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先進(jìn)工藝
先進(jìn)工藝 文章 進(jìn)入先進(jìn)工藝技術(shù)社區(qū)
中科院在先進(jìn)工藝仿真方向取得重要進(jìn)展
- 據(jù)中國(guó)科學(xué)院微電子研究所官網(wǎng)消息,近日,微電子研究所EDA中心陳睿研究員與先導(dǎo)中心李俊杰高級(jí)工程師、南方科技大學(xué)王中銳教授、維也納工業(yè)大學(xué)Lado Filipovic教授合作,針對(duì)GAA內(nèi)側(cè)墻結(jié)構(gòu)Si/SiGe疊層橫向選擇性刻蝕工藝面臨的形貌缺陷和均勻性問(wèn)題,通過(guò)提出全新的Ge原子解吸附和擴(kuò)散的模擬算法,建立了基于蒙特卡洛方法的連續(xù)兩步干法刻蝕工藝輪廓仿真模型,實(shí)現(xiàn)了針對(duì)Si/SiGe六疊層結(jié)構(gòu)的橫向選擇性刻蝕工藝輪廓仿真,并完成了相應(yīng)結(jié)構(gòu)的流片實(shí)驗(yàn)。通過(guò)結(jié)合形貌仿真和透射電子顯微鏡(TEM)表征,探究了
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新紫光集團(tuán)報(bào)到,存儲(chǔ)+先進(jìn)工藝
- 7月11日,紫光集團(tuán)宣布正式更名為“新紫光集團(tuán)”,并發(fā)布了四大創(chuàng)新技術(shù)方向,分別為多元異構(gòu)高效融合的新型智算集群系統(tǒng)解決方案、高端車規(guī)級(jí)芯片、6G與低軌道衛(wèi)星通信芯片、面向后摩爾時(shí)代的半導(dǎo)體技術(shù)新賽道。據(jù)悉,新紫光集團(tuán)此前主要聚焦集成電路和數(shù)字科技等領(lǐng)域,涉及芯片設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、封裝、測(cè)試、設(shè)備等半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈,以及ICT設(shè)備、云服務(wù)和數(shù)字化解決方案等領(lǐng)域,并將產(chǎn)業(yè)版圖精細(xì)地劃分為移動(dòng)通訊、存儲(chǔ)、汽車電子與智能芯片、材料與器件、信息通信基礎(chǔ)設(shè)施、信創(chuàng)與云服務(wù)、高可靠芯片、金融及其他板塊。隨著新品牌的發(fā)布,新紫光
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又開(kāi)始搞事情?美國(guó)欲對(duì)成熟制程芯片進(jìn)行調(diào)查
- 最近幾年,我國(guó)在國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中的地位不斷上升,尤其是在成熟工藝芯片領(lǐng)域。根據(jù)數(shù)據(jù),中國(guó)的成熟工藝芯片產(chǎn)能已占全球份額的29%,在中國(guó)國(guó)崛起的同時(shí),大洋彼岸的美國(guó)人坐不住了,今年年初,面對(duì)中國(guó)在28nm及成熟芯片的重要力量地位,美國(guó)眾議院的兩黨領(lǐng)導(dǎo)人呼吁采取更強(qiáng)有力的行動(dòng),提出加征關(guān)稅等措施,以遏制中國(guó)在該領(lǐng)域的主導(dǎo)地位。不光是進(jìn)口,在出口方面,美國(guó)也一直在做手腳,在美國(guó)實(shí)施的芯片禁令中,大部分都是針對(duì)高端制程,從ASML的EUV光刻機(jī)到英偉達(dá)的A100芯片,清一色屬于高端產(chǎn)品。而14nm,28nm等成熟
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先進(jìn)工藝介紹
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