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納米尺度芯片Art DFM仿真平臺

- 基于65/45/40/28納米銅互連和28納米高k金屬柵CMP工藝及DFM設計規(guī)則,課題組開發(fā)了一套兼顧平坦化和寄生效應、完整兼容業(yè)界主流EDA工具的DFM仿真平臺,該平臺具有超大規(guī)模版圖快速處理,ECP/CVD/PVD/CMP工藝模擬、熱點輸出與反標等功能。通過對版圖進行CMP分析和檢查,找出存在熱點的區(qū)域進行冗余金屬填充,并根據(jù)設計需求進行修正,形成CMP模擬與參數(shù)提取相結合的DFM優(yōu)化流程。DFM平臺解決了復雜超大版圖快速并行處理的技術難題,可以滿足65/45/40/28納米全芯片規(guī)模版圖處理的要求
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納米尺度芯片平坦性工藝仿真工具

- 研究65/45/40/28納米銅互連ECP/CMP及32/28納米HKMG CMP工藝,提出了耦合設計版圖與CMP機理的新型高效CMP建模技術,開發(fā)了多節(jié)點銅互連平坦性疊層仿真工具和28納米高k金屬柵DFM解決方案,可動態(tài)模擬ECP/CMP、ILD0 CVD/CMP和Al PVD/CMP工藝演進過程,快速實現(xiàn)平坦性工藝偏差的提取和校正。該仿真工具通過了CMOS實測硅片數(shù)據(jù)驗證,仿真精度和速度達到國際同類工具先進水平,可應用于全芯片平坦性工藝的檢測分析和設計優(yōu)化。CMP工藝仿真
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中科院:物聯(lián)網新型體系結構

- 基于新型非易失存儲的高能效終端架構技術:為解決資源受限物聯(lián)網終端的“存儲墻”問題,利用MRAM、PCM等新型存儲器,構建異構非揮發(fā)存儲架構。通過研究軟、硬件協(xié)同的異構存儲架構管理技術,達到降低內存功耗、減小I/O延時的目的。此項工作得到國家重點研發(fā)計劃、北京市科技計劃、中科院先導專項的支持。AI計算加速技術:GPU、ASIC、FPGA等AI加速器是實現(xiàn)高能效AI計算的重要手段,然而受限于移動計算環(huán)境對芯片面積、功耗等的要求,AI加速芯片片上緩存容量有限,當計算深度模型時需要頻繁訪問片外存儲,因此“內存墻”
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中科院:EDA軟件與先進算力平臺服務技術

- 研發(fā)基于Web的EDA工具授權管理技術、安全可靠的網絡架構及VPN解決方案,構建EDA軟件管理系統(tǒng),實現(xiàn)license的分時復用策略,解決昂貴EDA工具靈活授權問題。該系統(tǒng)支持EDA工具授權的全信息化管理模式,可實現(xiàn)License授權管理及分析服務,幫助用戶優(yōu)化EDA軟件采購方案,降低用戶軟件成本。研究EDA資源的平臺化技術與智能EDA計算技術,構建集成電路高性能EDA平臺,實現(xiàn)SaaS化的EDA應用創(chuàng)新服務模式,平臺提供從EDA工具授權、IP庫選擇、項目管理到高性能計算支撐等完整的云端芯片設計解決方案,
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中科院微電子研究所EDA中心研究方向匯總

- 納米芯片可制造性設計(DFM)技術:已形成Art-DFMx工具套件,支持65nm-28nm-14nm-7nm的版圖可制造性設計分析,用于面向良率提升和性能提升的版圖優(yōu)化,先進工藝CMP工藝后芯片形貌預測;提出了多物理機理耦合建模、基于LDE的有效平坦化長度特征提取、多粒度算法并行技術。部分成果被行業(yè)龍頭企業(yè)應用。獲國家科技重大專項支持。極低功耗設計:研發(fā)了多款性能指標優(yōu)于公開文獻報道的亞閾值極低功耗IP以及用于底層低功耗電路優(yōu)化的電路結構-器件尺寸-版圖優(yōu)化工具;研發(fā)亞閾值電路特征化、統(tǒng)計延時建模、統(tǒng)計時
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中科院微電子所EDA中心參加國家重點研發(fā)計劃“高性能計算”重點專項2020年度匯報評估交流會
- 2020年12月15日至16日,國家重點研發(fā)計劃“高性能計算”重點專項2018年度匯報評估交流會在北京召開,本次交流會由科技部高技術中心發(fā)起,2017年立項項目“面向高性能計算環(huán)境的集成電路設計自動化業(yè)務平臺”的6名項目成員參加了會議?! ?,項目負責人陳嵐研究員重點匯報了項目的考核指標完成情況、關鍵技術和創(chuàng)新點、組織宣傳成果以及后續(xù)的工作計劃。項目立項至今,構建了面向EDA行業(yè)的高性能計算平臺,能夠提供從EDA工具授權、IP庫選擇、項目管理到計算資源智能調度等完整的云端芯片設計解決方案,全方位助力設
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中國 EDA 產業(yè)回顧:自研“熊貓系統(tǒng)”曇花一現(xiàn),后錯失 15 年,最終走上崛起之路

