據(jù)三菱UFJ摩根士丹利證券數(shù)據(jù)顯示，目前在全球光刻機市場中，掌握了62%市場份額的ASML排行第一，佳能以占比31%取得第二名，而尼康占比僅7%排在了第三位。不過據(jù)日經(jīng)新聞報道，尼康為了重振業(yè)績將轉(zhuǎn)變半導體光刻機業(yè)務的戰(zhàn)略，決定逆勢積極開拓中國市場，向中國出口不受出口管制限制的成熟設備。

在美國對華實施出口管制的背景下，EUV等先進光刻機、材料被禁止對華出口。尼康精機業(yè)務負責人濱谷正人表示，正與日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省討論，認為新款光刻機沒有問題，將在中國市場積極銷售。

目前尼康除了相機影像業(yè)務外，半導體設備相關(guān)的精機業(yè)務同樣是支柱，但與相機銷售強勁形成對比的是精機業(yè)務表現(xiàn)低迷。尼康公司預計2023財年（截至2024年3月）合并利潤將同比減少22%，降至350億日元。

日本的尼康、佳能曾在1990年之前主導全球光刻機市場，但后來在更先進的極紫外（EUV）光刻機方面輸給了荷蘭的ASML。極紫外光刻機在2010年后半期實用化，全世界只有ASML能夠生產(chǎn)；而尼康的光刻機產(chǎn)品分散在各種光源上，并沒有強勢領域。

為了打開局面，尼康將時隔24年于2024年推出采用成熟技術(shù)的光刻機新產(chǎn)品，著眼于適合制造需要耐久性的功率半導體等的特點，選擇使用i-Line光源技術(shù) —— 最早在90年代初實用化，是老一代光源技術(shù)。有分析認為，尼康將在新產(chǎn)品使用通用的電子零部件等，價格能夠比佳能便宜2-3成左右。

另外值得注意的是，佳能近期宣布推出“納米壓印設備”，有望替代EUV光刻機，制造5nm及以下制程芯片。