2019年中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)現(xiàn)狀、行業(yè)格局及發(fā)展趨勢(shì)分析

•   光刻技術(shù)指利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理,將電路圖轉(zhuǎn)移到晶圓表面的工藝技術(shù),光刻機(jī)是光刻工序中的一種投影曝光系統(tǒng)。其包括光源、光學(xué)鏡片、對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)等。在制造過(guò)程中,通過(guò)投射光束,穿過(guò)掩膜板和光學(xué)鏡片照射涂敷在基底上的光敏性光刻膠,經(jīng)過(guò)顯影后可以將電路圖最終轉(zhuǎn)移到硅晶圓上。光刻工藝步驟繁多數(shù)據(jù)來(lái)源:公開(kāi)資料整理一、市場(chǎng)現(xiàn)狀及行業(yè)格局    光刻機(jī)分為無(wú)掩模光刻機(jī)和有掩模光刻機(jī)。(1)無(wú)掩模光刻機(jī)可分為電子束直寫(xiě)光刻機(jī)、離子束直寫(xiě)光刻機(jī)、激光直寫(xiě)光刻機(jī)。電子束直寫(xiě)光刻機(jī)可以用于高分辨率
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