- EDA 工具素有“芯片之母”的美譽,是芯片制造最上游的產業(yè),是銜接集成電路設計、制造和封測的關鍵紐帶,對行業(yè)生產效率、產品技術水平都有重要影響。近年來,國產 EDA 產業(yè)受到國家高度重視,且涌現(xiàn)出了大量的 EDA 公司。而事實上,早在上世紀 80 年代,中國 EDA 產業(yè)也曾有過短暫的輝煌,但可惜,有如曇花一現(xiàn),輝煌很快就沉寂下去,并長達 15 年之久,這段歷史有著怎樣的“隱情”?國產 EDA 產業(yè)的轉折點又是從何時到來?本期我們讓我們一起走進 EDA 的發(fā)展史。中國 EDA 產業(yè)失去的 15 年(199
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Mini LED正逢其時:它有何過人之處

- 2021年4月21日凌晨,蘋果春季新品發(fā)布會上Mini LED成為最大亮點,推出的新款12.9英寸iPad Pro搭載了Mini LED背光顯示技術。對于蘋果而言,Mini LED背光技術的導入補齊了全平臺HDR的最后一塊拼圖。對于LED行業(yè)而言,意義更為重大。這塊Liquid Retina XDR顯示屏采用了超1萬顆Mini LED,共有2596個局域調光分區(qū),可實現(xiàn)100萬:1的超高對比度,峰值亮度達1600nits,比舊款高出了1000nits,同時支持P3廣色域、原彩顯示和ProMotion自適應
- 關鍵字: Mini LED
說出來你可能不信 MiniLed可能撐不起液晶未來
- 在電視的發(fā)展歷程中,液晶顯示產品在當年憑借畫質、超薄等技術優(yōu)勢擊敗CRT、等離子等顯示技術,持續(xù)霸占電視市場近數(shù)十年之久。不過,其實自打液晶問世至現(xiàn)在,在畫質領域一直飽受詬病。究其原因,簡單說就是液晶顯示技術的小毛病太多,顯示效果從一開始就不如等離子,甚至連CRT都比它強。從2015年開始,OLED與量子點等顯示技術強勢進場,憑借畫質上對液晶技術的碾壓。不少人認為,LCD發(fā)展數(shù)十年后的今天,已經不能滿足人眼對于極致畫質的需求,技術變革勢在必行。所以,大廠們都在尋求能夠替代LCD液晶的完美顯示技術。最近兩年
- 關鍵字: Mini-LED LED
京東方首款34英寸玻璃基Mini LED電競顯示器重磅來襲!

- 3月31日消息 京東方首款34英寸玻璃基Mini LED電競顯示器橫空出世!此款顯示器運用新一代玻璃基Mini LED背光技術,由BOE MLED和AOC聯(lián)合打造,震撼來襲!本款顯示器采用全球首創(chuàng)AM玻璃基技術,是游戲娛樂必備利器。AM主動驅動, 消除畫面撕裂,真正實現(xiàn)健康護眼無屏閃;玻璃基化繁為簡,整板設計,拒絕拼縫和拼板色差,其熱膨脹系數(shù)低,耐熱沖擊力強,高溫無翹曲,壽命長;另外,玻璃基平整度高,易于固晶,芯片脫落風險小,品質過硬。臻享畫質 完美體驗玻璃基背光具備平整度高,光學均一性強等天然
- 關鍵字: Mini-LED LED 京東方 BOE
聞泰科技:已開發(fā)出 Mini / Micro LED 直顯和背光產品,并提供給多個車企測試
- 3 月 16 日消息,據(jù)中國證券報報道,聞泰科技已成立新型顯示技術事業(yè)部,成功開發(fā)出 Mini / Micro LED 直顯和背光產品。目前首批樣品已提供給多個汽車客戶測試,反饋情況好。IT之家了解到,聞泰科技上月在接受機構調研時表示,公司業(yè)務主要分為三大板塊,包括半導體業(yè)務、產品集成業(yè)務和光學業(yè)務。聞泰科技表示,2022 年,產品集成業(yè)務中不僅是手機業(yè)務改善,筆電、服務器、IoT(如 TWS 耳機、智能手表)、汽車電子業(yè)務都將有明顯貢獻。此外,3 月 15 日,珠海得爾塔光電智能制造產業(yè)園項目(一期)主
- 關鍵字: Mini-LED LED 聞泰科技
uv-c led介紹
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