蝕刻 文章 進(jìn)入蝕刻技術(shù)社區(qū)
SSEC晶圓蝕刻制程平臺專用多路徑回收排放管路
- 先進(jìn)封裝與半導(dǎo)體元件、高亮度發(fā)光二極體與硬碟制造之單晶圓濕制程系統(tǒng)大廠美國固態(tài)半導(dǎo)體設(shè)備(Solid State Equipment LLC，DBA SSEC) 發(fā)表專為 WaferEtch 平臺設(shè)計的多路徑回收排放管路(MultiPath Collection Drain)。專屬的排放管路設(shè)計能在相同的反應(yīng)室內(nèi)收集、再循環(huán)、并隔絕多種化學(xué)品，且?guī)缀醪粫斐苫瘜W(xué)品的交叉污染，而且能夠形成獨(dú)特的化學(xué)品排放路徑，并維持SSEC出色的化學(xué)品儲存值。此外，即時冷卻功能可對現(xiàn)今微細(xì)特征蝕刻應(yīng)用提供更佳的制程控制
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IBM宣布旗下芯片廠將停用PFOS/PFOA兩種有毒化合物
- IBM公司近日宣布其名下的芯片制造廠中將停止使用全氟辛烷磺?；衔?PFOS)和全氟辛酸(PFOA)兩種有毒有害化合物。多年前，在歐盟以及其它 一些國家的環(huán)保部門出臺限制使用這兩種化合物的法規(guī)之后，美國環(huán)保署也出臺了限制在消費(fèi)級產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中使用這兩種化合物的法規(guī)，這兩種化合物一般用于 防污和防潮處理。 不過在半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中，仍允許使用這兩種化合物，半導(dǎo)體制造的光刻和蝕刻工步需要少量使用這兩種化合物。經(jīng)過10多年的努力，IBM終于找到了這兩種有毒化合物的替代用品。 IBM公司主管微電
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澳大利亞研制納米電子束曝光系統(tǒng)
- 據(jù)澳大利亞莫納什大學(xué)網(wǎng)站報道,澳大利亞研究人員正在研制世界最強(qiáng)大的納米設(shè)備之一——電子束曝光系統(tǒng)(EBL).該系統(tǒng)可標(biāo)記納米級的物體,還可在比人發(fā)直徑小1萬倍的粒子上進(jìn)行書寫或者蝕刻. 電子束曝光技術(shù)可直接刻畫精細(xì)的圖案,是實驗室制作微小納米電子元件的最佳選擇.這款耗資數(shù)百萬美元的曝光系統(tǒng)將在澳大利亞亮相,并有能力以很高的速度和 定位精度制出超高分辨率的納米圖形.該系統(tǒng)將被放置在即將完工的墨爾本納米制造中心(MCN)內(nèi),并將于明年3月正式揭幕. MCN的臨時負(fù)責(zé)人阿
- 關(guān)鍵字： 納米 EBL 蝕刻.
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