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進軍2nm工藝 中科院研發(fā)世界首個自對準柵極的疊層垂直納米環(huán)柵晶體管

  • 目前全球最先進的半導體工藝已經進入7nm,下一步還要進入5nm、3nm節(jié)點,制造難度越來越大,其中晶體管結構的限制至關重要,未來的工藝需要新型晶體管。來自中科院的消息稱,中國科學家研發(fā)了一種新型垂直納米環(huán)柵晶體管,它被視為2nm及以下工藝的主要技術候選,意義重大。從Intel首發(fā)22nm FinFET工藝之后,全球主要的半導體廠商在22/16/14nm節(jié)點開始啟用FinFET鰭式晶體管,一直用到現在的7nm,未來5nm、4nm等節(jié)點也會使用FinFET晶體管,但3nm及之后的節(jié)點就要變了,三星在去年率先宣
  • 關鍵字: CPU處理器  工藝2nm  
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工藝2nm介紹

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