等離子體強化化學氣相沉積系統(tǒng) 文章 進入等離子體強化化學氣相沉積系統(tǒng)技術社區(qū)
應用材料公司推出等離子體強化化學氣相沉積系統(tǒng)
- 近日，應用材料公司宣布推出Applied Producer® Celera™ PECVD(等離子體強化化學氣相沉積) 系統(tǒng)，它能實現(xiàn)在45納米及更小技術節(jié)點的器件上生產(chǎn)速度更快的晶體管所需要達到的應力水平，是應力工程技術(Strained engineering technology) 的一個巨大進步。該系統(tǒng)結合應用材料的Nanocure™ UV（紫外線）處理技術以及改進型氮化物沉積反應腔，把薄膜張力提高了超過30%，達到了業(yè)界領先的1.7GPa等級，并可擴展至超過2.
- 關鍵字： 等離子體強化化學氣相沉積系統(tǒng) 工業(yè)控制 應用材料公司 等離子顯示 PDP 工業(yè)控制
| 共1條 1/1 1 |
等離子體強化化學氣相沉積系統(tǒng)介紹
您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條等離子體強化化學氣相沉積系統(tǒng)!
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對等離子體強化化學氣相沉積系統(tǒng)的理解，并與今后在此搜索等離子體強化化學氣相沉積系統(tǒng)的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對等離子體強化化學氣相沉積系統(tǒng)的理解，并與今后在此搜索等離子體強化化學氣相沉積系統(tǒng)的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
關于我們 -
廣告服務 -
企業(yè)會員服務 -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473