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美國(guó)發(fā)起的對(duì)華聯(lián)合出口限制留下漏洞？

據(jù)報(bào)道，荷蘭和日本已與美國(guó)達(dá)成協(xié)議，共同限制向中國(guó)出口芯片制造工具，這將進(jìn)一步削弱中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展，因?yàn)槌讼拗浦袊?guó)制造商使用 EUV 光刻機(jī)外，進(jìn)一步限制其使用浸沒(méi)式 DUV 光刻機(jī)。但在美國(guó)對(duì)中國(guó)發(fā)起的嚴(yán)格出口限制中，中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)是否可以利用任何關(guān)鍵漏洞來(lái)緩沖沖擊？這似乎是一個(gè)值得仔細(xì)研究的問(wèn)題。近年來(lái)，美國(guó)加大了對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的打壓力度。不僅設(shè)計(jì)了各種策略和行動(dòng)，還動(dòng)員了盟友的參與。在 2022 年 10 月對(duì)向中國(guó)出口先進(jìn)芯片制造工具和技術(shù)實(shí)施全面出口限制后，美國(guó)急于讓擁有 ASML
關(guān)鍵字： EUV DUV 深紫外光刻機(jī)

說(shuō)到光刻機(jī)大家難免會(huì)想到三個(gè)廠商，荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機(jī)就是制造芯片的核心裝備?，F(xiàn)如今光刻機(jī)領(lǐng)域的核心地位就是荷蘭的ASML，他與臺(tái)積電合作，共同突破了沉浸式DUV光刻機(jī)，也正因?yàn)榇藙?dòng)作，才奠定了ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域的核心地位。后續(xù)ASML又推出了更加高端的EUV光刻機(jī)，而且還是獨(dú)家壟斷生產(chǎn)。這就進(jìn)一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著科技的不斷發(fā)展，市場(chǎng)就要越來(lái)越追求高性能以及高要求，ASLM造成的長(zhǎng)時(shí)間壟斷，導(dǎo)致其他同行沒(méi)有辦法發(fā)展。在他自身無(wú)法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
關(guān)鍵字：光刻機(jī) ASML DUV EUV

　　近日，中芯國(guó)際與ASML達(dá)成12億美元交易購(gòu)買(mǎi)晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對(duì)雙方此次合作，有媒體報(bào)道稱(chēng)“除了EUV光刻機(jī)，中芯國(guó)際幾乎可以買(mǎi)到其他所有型號(hào)的光刻機(jī)?！钡沁@一說(shuō)法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)?！　】赡芎芏嗑W(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈，這繞來(lái)繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個(gè)小科普，EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢？EUV也就是“極深紫外線(xiàn)”的意思，而DUV是“深紫外線(xiàn)”的意思，通過(guò)字面就知道EUV看上去就比DUV高級(jí)，實(shí)際上也是如此?！　SML澄清與中
關(guān)鍵字：中芯國(guó)際 ASML DUV EUV

　　半導(dǎo)體光刻光源的主要供應(yīng)商Gigaphoton株式會(huì)社(母公司：栃木縣小山市，董事長(zhǎng)：浦中克己)宣布，為提高設(shè)備的工作效率，公司將制定新的產(chǎn)品規(guī)劃圖，以應(yīng)對(duì)需求量不斷高漲的半導(dǎo)體廠家的要求。　　Gigaphoton此次制定的產(chǎn)品規(guī)劃圖“RAM Enhancement”加強(qiáng)了DUV光源受激準(zhǔn)分子激光器的可靠性(Reliability)、可用性(Availability)以及可維護(hù)性(Maintainability)。公司已經(jīng)開(kāi)始行動(dòng)，將在2020年前打破被業(yè)界定位為極限的&l
關(guān)鍵字： Gigaphoton DUV

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