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臺(tái)積電40nm制程良率再遇麻煩,一度降至40%

作者: 時(shí)間:2009-11-02 來(lái)源:fudzilla 收藏

  最近似乎又遇到了麻煩,據(jù)公司的主席張忠謀稱,10月初開(kāi)始該公司制程的良率降至40%左右,公司計(jì)劃于年底前解決 這次良率下降的問(wèn)題。由于這次良率下降事件發(fā)生的時(shí)間段與AMD HD5800/5700系列以及Nvidia Fermi架構(gòu)顯卡上市熱賣(mài)的時(shí)間段重合,因此預(yù)計(jì)市場(chǎng)上的有關(guān)顯卡產(chǎn)品的供貨可能會(huì)受到一定的影響。

本文引用地址:http://m.ptau.cn/article/99432.htm

  近幾個(gè)月以來(lái)有關(guān)的負(fù)面新聞一直不絕于耳,在7月份的2009股東會(huì)議上,臺(tái)積電主席張忠謀曾透露稱其40nm制程的良率相比二季度已經(jīng)有較大的提升,他還透露今年二季度,臺(tái)積電的40nm只有20-30%左右。

  在最近舉行的10月份股東會(huì)議上,臺(tái)積電CFO Lora Ho表示:“由于市場(chǎng)對(duì)40nm/65nm制程技術(shù)的強(qiáng)勁需求,臺(tái)積電2009年的資本性支出進(jìn)一步增加到27億美元左右。”今年第四季度,臺(tái)積電在制造設(shè)備方面的投資額將達(dá)到13.4億美元左右,比上一季度的9.71億美元和二季度的2.24億美元均有增長(zhǎng)。



關(guān)鍵詞: 臺(tái)積電 40nm 制程良率

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