氮化鎵/碳化硅技術(shù)真的能主導(dǎo)我們的生活方式?
全球有40%的能量作為電能被消耗了, 而電能轉(zhuǎn)換最大耗散是半導(dǎo)體功率器件。我國(guó)作為世界能源消費(fèi)大國(guó), 如何在功率電子方面減小能源消耗成了一個(gè)關(guān)鍵的技術(shù)難題。
本文引用地址:http://m.ptau.cn/article/201610/311264.htm早在1893年諾貝爾獎(jiǎng)獲得者法國(guó)化學(xué)家亨利莫桑(Henri Moissan)在非洲發(fā)現(xiàn)了晶瑩剔透的碳化硅(SiC)單晶碎片。由于SiC是硬度僅次于金剛石的超硬材料,SiC單晶和多晶材料作為磨料和刀具材料廣泛應(yīng)用于機(jī)械加工行業(yè)。作為半導(dǎo)體材料應(yīng)用,相對(duì)于Si,SiC具有10倍的電場(chǎng)強(qiáng)度,高3倍的熱導(dǎo)率,寬3倍禁帶寬度,高一倍的飽和遷移速度。
簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),SiC半導(dǎo)體材料在三個(gè)方面被認(rèn)為具有很大的市場(chǎng)潛力: SiC同質(zhì)外延用于高電壓大功率電力電子器件;高阻SiC基體材料用于生長(zhǎng)GaN HEMT射頻器件;在SiC基體材料上生長(zhǎng)GaN LED高亮度LED外延。
從80年代開(kāi)始以美國(guó)CREE公司為代表的國(guó)際企業(yè)就開(kāi)始專(zhuān)注于半導(dǎo)體應(yīng)用的SiC材料商用化的開(kāi)發(fā)。2000年起英飛凌首先開(kāi)發(fā)出600V SiC肖特基二極管(SBD)與其COOLMOS配套使用與通訊電源的PFC應(yīng)用拉開(kāi)了SiC電力電子器件市場(chǎng)化的幕布。隨后CREE,ST,羅姆等企業(yè)也紛紛推出了SBD的全系列產(chǎn)品。從2014年開(kāi)始CREE,羅姆,GE開(kāi)始在市場(chǎng)上推廣MOSFET器件。
氮化鎵(GaN)因?yàn)槿狈线m的單晶襯底材料,基本上是在藍(lán)寶石,SiC或者Si的基板材料上采用MOCVD或者M(jìn)BE等外延技術(shù)生長(zhǎng)出基本的器件結(jié)構(gòu),由于是異質(zhì)外延,因此材料缺陷比較多,位錯(cuò)密度比較大,在上世紀(jì)90年代以前發(fā)展緩慢。進(jìn)入90年代以后,日本在LED應(yīng)用技術(shù)上取得了巨大的進(jìn)展,特別是在中國(guó)大陸在過(guò)去10多年LED市場(chǎng)的高速發(fā)展,帶動(dòng)了GaN材料產(chǎn)業(yè)的產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程。
由于CREE在電力電子用碳化硅材料和器件的壟斷地位迫使很多功率企業(yè)采取GaN技術(shù)路線(xiàn)作為下一代功率半導(dǎo)體器件的發(fā)展方向。為了降低成本,基本上采用Si襯底上生長(zhǎng)GaN外延并采用成熟的CMOS兼容工藝制備器件。近年來(lái)GaN的單晶基體材料也有了突破進(jìn)展,已經(jīng)能夠生長(zhǎng)出2英寸外延。美國(guó)曾經(jīng)有一家企業(yè)AVOGY曾經(jīng)試圖采用GaN同質(zhì)外延生產(chǎn)PIN功率二極管和其他開(kāi)關(guān)管,但是由于材料成本昂貴,并不成功。目前GaN單晶材料主要還是用于光電器件,比如激光器和太赫茲等領(lǐng)域。
SiC和GaN電力電子器件由于本身的材料特性,各自都有各自的優(yōu)點(diǎn)和不成熟處,因此在應(yīng)用方面有區(qū)別 。一般的業(yè)界共識(shí)是:SiC適合高于1200V的高電壓大功率應(yīng)用;GaN器件更適合于40-1200V的高頻應(yīng)用。在600V和1200V器件應(yīng)用領(lǐng)域,SiC和GaN形成競(jìng)爭(zhēng)。
如果說(shuō)在電力電子器件方面,SiC和GaN存在著競(jìng)爭(zhēng),那么在射頻器件和射頻IC方面,SiC和GaN是完美的一對(duì)兒,基本材料結(jié)構(gòu)是在高阻(高純度)的SiC基體上生長(zhǎng)GaN外延。圖一這張表比較了SiC, GaN和Si作為半導(dǎo)體材料應(yīng)用的特征參數(shù)。

▲圖一、SiC, GaN和Si作為半導(dǎo)體材料應(yīng)用的特征參數(shù)的比較
最近接連有消息報(bào)道,在美國(guó)和歐洲,氮化鎵和碳化硅技術(shù)除了在軍用雷達(dá)領(lǐng)域和航天工程領(lǐng)域得到了應(yīng)用,在電力電子器件市場(chǎng)也有越來(lái)越廣泛的滲透。氮化鎵/碳化硅技術(shù)與傳統(tǒng)的硅技術(shù)相比,有哪些獨(dú)特優(yōu)勢(shì)?
