采用創(chuàng)新思維，Cadence新工具讓45nm IC量產(chǎn)提速！

• 　　45nm節(jié)點(diǎn)被稱為IC設(shè)計(jì)的分水嶺，因?yàn)樵谶@一節(jié)點(diǎn)，不僅半導(dǎo)體材料特性、光刻技術(shù)已經(jīng)接近極限，而且EDA工具也要面臨更高層次抽象、創(chuàng)新平臺(tái)、DFM、多電源域等諸多新挑戰(zhàn)，針對(duì)這一節(jié)點(diǎn)上的EDA工具開發(fā)需要更多創(chuàng)新的思維和策略。因?yàn)樘魬?zhàn)很多，所以業(yè)界人士對(duì)45nm的芯片設(shè)計(jì)和制造未來憂心忡忡。不過，欣喜的是，在9月11日硅谷的CDNLive!用戶會(huì)議上，Cadence向領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)計(jì)者和經(jīng)理們展示了自己的45nm設(shè)計(jì)流程。其對(duì)應(yīng)的產(chǎn)品Cadence Encounter數(shù)字設(shè)計(jì)平臺(tái)因采用了創(chuàng)新的思維和策
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