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在光刻機(jī)新技術(shù)的研發(fā)上, 我們似乎又掉隊了

  • 目前全球僅4家廠商,能夠制造光刻機(jī),分別是荷蘭的ASML,日本的尼康、佳能,和上海的微電子。從技術(shù)水平來看,ASML>尼康>佳能>上海微電子。如下圖所示,ASML的光刻機(jī)能夠達(dá)到3nm的精度了,而尼康的主要在28nm及以上,而佳能、上海微電子的在90nm以上。再給大家一個數(shù)字,這是某機(jī)構(gòu)統(tǒng)計的,2021年全球半導(dǎo)體前道光刻機(jī)的銷售情況,從這張表可以看出來,小米7nm的EUV光刻機(jī),ASML全部包攬。在45-7nm的光刻機(jī)上,僅有尼康、ASML能夠推出,尼康也就是打醬油,僅賣出4臺,另外的
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上海微電子:以面向市場做成產(chǎn)品為目標(biāo)

  •   半導(dǎo)體設(shè)備特別是光刻機(jī)技術(shù)難度很大,它對整個國家的工業(yè)基礎(chǔ)要求非常高,對國家創(chuàng)新能力及技術(shù)水平的提高作用很大,因此國家發(fā)展半導(dǎo)體設(shè)備裝備產(chǎn)業(yè)的決策非常正確。   但是,由于不同的設(shè)備制造難度、自身特點及市場規(guī)律不同,會存在不同的發(fā)展策略和思路,因此做法上不能千篇一律。每個公司的發(fā)展策略不同,我們現(xiàn)在強(qiáng)調(diào)的是,第一不能做假,第二要勇于創(chuàng)新。我們想建一座高樓大廈,隱蔽工程也就是地基要做得很扎實,只有地基深厚,微電子設(shè)備產(chǎn)業(yè)的大廈才能建得更高。   發(fā)展半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè),應(yīng)發(fā)展重點產(chǎn)品,不該面面俱到。盡管
  • 關(guān)鍵字: 上海微電子  IC  半導(dǎo)體  消費電子  
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上海微電子介紹

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