cn/news/listbylabel/label/臺(tái)積電">臺(tái)積電計(jì)劃關(guān)閉省電。

本文引用地址:http://m.ptau.cn/article/202209/437945.htm

來(lái)自產(chǎn)業(yè)鏈的消息人士手機(jī)晶片達(dá)人的消息稱,由于先進(jìn)制程產(chǎn)能利用率開始下滑,而且評(píng)估之后下滑時(shí)間會(huì)持續(xù)一段周期,計(jì)劃從年底開始,將部分EUV 設(shè)備關(guān)機(jī),以節(jié)省EUV設(shè)備巨大的耗電支出。

據(jù)了解臺(tái)積電目前擁有大約80臺(tái),主要用于7nm、5nm及以下的先進(jìn)工藝,今年9月份還會(huì)量產(chǎn)3nm工藝,都需要EUV光刻機(jī),然而隨著PC、手機(jī)、顯卡等產(chǎn)品的需求下滑,先進(jìn)工藝生產(chǎn)的芯片勢(shì)必會(huì)受到影響。

蘋果今年的iPhone 14 Pro系列的A16處理器也沒有急著上3nm工藝,還在用4nm工藝,此外蘋果還因?yàn)?nm能效問題,取消了初代3nm生產(chǎn)芯片的計(jì)劃。

相比之前的DUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)需要使用高能激光器,而且光線會(huì)多次折射導(dǎo)致?lián)p耗極大,早期效率只有0.02%,現(xiàn)在量產(chǎn)的說(shuō)是可以達(dá)到2%效率,但也意味著絕大多數(shù)電力都要消耗掉。

EUV光刻機(jī)生產(chǎn)一天需要3萬(wàn)度電左右,一年耗電大約1000萬(wàn)度,是十足的電老虎。




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