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什么是LED光阻劑

作者: 時(shí)間:2011-10-22 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

光阻,亦稱為,是一個(gè)用在許多工業(yè)制程上的光敏材料。像是光刻技術(shù),可以在材料表面刻上一個(gè)圖案的被覆層。

光阻有兩種,正向光阻(positive photoresist)和負(fù)向光阻(negative photoresist)

正向光阻是光阻的一種,其照到光的部分會溶于光阻顯影液,而沒有照到光的部份不會溶于光阻顯影液。

負(fù)向光阻是光阻的一種,其照到光的部分不會溶于光阻顯影液,而沒有照到光的部份會溶于光阻顯影液。

正型及負(fù)型主要是應(yīng)用在芯片制造的金屬電極蒸鍍Lift-off制程中,由于電極所使用的金屬材料不易經(jīng)由蝕刻的方式制作電路圖形,所以利用拔起(Lift-off)微影制程,得到突起的(Overhang)光阻圖形,使金屬在蒸鍍過程中不會連續(xù)性滿布在光阻劑上,再用去光阻劑的方式將未遭金屬布蓋的光阻部份拔起,完成金屬電極的圖案。

半導(dǎo)體制程常用的正型光阻劑,在光學(xué)曝光方式下,光阻劑上層接受能量較下層光阻高,使得正型光阻劑成像大部份圖形為上窄下寬,無法經(jīng)一次曝光方式即得到Overhang的圖形,而負(fù)型光阻劑的成像恰好與正型光阻劑圖像相反,所以負(fù)型光阻劑是lift-off制程的最佳選擇。



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