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我國研發(fā)出“零損傷”兆聲波半導(dǎo)體清洗設(shè)備

作者: 時(shí)間:2009-03-24 來源:科技日報(bào) 收藏

  設(shè)備(上海)有限公司3月17日在上海舉行的中國國際展上展出一臺(tái)12英寸單片清洗設(shè)備。這是國內(nèi)首臺(tái)具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的“零損傷”清洗設(shè)備。

本文引用地址:http://m.ptau.cn/article/92775.htm

  作為一種新興技術(shù),近年來清洗技術(shù)在半導(dǎo)體清洗設(shè)備中的應(yīng)用越來越廣泛。半導(dǎo)體首席執(zhí)行官王暉博士說,兆聲波能量之所以可以去除顆粒是因?yàn)檎茁暡〞?huì)產(chǎn)生氣穴。這些氣穴能在極表面產(chǎn)生高速流體,從而推動(dòng)微顆粒離開硅片表面。這一過程的關(guān)鍵點(diǎn)在于如何控制兆聲波在硅片表面上的能量。首創(chuàng)的SAPS兆聲波技術(shù)可以精確控制兆聲波的能量,讓氣穴來回放大收縮而不會(huì)內(nèi)爆。SAPS以非常均勻的能量分布以確保有效地去除微顆粒而不會(huì)造成硅片微結(jié)構(gòu)的破壞。



關(guān)鍵詞: 盛美 半導(dǎo)體 兆聲波

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