大家最近都在談?wù)撃柖墒裁磿r(shí)候終結(jié)?硅作為半導(dǎo)體的主要材料在摩爾定律的規(guī)律下已經(jīng)走過(guò)了50多年,尋找新的半導(dǎo)體材料替代硅已經(jīng)成了近些年半導(dǎo)體發(fā)展的方向之一。
在整個(gè)功率器件的發(fā)展過(guò)程中,第一個(gè)可控硅在1970年問(wèn)世。隨著時(shí)間和技術(shù)的推移,功率密度要求逐漸提升,后面經(jīng)歷了晶體管向MOSFET的演變,到上世紀(jì)90年代末出現(xiàn)了IGBT。半導(dǎo)體技術(shù)的不斷進(jìn)步,不僅提高了產(chǎn)品性能,同時(shí)通過(guò)縮小芯片面積降低了成本。然而到2000年的時(shí)候業(yè)界就提出硅基產(chǎn)品已經(jīng)快達(dá)到物理極限,進(jìn)一步提高產(chǎn)品性能,工藝的復(fù)雜性帶來(lái)的成本升高不能抵扣芯片面積的縮小,從而芯片成本提高。
未來(lái)如何突破Si材料的極限?人們把目光瞄向了以氮化鎵和碳化硅為代表的寬禁帶半導(dǎo)體材料,這種新材料可以滿(mǎn)足提高開(kāi)關(guān)頻率和增加功率密度的要求。
下圖比較了SiC,GaN和Si材料FOM的極限。

▲圖二、SiC,GaN和Si材料FOM的極限
從具體材料來(lái)看,SIC器件的結(jié)構(gòu)與傳統(tǒng)的Si器件結(jié)構(gòu)非常類(lèi)似??梢哉f(shuō)SiC器件就是利用其材料臨界電場(chǎng)高,高載流子遷移率的特點(diǎn),采用非常薄的外延就可以承受更高耐壓,比如600V器件,可以用9um外延即可,而Si器件需要50um左右外延,這就大大降低了導(dǎo)通壓降或?qū)娮琛?/p>
GaN器件有所不同。目前業(yè)界通常是采用MOCVD生長(zhǎng)AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)外延,由于材料的壓電和自身極化效應(yīng),在異質(zhì)結(jié)界面產(chǎn)生高密度二維電子氣,形成開(kāi)關(guān)管的溝道。因此器件是個(gè)平面器件,除了在器件FOM比Si器件更具有優(yōu)勢(shì)之外,還很容易與其他器件集成制備IC器件。比如最近Navitas和Dialog都實(shí)現(xiàn)了驅(qū)動(dòng)IC和GaN開(kāi)關(guān)管單芯片集成,大幅降低了用戶(hù)使用的技術(shù)門(mén)檻。
除了軍方市場(chǎng),我們可能更感興趣氮化鎵/碳化硅技術(shù)能給我們帶來(lái)哪些新興市場(chǎng)機(jī)會(huì),比如工業(yè)制造4.0、新能源汽車(chē)、智慧家庭、移動(dòng)通訊以及健康醫(yī)療等,有哪些市場(chǎng)熱點(diǎn)和切入點(diǎn)?
從技術(shù)上來(lái)看,碳化硅和氮化鎵器件突破了Si基器件的物理極限,為新型的電源拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)提供了更大的拓展空間。但從能量效率的提高上來(lái)看,SiC和GaN器件相對(duì)于Si器件并不能夠提高更多。但是采用使氮化鎵/碳化硅技術(shù)后,可以把工作頻率從100KHZ提高到兆赫茲,可以大幅縮小電源尺寸,提高功率密度。這符合了電子產(chǎn)品短小輕薄的發(fā)展趨勢(shì)。比如,超薄電視,顯示方案完全可以把電視做的更薄,但是受到電源尺寸的限制,如果采用SiC或者GaN器件,就可以大幅減小電源尺寸打破這種制約。
另外一個(gè)值得關(guān)注的領(lǐng)域是無(wú)線(xiàn)充的應(yīng)用。消費(fèi)類(lèi)電子市場(chǎng)的滲透,可以擴(kuò)大GaN和SiC器件的出貨量,從而進(jìn)一步降低器件的價(jià)格,形成了市場(chǎng)和技術(shù)的良性循環(huán)。而且消費(fèi)類(lèi)電子的可靠性要求相對(duì)沒(méi)有工業(yè)級(jí)和汽車(chē)級(jí)電子高,器件產(chǎn)品可以更快的進(jìn)入市場(chǎng),創(chuàng)業(yè)型的設(shè)計(jì)公司可以在短時(shí)間內(nèi)形成銷(xiāo)售,滿(mǎn)足投資人的期待。所以消費(fèi)類(lèi)電子的電源方案是SiC和GaN器件的非常合適的切入點(diǎn)。
在工業(yè)級(jí)電子上,采用第三代半導(dǎo)體器件實(shí)現(xiàn)電源的高頻應(yīng)用,可以簡(jiǎn)化電源方案,提高能量轉(zhuǎn)化效率,值得關(guān)注的應(yīng)用包括通訊電源,光伏逆變器和新能源汽車(chē)充電樁和無(wú)線(xiàn)充電方案。工業(yè)級(jí)器件可靠性評(píng)估時(shí)間長(zhǎng),更適合一些上市公司和國(guó)企作為一個(gè)中期的目標(biāo)產(chǎn)品。
評(píng)論